JPH11329961A - 電子線描画装置，電子線描画システム、および描画方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】電子線描画装置，電子線描画システム，描画方
法のスループットを向上させる。 【解決手段】描画データ生成手段１３，露光量マップ作
成手段１５、電子線補正手段１４を有する描画データ生
成部１２ａ，１２ｂ，…，１２ｎを複数個備え、条件や
種類の異なる複数個の露光量マップの作成を並行して行
う。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、電子線を試料に照
射して所望のパターンを描画する電子線描画装置，電子
線描画システム、および描画方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】図１０に、従来の電子線描画装置の場合
の描画データ生成部の機能ブロック図を示す。従来の電
子線描画装置においては、電子線描画データ生成手段１
３によって生成された照射単位の描画データ（座標，寸
法，照射量）を所定の電子線補正手段１４によって補正
し、補正された描画データによって指定された電子線を
電子線描画手段１６によって試料上に塗布された感光剤
に照射する。

【０００３】前記電子線補正手段１４による電子線の補
正には色々な種類があるが、ここでは近接効果補正を対
象とする。近接効果とは、試料上に照射された電子線が
表面の感光剤の層を通り抜け、試料内部で後方散乱され
た電子線が再び試料表面の感光剤を通るために、電子線
の照射面積密度の高い部分で過剰露光となる現象であ
る。そのため電子線描画装置においては、特開平3−225
816 号公報には、実際の描画の前に電子線を照射しない
空描画を行って試料上に描画するパターンの露光面積密
度に基づいて露光量マップをメモリに作成し、実際の描
画時には図１０に示した露光量マップ作成手段１５によ
って前記メモリの内容を参照しながら、露光面積密度が
高い所では電子線の照射量が相対的に小さくなり、露光
面積密度が低い所では電子線の照射量が相対的に大きく
なるように補正して描画する技術が開示されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】前記従来技術では、最
適な描画を行うために、描画パターンを分割するメッシ
ュサイズや平滑化する回数などの条件を変更し、その度
に露光量マップを作成し、それに従って空描画動作を行
って、評価している。そのため、１つのパターンの描画
データを最適に描画するために、複数回の露光量マップ
作成と空描画動作が必要となる。さらに、従来の技術で
は、条件が変わる度に露光量マップを作成し直している
ため、作成し直す前の露光量マップを保持できない。そ
のため、再度、最適な描画を行うためには、同じ描画デ
ータをもう一度作らなくてはならない。これらが電子線
描画装置のスループットを低下させている。特にマスク
の電子線描画装置では、１個の描画データに対してマス
ク１枚しか描画できず、１個の描画データを繰り返し使
用することができないのでスループットが低下してしま
うという問題があった。

【０００５】本発明は、このような従来技術の問題点に
鑑みてなされたもので、スループットを向上させること
ができる電子線描画装置，電子線描画システム、および
描画方法を提供することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記目的を解決するた
め、本発明は、試料に描画パターンを形成するための描
画データを生成する描画データ生成手段、前記描画デー
タから電子線の露光量マップを作成する露光量マップ作
成手段、前記試料に照射する電子線の照射量を前記露光
量マップを参照して補正する電子線補正手段からなる複
数個の描画データ生成部と、前記電子線補正手段で補正
された値に基づいて前記電子線を前記試料に照射して描
画を行う電子線描画手段とを備えたものである。

【０００７】描画データ生成部を複数個備え、条件や種
類の異なる複数個の露光量マップを並行して作成可能と
することで、最適な描画条件の評価を迅速に行うことが
でき、前記目的を達成することができる。描画データの
生成条件の例としては、露光量マップ作成のときのメッ
シュサイズ、隣接メッシュ間で行う面積密度の平滑化の
回数などがある。

【０００８】また、複数個の描画データ生成手段からの
出力を比較する出力比較手段を備えた電子線描画装置
は、各描画データ生成部に全く同じ動作をさせてその出
力を比較することによって、制御回路全体の誤動作のチ
ェックを行うことができ、電子線描画装置の信頼性を増
すことができる。

【０００９】さらに電子線描画装置は、第１の描画デー
タの描画中に第２の描画データの露光量マップ作成を並
行して行う機能を有する。さらに電子線描画装置は、描
画対象の露光量マップを前記複数の描画データ生成部で
分割して形成する機能を有する。これらの機能によっ
て、描画対象の露光量マップが１つの描画データ生成部
で生成できる範囲を超える大きな描画パターンに対して
も、露光量マップの作成を複数の描画データ生成部で分
担して行うことができるので、スループットの低下を防
ぐことができる。

【００１０】また、２台の電子線描画装置の間をデータ
伝送手段で接続し、第１の電子線描画装置で生成した描
画データを第２の電子線描画装置に転送することで、第
２の電子線描画装置で第１の電子線描画装置と同じ描画
データの描画が可能となる。また、本発明による電子線
描画装置を、露光装置に用いられるマスク，レチクルな
どへのパターン描画に用いれば、一度作成された描画デ
ータを繰り返し使用して描画するので、スループットを
向上させることができる。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施例を説明する。

【００１２】はじめに、本発明による電子線描画装置の
一例の構成を図１に示す断面図を用いて説明する。図１
において、右側に断面で示した部分は、実際にウエハを
描画する電子線鏡体１００であり、その周囲の四角形は
電子線鏡体１００を制御する機能をブロックで表したも
のである。試料１０８は搬送部１０２から電子線鏡体１
００の内部の試料台１０１へ搬送される。電子線鏡体１
００の最上部にある電子銃１０３から発射された電子線
１０４は、鏡体内のレンズ１０６によって形状が整えら
れ、さらに電磁偏向器と静電偏向器からなる偏向器１０
７によって偏向され、試料台１０１上に配置された試料
１０８の目標位置に照射される。照射される電子線１０
４の幾種類かの断面形状は、アパーチャ１０５を選択す
ることによって試料１０８上に転写することができる。

【００１３】図１の左側の部分は、システム制御の機能
をブロックで表したものであり、システム全体の制御と
外部からのインターフェイスとを分担している。ハード
ディスク１２１に保持された描画すべきパターンの描画
データは計算機１１２に伝送される。枠１１１で囲まれ
たブロック群は、計算機１１２から伝送された描画デー
タを、電子線の偏向データへと連続的，パイプライン的
に、かつ高速に変換する制御系デジタル処理群であっ
て、他の制御部とバス１１９を介して接続されており、
図示した各処理部では以下の処理を行っている。

【００１４】（１）図形データ部１２３ 計算機１１２から伝送される圧縮された描画データを格
納する。

【００１５】（２）図形復元部１２４ 圧縮された描画データを図形データへと復元する。

【００１６】（３）図形分解部１２５ 復元された１つ１つの図形を、電子線で描画可能な形状
であるショットに置き換え、各ショットの位置，形状，
露光量のデータを作成する。

【００１７】（４）合わせ補正部１２６ 電子線照射位置と試料１０８との間の位置ずれや変形を
センサー１０９で監視し、そのずれ，変形に合わせて補
正を行う。

【００１８】（５）近接効果補正部１２７ 近接効果を補正するための処理を行う。予め描画するパ
ターンの単位面積あたりの面積マップである露光量マッ
プ１２９を求めてメモリへ保持し、その値を参照しなが
らショット単位に露光量を補正する処理を行う。

【００１９】（６）追従絶対校正部１２８ 連続描画を可能にするために、測長器１１０と試料台位
置測長部１２０で測定される試料台１０１の位置に基づ
いて、電子線１０４が試料１０８上の目標位置に照射さ
れる様に、電子線偏向位置を計算するとともに、電子線
鏡体１００の偏向歪み量なども補正する。

【００２０】（７）手順制御部１２２ 上記各ユニットの処理がスムーズに動く様、監視、及び
制御を受け持つ。

【００２１】以上の枠１１１内のユニットからのデータ
は、Ｄ／Ａ変換器１１３でＤ／Ａ変換されてビーム制御
部１１４へ移り、レンズ１０６，偏向器１０７の制御を
行う。この他、高圧電源１１５は、電子銃１０３の加速
電圧を発生し、アパーチャ制御部１１６はアパーチャ交
換部１３１を制御してアパーチャ１０５の形状を選択
し、試料台制御部１１７は試料台１０１の移動制御を行
い、搬送系制御部１１８は試料１０８を試料台１０１へ
搬送する搬送部１０２を制御する。それぞれのユニット
間はバス１１９で結ばれ、インターフェイスを介して信
号の受け渡しを行う。計算機１１２によってこれらのユ
ニットの制御を行うこともできる。

【００２２】図２から図７に本発明の第１の実施例を示
す。

【００２３】図２は、図１に示した近接効果補正部１２
７の機能を示すブロック図である。この電子線描画装置
は、描画データ生成部制御手段１１によって制御される
複数の描画データ生成部１２ａ，１２ｂ，…，１２ｎ
と、１つの電子線描画手段１６とを備える。各描画デー
タ生成部１２ａ，１２ｂ，…，１２ｎは、各々描画デー
タ生成手段１３ａ，１３ｂ，…，１３ｎ、電子線補正手
段１４ａ，１４ｂ，…，１４ｎ及び露光量マップ作成手
段１５ａ，１５ｂ，…，１５ｎを備える。描画データ生
成部制御手段１１は、複数の描画データ生成部１２ａ，
１２ｂ,…,１２ｎに、描画データの条件等の指示を出し
たり、描画データ生成部１２ａ，１２ｂ，…，１２ｎか
らデータ電子線描画手段１６に出力するデータの選択指
示等を出す。

【００２４】図３に露光量マップ作成の手順を示すフロ
ーチャートを、図４にパターンの形状の例を示す。図３
のステップＳ４１において、図４に示すようにパターン
５１をメッシュサイズ５２で分割し、ステップＳ４２で
各メッシュ内のパターン面積密度を求める。次に、ステ
ップＳ４３で隣接メッシュ間で面積密度が大きく変化す
る部分での寸法変化を低減するための平滑化を行い、ス
テップＳ４４で露光量マップを作成する。露光量マップ
の作成の際には、描画データ生成手段１３からの電子線
データ（例えば、座標，寸法，照射量）が露光量マップ
作成手段１５に送られる。

【００２５】図５は露光量マップ作成手段１５を更に詳
細に示したブロック図である。露光量マップ作成手段１
５においては、図２に示した描画データ生成手段１３が
生成した描画データから露光量マップを露光量マップメ
モリ６１上に作成するため、座標データからそれに対応
するメモリアドレスを生成する座標−アドレス変換手段
６２と、パターンの寸法を示すデータから面積密度を生
成する面積密度計算手段６３とを持ち、これにより生成
された値を面積密度平滑化手段６４にて平滑化し、平滑
化された値を露光量マップメモリ６１に累積しながら格
納する。また、露光量マップメモリ６１に格納した値を
再度平滑化するときは、露光量マップメモリ６１より値
を読み出し、面積密度平滑化手段６４で平滑化して、露
光量マップメモリ６１に格納する。

【００２６】描画時には、電子線補正手段１４は、描画
データ生成手段１３から入力される描画データのうち照
射量データを、先に生成した露光量マップの対応するア
ドレスの値によって補正する。すなわち、露光量マップ
作成手段１５が作成した露光量マップメモリ６１の値か
ら描画データが該当する値、及びその周辺の数個の値を
読み出し、それらから描画データの周辺の密集度合を算
出して、それに反比例するように照射量を調整する。電
子線描画手段１６は、電子線補正手段１４により補正さ
れた照射量と座標及び電子線の大きさを電子銃に出力し
て補正描画を実施する。

【００２７】次に、図２において、描画データ生成部制
御手段１１は、各描画データ生成部１２ａ，１２ｂ，
…，１２ｎごとに異なる分割メッシュサイズや平滑回数
等の条件の指示を出す。各描画データ生成部１２ａ，１
２ｂ，…，１２ｎでは、各々の描画データ生成手段１３
ａ，１３ｂ，…，１３ｎで生成された描画データを基
に、各露光量マップ作成手段１５ａ，１５ｂ，…，１５
ｎの図５に示した面積密度計算手段６３にてメッシュサ
イズ毎に面積密度を計算し、算出された値を座標−アド
レス変換手段６２から出力されるメモリアドレスに対応
させて露光量マップメモリ６１に格納する。このように
して、条件が異なる複数個の露光量マップを、従来の露
光量マップ作成時間と同じ時間で作成することが可能と
なる。

【００２８】次に、描画データ生成部制御手段１１にて
描画データ生成部１２ａ，１２ｂ，…，１２ｎのうちの
１つを選択し、選択された描画データ生成部１２ｎで描
画データ生成手段１３から描画データが出力されると、
先の露光量マップ生成時と同様に図５に示す露光量マッ
プメモリ６１の対応するアドレスが座標−アドレス変換
手段６２から出力され、それに該当する値とその近傍の
値が読み出される。電子線補正手段１４では、読み出さ
れた値を参照して、露光密度が高い所では照射量を相対
的に小さく、逆に低い所では相対的に大きくなるように
照射量の補正を行う。電子線描画手段１６は、電子線補
正手段１４で補正された描画データを受けて補正描画を
実行する。この作業をすべての描画データ生成部１２
ａ，１２ｂ，…，１２ｎの描画データに対して連続的に
行い、描画結果を評価し、評価の結果、最適とされた描
画データを基に、再度描画作業が可能となる。

【００２９】図６は、露光量マップ作成時間と描画時間
の大きさを示すタイムチャートであり、従来技術の場合
と本発明の第１の実施例の場合とを比較したものであ
る。

【００３０】図６において、異なる３条件の描画データ
の評価を行い、再度、最適な評価結果のデータ（図６の
場合は条件２の描画データとする。）で描画した場合の
時間割合を比較している。従来技術の場合は、条件１で
露光量マップを作成し、その露光量マップに基づいて空
描画を行い、次に条件２で露光量マップを作成して空描
画を行う。その後、条件３で露光量マップを作成して空
描画を行う。そして、各条件での空描画の結果を評価
し、条件２が最適であることが判明すると、再度条件２
で露光量マップを作成して実際の描画を行うことにな
る。

【００３１】一方、本発明の第１の実施例では、条件の
異なる露光量マップが同時に作成される。すなわち、条
件１の露光量マップは描画データ生成部１２ａで、条件
２の露光量マップは描画データ生成部１２ｂで、条件３
の露光量マップは描画データ生成部１２ｃで、それぞれ
並行して作成される。作成された露光量マップは各々の
描画データ生成部内に保持される。電子線描画手段１６
では、各描画データ生成部１２ａ，１２ｂ，１２ｃに保
持されている露光量マップに基づいて、条件１，条件
２，条件３での描画を順次行う。描画結果を評価した結
果、条件２が最適であることが判明すると、描画データ
生成部１２ｂに保持されている露光量マップを用いて直
ちに条件２での描画に移ることができる。このように、
従来技術に比較して描画のスループットを大幅に向上さ
せることができる。

【００３２】図７は図６に示した時間経過の他の例のタ
イムチャートである。この例は、図２に示した複数個の
描画データ生成部１２ａ，１２ｂ，…，１２ｎにおい
て、各々異なるパターンを描画するための描画データを
生成するものである。

【００３３】図２に示した描画データ生成部制御手段１
１は、図７において、５個の描画データ生成部１２ａ，
１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ，１２ｅに、それぞれの描画デ
ータ生成手段１３にて異なる描画データを生成するよう
に指示を出す。５個の描画データ生成部１２ａ，１２
ｂ，１２ｃ，１２ｄ，１２ｅでは、それぞれの描画デー
タ生成手段１３から出力された描画データに基づいて露
光量マップを作成する。その結果、図に示すように、従
来技術では２個のパターンＡ，Ｂの描画に費やされる時
間と同じ時間で、本発明では６個のパターンＡ，Ｂ，
Ｃ，Ｄ，Ｅ，Ｆの描画が可能となる。さらに、パターン
ＡからＦの補正描画の最中に、描画データ生成部１２ｂ
から１２ｅでは、パターンＧからＪの露光量マップが作
成できるので、パターンＦの補正描画の終了の後に続け
てパターンＧの補正描画が可能となる。

【００３４】以上のように、種類が異なる複数個の露光
量マップを従来技術における１つの露光量マップの作成
時間と同じ時間で作成することが可能になる。そして、
次に行う電子線描画を、露光量マップ単位で異なる描画
データで連続して行うことが可能となる。さらに、電子
線描画中に、使用していない描画データ生成部では、新
しい描画データの露光量マップの作成を並行して行うこ
とが可能となり、スループットが大幅に向上する。

【００３５】また、図２に示した電子線描画装置におい
て、１系統の描画データ生成部で生成できる範囲を超え
る露光量マップも容易に生成することができる。すなわ
ち、描画対象の露光量マップが１系統の描画データ生成
部で生成できる範囲を超える場合において、全体の露光
量マップを１系統の描画データ生成部で処理可能な露光
量マップ単位で分割して露光量マップ作成を行う。ま
ず、全体の露光量マップを何分割にするかを描画データ
生成部制御手段１１から指示し、分割した単位の露光量
マップの作成を、各描画データ生成部１２ａ，１２ｂ，
…，１２ｎで行い、次に描画データ生成部１２ａで生成
した露光量マップを参照して電子線描画手段１６で描画
を行い、続けて描画データ生成部１２ｂで生成した露光
量マップを参照して電子線描画手段１６で描画を行うと
いうように、各描画データ生成部１２ｎを描画データ生
成部制御手段１１で制御すると、どの様な大きさの露光
量マップの描画も可能となる。

【００３６】図８は、本発明による第２の実施例を示
し、図２に対応するブロック図である。本実施例は２個
の描画データ生成部１２ａ，１２ｂと出力比較手段８１
とを備えることが特徴である。出力比較手段８１は、描
画データ生成部１２ａの電子線補正手段１４ａの出力と
描画データ生成部１２ｂの電子線補正手段１４ｂの出力
とを比較する。

【００３７】図８において、まず描画データ生成部制御
手段１１より、描画データ生成部１２ａと描画データ生
成部１２ｂの２系統に同一の動作をさせ、出力比較手段
８１で両者からの出力を比較する。電子線補正手段１４
ａの出力と電子線補正手段１４ｂの出力が一致しなかっ
た場合、その情報を描画データ生成部制御部１１に伝送
し、描画データ生成部制御手段１１は、再度、各描画デ
ータ生成部１２ａ，１２ｂに起動を指示し、出力比較手
段８１で両者の出力を比較する。出力の比較の結果一致
すれば正常とし、描画作業を行うことにより、描画不良
を未然に防ぐことができ、装置，システムの信頼性を大
幅に向上させることができる。

【００３８】図９は、本発明の第３の実施例を示し、図
２に対応するブロック図である。本実施例は、図８に示
した構成と同様の構成を有する第１の電子線描画装置９
１と、図８に示した構成に対して電子線描画手段１６ａ
のみを搭載した第２の電子線描画装置９２ａと、同様に
電子線描画手段１６ｎのみを搭載した電子線描画装置９
２ｎとを通信手段９３を介して組み合わせたものであ
る。第１の電子線描画装置９１では、出力比較手段８１
の結果が正常であれば、描画データ生成部１２ａまたは
描画データ生成部１２ｂの出力をデータ格納手段９４が
保持する。

【００３９】電子線描画装置９１では、描画データ生成
部制御手段１１によって描画データ生成部１２ａと描画
データ生成部１２ｂの２系統に同一の動作をさせ、出力
比較手段８１で両者の出力を比較する。出力比較手段８
１の結果が正常であれば、その情報に基づいて描画デー
タ生成部制御手段１１から描画作業の指示を描画データ
生成部１２ａに対して指示を出すとともに、描画データ
生成部１２ｂに対して、データ格納手段９４に出力を伝
送する指示を出す。データ格納手段９４には電子線描画
データ生成部１２ｂの出力が保持される。この保持され
たデータを、通信手段９３を介して第２の電子線描画装
置９２ａないし電子線描画装置９２ｎに転送することに
より、複数個の電子線描画装置で第１の電子線描画装置
と同じ描画が可能となる。

【００４０】以上のように、本発明によれば、最適な描
画データの評価を迅速に行うことができ、スループット
が向上する。また、露光量マップのデータを保持してお
くことが可能であり、再度描画する際に同じデータを作
る作業を省略できるので、さらにスループットを大幅に
向上させることができる。また、装置，システムの信頼
性を向上させることもできる。

【００４１】

【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、ス
ループットを向上させることができる電子線描画装置，
電子線描画システム、および描画方法を得ることができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による電子線描画装置の例を示す断面
図。

【図２】図１に示した近接効果補正部の機能を示すブロ
ック図。

【図３】露光量マップ作成の手順を示すフローチャー
ト。

【図４】パターンの形状の例を示す説明図。

【図５】露光量マップ作成手段を更に詳細に示すブロッ
ク図。

【図６】露光量マップ作成時間と描画時間の大きさを示
すタイムチャート。

【図７】露光量マップ作成時間と描画時間の大きさを示
すタイムチャート。

【図８】図１に示した近接効果補正部の機能を示すブロ
ック図。

【図９】図１に示した近接効果補正部の機能を示すブロ
ック図。

【図１０】従来技術の電子線描画装置の機能を示すブロ
ック図。

【符号の説明】

１１…描画データ生成部制御手段、１２ａ，１２ｂ，
…，１２ｎ…描画データ生成部、１３ａ，１３ｂ，…，
１３ｎ…描画データ生成手段、１４ａ，１４ｂ，…，１
４ｎ…電子線補正手段、１５ａ，１５ｂ，…，１５ｎ…
露光量マップ作成手段、１６，１６ａ，１６ｎ…電子線
描画手段、５１…パターン、５２…メッシュサイズ、６
１…露光量マップメモリ、６２…座標−アドレス変換手
段、６３…面積密度計算手段、６４…面積密度平滑化手
段、８１…出力比較手段、９１…第１の電子線描画装
置、９２ａ…第２の電子線描画装置、９２ｎ…電子線描
画装置、９３…通信手段、９４…データ格納手段、１０
０…電子線鏡体、１０１…試料台、１０２…搬送部、１
０３…電子銃、１０４…電子線、１０５…アパーチャ、
１０６…レンズ、１０７…偏向器、１０８…試料、１０
９…センサー、１１０…測長器、１１１…枠、１１２…
計算機、１１３…Ｄ／Ａ変換器、１１４…ビーム制御
部、１１５…高圧電源、１１６…アパーチャ制御部、１
１７…試料台制御部、１１８…搬送系制御部、１１９…
バス、１２０…試料台位置測長部、１２１…ハードディ
スク、１２２…手順制御部、１２３…図形データ部、１
２４…図形復元部、１２５…図形分解部、１２６…合わ
せ補正部、１２７…近接効果補正部、１２８…追従絶対
校正部、１２９…露光量マップ、１３０…真空制御部、
１３１…アパーチャ交換部。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 川野 源 茨城県ひたちなか市大字市毛882番地 株 式会社日立製作所計測器事業部内

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】試料に描画パターンを形成するための描画
   データを生成する描画データ生成手段、前記描画データ
   から電子線の露光量マップを作成する露光量マップ作成
   手段、前記試料に照射する電子線の照射量を前記露光量
   マップを参照して補正する電子線補正手段からなる複数
   個の描画データ生成部と、前記電子線補正手段で補正さ
   れた値に基づいて前記電子線を前記試料に照射して描画
   を行う電子線描画手段とを備えることを特徴とする電子
   線描画装置。
2. 【請求項２】請求項１記載の電子線描画装置において、
   前記複数個の描画データ生成部は前記描画データの生成
   条件が異なる複数個の描画データを並行して作成するこ
   とを特徴とする電子線描画装置。
3. 【請求項３】請求項１又は２記載の電子線描画装置にお
   いて、前記複数個の描画データ生成部からの出力を比較
   する出力比較手段を備えることを特徴とする電子線描画
   装置。
4. 【請求項４】請求項１，２又は３記載の電子線描画装置
   において、前記複数個の描画データ生成部のうちの第１
   の描画データ生成部からの描画データに基づいた第１の
   パターンの描画中に前記複数個の描画データ生成部のう
   ちの第２の描画データ生成部からの描画データに基づい
   た第２のパターンの露光量マップ作成を並行して行うこ
   とを特徴とする電子線描画装置。
5. 【請求項５】請求項１，２又は３記載の電子線描画装置
   において、前記露光量マップを前記複数個の描画データ
   生成部で分割して形成することを特徴とする電子線描画
   装置。
6. 【請求項６】請求項１から５のいずれかに記載の電子線
   描画装置において、前記試料はウエハ，マスク，レチク
   ルのいずれかであることを特徴とする電子線描画装置。
7. 【請求項７】データ伝送手段で接続された第１の電子線
   描画装置と第２の電子線描画装置とからなり、前記第２
   の電子線描画装置は前記第１の電子線描画装置で生成さ
   れた描画データに基づいて試料に描画を行うことを特徴
   とする電子線描画システム。
8. 【請求項８】請求項７記載の電子線描画システムにおい
   て、前記第１の電子線描画装置は前記描画データを生成
   する描画データ生成部、前記描画データから電子線の露
   光量マップを作成する露光量マップ作成手段、前記試料
   に照射する電子線の照射量を前記露光量マップを参照し
   て補正する電子線補正手段からなる複数個の描画データ
   生成部を有し、前記第２の電子線描画装置は前記第１の
   電子線描画装置の前記電子線補正手段で補正された値に
   基づいて前記電子線を前記試料に照射して描画を行う電
   子線描画手段を有することを特徴とする電子線描画シス
   テム。
9. 【請求項９】試料に描画パターンを形成するための描画
   データを複数個生成し、前記複数個の描画データから電
   子線の露光量マップを作成し、前記試料に照射する電子
   線の照射量を前記露光量マップを参照して補正し、前記
   複数個の描画データのうちの少なくとも１つの描画デー
   タに基づいて補正された値に基づいて電子線を試料に照
   射して描画を行うことを特徴とする描画方法。
10. 【請求項１０】第１の電子線描画装置は描画データを生
    成し、第２の電子線描画装置は前記第１の電子線描画装
    置で生成された前記描画データに基づいて電子線を試料
    に照射して描画を行うことを特徴とする描画方法。