JP2009298771A - 2−アルキル−2−シクロアルケン−1−オンの製造方法 - Google Patents
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Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
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Abstract
【解決手段】下記一般式(1)で表される2−(1−ヒドロキシアルキル)−シクロアルカン−1−オンを原料とし、酸及び白金族金属触媒の共存下で、水素ガス濃度5〜45容量%の雰囲気下で脱水異性化させる工程(A)の後に、水素ガス濃度1容量%以上、かつ工程(A)における水素濃度よりも2容量%以上低い濃度の雰囲気下で脱水異性化させる工程(B)を含む、下記一般式(2)で表される2−アルキル−2−シクロアルケン−1−オンの製造方法である。
(式中、nは1又は2の整数、R1及びR2は、それぞれ水素原子又は炭素数1〜8のアルキル基を示すか、又はR1とR2とに隣接する炭素原子を介してシクロペンタン環又はシクロヘキサン環を形成してもよい。)
【選択図】なし
Description
上記の脱水反応は、一般的に酸の存在下で行われることが知られており、例えば、特許文献1及び2には、シュウ酸やリン酸を用いた脱水反応が記載され、特許文献3には、固体酸を用いた脱水反応が記載されている。
上記の異性化反応は、金属触媒を用いる例が報告されており、例えば、特許文献4には、白金族金属触媒を用いた異性化反応が記載されている。
また、特許文献1、5及び6に開示される、脱水反応及び異性化反応を、酸を用いて一段階で行う方法では、使用できる酸は強酸に限られており、反応槽の腐食性が高いため、製造設備としては腐食しない設備を使用する必要があり、また、反応中間体である2−(アルキリデン)シクロアルカノンや生成物である2−アルキル−2−シクロアルケン−1−オンが重合したり、分解したりするので収率の低下が避けられない。さらに、反応終了後のアルカリ処理、水洗処理等により、大量の廃液が副生するという問題がある。
工程(A):水素ガス濃度5〜45容量%の雰囲気下で脱水異性化させる工程
工程(B):水素ガス濃度1容量%以上、かつ工程(A)における水素濃度よりも2容量%以上低い濃度の雰囲気下で脱水異性化させる工程
工程(A):水素ガス濃度5〜45容量%の雰囲気下で脱水異性化させる工程
工程(B):水素ガス濃度1容量%以上、かつ工程(A)における水素濃度よりも2容量%以上低い濃度の雰囲気下で脱水異性化させる工程
本発明の化合物(2)の製造方法においては、原料として化合物(1)が用いられる。
前記一般式(1)及び(2)において、R1及びR2は、それぞれ独立に水素原子又は炭素数1〜8のアルキル基を示すか、又はR1とR2とに隣接する炭素原子を介してシクロペンタン環又はシクロヘキサン環を形成してもよい。R1及びR2は、水素原子又は直鎖又は分岐鎖のアルキル基であることが好ましく、水素原子又は直鎖のアルキル基であることがより好ましい。
R1及びR2であるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、直鎖又は分岐鎖の各種プロピル基、各種ブチル基、各種ペンチル基、各種ヘキシル基、各種ヘプチル基、各種オクチル基が挙げられる。
ここで、「R1とR2とに隣接する炭素原子を介してシクロペンタン環又はシクロヘキサン環を形成」するとは、R1が炭素原子を介してR2と結合して、又は、R2が炭素原子を介してR1と結合して、5員環又は6員環を形成」することを意味する。なお、炭素原子に結合した水素原子は、例えば炭素数1〜5のアルキル基、アルケニル基等の炭化水素基で置換していてもよい。
化合物(1)は、公知の方法により製造することができる。例えば、炭素数5又は6のシクロアルカノンと、下記一般式(3)で表されるアルデヒド又はケトンを反応させることにより得ることができる。
本発明では、このような方法で得られる化合物(1)を精製せずに用いることもできるが、触媒の活性が低下する場合は蒸留等により精製して使用してもよい。
本発明において化合物(2)は、酸及び白金族金属触媒の共存下で、濃度を経時的に変化させた水素ガス雰囲気下に化合物(1)を脱水異性化反応させることにより製造される。より具体的には、化合物(2)は、酸及び白金族金属触媒の共存下で、工程(A)水素ガス濃度5〜45容量%の雰囲気下で脱水異性化させる工程を行った後、工程(B)水素ガス濃度1容量%以上、かつ工程(A)における水素濃度よりも2容量%以上低い濃度の雰囲気下で脱水異性化させる工程を行うことにより製造される。
本発明に用いられる酸としては、無機酸、有機酸、及び固体酸等を用いることができる。
(無機酸及び有機酸)
無機酸及び有機酸としては、一般的な酸を用いることができる。具体的には、塩酸、硫酸、リン酸、オルトリン酸、メタリン酸、ピロリン酸、トリポリリン酸等の縮合リン酸等の無機酸、酢酸、シュウ酸、クエン酸、マレイン酸、フマル酸、リンゴ酸等の有機酸が挙げられる。なかでも、沸点の点から、リン酸、ピロリン酸、トリポリリン酸等の縮合リン酸、シュウ酸、クエン酸、マレイン酸、フマル酸、及びリンゴ酸等の有機酸がより好ましく、リン酸、シュウ酸が特に好ましい。これらの酸は1種単独で、又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
固体酸としては、公知の固体酸を用いることができる。具体的には、活性アルミナ、硫酸ジルコニア、金属リン酸塩、トリポリリン酸二水素アルミニウム、酸化チタン等の無機金属固体や、カチオン交換樹脂、シリカ−チタニア複合酸化物、シリカ−酸化カルシウム複合酸化物、シリカ−マグネシア複合酸化物、ゼオライト等が挙げられる。
固体酸は、アンモニア昇温脱離(TPD;Temperature Programmed Desorption)法において、100〜250℃の温度範囲でアンモニア(NH3)の脱離を起こす酸点の量(mmol/g)が、250℃より高い温度でNH3の脱離を起こす酸点の量(mmol/g)より多いものがより好ましい。100〜250℃の範囲でNH3の脱離を起こす酸点の量は、0.3mmol/g以上であり、かつ250℃より高い温度でNH3の脱離を起こす酸点の量は、0.3mmol/g未満であることがより好ましい。
TPD(アンモニア昇温脱離)の測定法としては、一般的に行われる測定法を用いることができる。例えば、以下のような条件で前処理、NH3吸着処理、真空処理を順に行った後、TPD測定を行う。
前処理:ヘリウムガス中200℃まで20分で昇温、1時間保持
NH3吸着処理:50℃、2.7kPaで10分間NH3を吸着
真空処理:50℃、4時間処理
TPD測定:ヘリウムガスを50ml/minで流通、昇温速度5℃/minで600℃まで昇温
・構造(A):無機リン酸が有するOH基の少なくとも一つから水素原子が除かれた構造
・構造(B):下記一般式(4)又は(5)で表される有機リン酸が有するOH基の少なくとも一つから水素原子が除かれた構造
・金属原子(C):アルミニウム、ガリウム及び鉄から選ばれる1種以上の金属原子
また構造(B)において、一般式(4)又は(5)で表される有機リン酸としては、ホスホン酸、ホスホン酸モノエステル、ホスフィン酸、リン酸モノエステル、リン酸ジエステル、亜リン酸モノエステル、亜リン酸ジエステル等が挙げられ、これらの混合物でもよい。これらの中では、ホスホン酸から誘導される構造(B)が好ましい。
また、有機基R6としては、好ましくは炭素数1〜15、より好ましくは炭素数1〜8の有機基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、各種ブチル基、各種ペンチル基、各種ヘキシル基、各種オクチル基等のアルキル基、フェニル基、3−メチルフェニル基等のアリール基等が挙げられる。
また、固体酸を調製する際に、高表面積の担体を共存させ、担持触媒を得ることも可能である。担体として、シリカ、アルミナ、シリカアルミナ、チタニア、ジルコニア、ケイソウ土、活性炭等を用いることができる。担体を過剰に用いると、活性成分の含有量が低下し、活性を低下させるため、触媒中の担体の占める割合は、90重量%以下が好ましい。
固体酸の形状は、粉末でも成型したものでもよい。また、固体酸は、全て同一組成であってもよく、異なる組成の固体酸を組み合わせて用いてもよい。
酸の使用量は、反応性の観点から、原料に対し0.0001質量%以上が好ましい。一方、生成する二重結合を含む化合物間の重合を抑え、収率を向上させるという観点から、酸の使用量は25質量%以下が好ましい。上記観点から、酸の使用量は、0.001〜12質量%がより好ましく、0.01〜6質量%が特に好ましい。
本発明に用いられる白金族金属触媒は、周期律表第5〜6周期の第8〜10族元素に含まれる、オスミウム(Os)、ルテニウム(Ru)、イリジウム(Ir)、ロジウム(Rh)、白金(Pt)及びパラジウム(Pd)からなる群から選ばれる1種以上の金属成分を主成分として含む触媒である。これらの金属成分の中では、触媒活性等の観点から、Pt及びPdが好ましく、Pdがより好ましい。またこれらの金属成分は、1種単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。ここで、「主成分として含む」とは、触媒金属成分中に、当該成分を好ましくは50モル%以上、より好ましくは70モル%以上、より好ましくは90モル%以上、更に好ましくは95モル%以上含むことを意味する。
これらの白金族金属触媒は、他の金属成分又は副次量の助触媒を含有していてもよい。このような他の金属成分の例としては、例えば、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu等の周期律表第4周期の第4〜11族元素や、W、Ag及びAu等が挙げられる。
担持型触媒は、触媒の耐久性等の物理的特性を改善するために金属成分を担体に担持した触媒である。担持型触媒の調製は、沈殿法、イオン交換法、蒸発乾固法、噴霧乾燥法、混練法等の公知の方法により行うことができる。担体としては、炭素(活性炭)、アルミナ、シリカ、シリカ−アルミナ、硫酸バリウム及び炭酸カルシウム等が挙げられる。これらの中では、炭素(活性炭)、シリカ、アルミナ、シリカ−アルミナが好ましい。
触媒としてパラジウム触媒を用いる場合の具体例としては、パラジウムカーボン、パラジウム担持アルミナ、パラジウム担持硫酸バリウム、パラジウム担持炭酸カルシウム等が挙げられる。これらの中では、反応性が高く、反応後にパラジウム触媒を容易に回収可能なパラジウムカーボン、パラジウム担持アルミナが好ましく、入手性や取り扱いの簡便さ、反応性等の観点から、パラジウムカーボンが特に好ましい。
担持型触媒における金属成分の担持量は、触媒活性の点から、担体と担持された金属成分との合計量に基づき、通常0.1〜70質量%程度が好ましい。
ラネー型触媒は多孔質のスポンジ状金属触媒であり、例えば、久保松照夫、小松信一郎著、「ラネー触媒」、共立出版(1971))等により調製することができる。
可溶型触媒を用いる場合は、例えば、硝酸、塩酸などの無機酸などの金属塩水溶液、又は各種金属塩の混合水溶液を反応系に滴下すればよい。
なお、上記の触媒として市販品を使用することもできる。
回分式の場合は、反応性及び経済性の観点から、原料である化合物(1)に対して、金属量として0.0002〜3質量%が好ましく、0.002〜2質量%がより好ましく、0.005〜1質量%がさらに好ましい。
酸と白金族金属触媒は、別々の形態で用いることもでき、また一つの形態を有する触媒として使用することもできる。例えば、酸性の担体に白金族金属を担持する形態とすれば、酸を別途添加する必要がない。
酸及び白金族金属触媒を用いる場合は、懸濁床でも固定床でもよい。
担体に担持させた酸、又は固体酸を用いた固定床反応の場合には、触媒等と反応終了物との分離工程が要らないことから、大量生産する際には有効である。
懸濁床反応でも固体触媒を使用すれば、濾過等により触媒等と反応液とを容易に分離することができ、触媒をリサイクルすることも可能である。また、反応形式は、液相でも気相でも、また回分式でも連続式でも行うことができる。
(水素ガス濃度)
本発明における脱水異性化において、反応前半の工程(A)での水素ガス濃度は、白金族触媒を活性化する観点から5〜45容量%であり、5〜40容量%が好ましい。また、場合により、反応前半の工程(A)での水素ガス濃度は、15〜45容量%が好ましく、15〜40容量%がより好ましい。
また、反応後半の工程(B)での水素ガス濃度は、後述する化合物(6)の副生を抑える観点から、1容量%以上、かつ工程(A)における水素濃度よりも2容量%以上低い濃度あり、1.5容量%以上、かつ工程(A)における水素濃度よりも2容量%以上低い濃度が好ましく、2容量%以上、かつ工程(A)における水素濃度よりも3容量%以上低い濃度が特に好ましい。
また、場合により、反応後半の工程(B)での水素ガス濃度は、5容量%以上、かつ工程(A)における水素濃度よりも2容量%以上低い濃度が好ましく、5容量%以上、かつ工程(A)における水素濃度よりも5容量%以上低い濃度がより好ましく、5容量%以上、かつ工程(A)における水素濃度よりも8容量%以上低い濃度が更に好ましい。
また、水素ガス濃度は、工程(A)又は工程(B)の工程中で一定でもよく、上記の濃度範囲内にあれば、変動させてもよい。
本発明における脱水異性化の反応温度は、70〜300℃が好ましい。反応を短時間で終了させ、化合物(2)の重合及び分解を防いで収率を高めるという観点から、90〜200℃がより好ましく、100〜170℃がさらに好ましく、130〜160℃が特に好ましい。
脱水異性化は、常圧でも進行するが、減圧下で反応させることにより、生成する水を効率的に系外へ留去させ、原料及び反応生成物を留出させないで効率的に反応させることができる。反応圧力としては、反応温度に応じ、20〜200kPaの範囲とすることが好ましく、50〜150kPaの範囲とすることがより好ましい。本発明の方法においては、生成する水を留去しながら反応を行うことが好ましい。
脱水異性化の反応時間については化合物(2)を高収率、高純度で得る観点から、工程(A)の反応時間を工程(A)及び(B)の合計反応時間の5%〜50%とすることが好ましく、10%〜40%とすることがより好ましく、10%〜35%とすることが更に好ましい。
本発明は、溶媒の存在下でも不存在下でも行うことができる。溶媒を使用しない場合は生産性、経済性の観点から有利である。溶媒としては、特に制限されないが、不活性有機溶媒、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール等のアルコール類、メチルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、メチルプロピルケトン等のケトン類、イソプロピルエーテル、n−ブチルエーテル、1,4−ジオキサン、イソアミルエーテル、n−ヘキシルエーテル等のエーテル類、ギ酸n−メチル、ギ酸n−プロピル、ギ酸n−ブチル、酢酸メチル、酢酸イソプロピル、酢酸n-ブチル等のエステル類、n−へキサン、n−オクタン、n−デカン、リグロイン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の炭化水素類等が挙げられる。これらの溶媒は、1種単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
溶媒の使用量は、原料の化合物(1)に対して、0.1〜5質量倍とすることが好ましく、0.3〜2質量倍とすることがより好ましい。
生成物の定量は、ガスクロマトグラフィー(GC)分析(Agilent Technology社製、6890N、カラム:DB−1(30m×0.25mm×0.25μm)、オーブン:100℃→5℃/min.→210℃→20℃/min.→280℃(4.5min.hold)(計30min.)、キャリア:He、流量:1.6mL/min.、注入口:200℃、検出器(FID):280℃、注入量:1μL,スプリット:100:1)による内部標準法(内部標準:ウンデカン(ナカライテスク株式会社製、純度99%))によって行った。
滴下槽を備えた6m3の反応槽に、シクロペンタノン2241kg(26.6kmol)、水1007kg、48%NaOH11kgを仕込み、撹拌しながら15℃に冷却した後、同温度でバレルアルデヒド985kg(11.4kmol)を5時間かけて滴下した後、1時間撹拌した。反応終了後、中和し、過剰のシクロペンタノンを蒸留回収した。有機層の反応終了品1868kg中には2−(1−ヒドロキシペンチル)−シクロペンタン−1−オン 1706kgが含まれていた。
エチルホスホン酸(Aldrich社製、純度98%)9.9gと、85%オルトリン酸(キシダ化学株式会社製)27.7g、硝酸アルミニウム(9水和物)(Aldrich社製、純度98%)112.5gを、水1000gに溶解させた。室温にて、この混合溶液にアンモニア水溶液(キシダ化学株式会社製)を滴下し、pHを5まで上昇させた。途中、ゲル状の白色沈殿が生成した。沈殿をろ過し、水洗後、110℃で15時間乾燥した後、60メッシュ以下に粉砕し、250℃で3時間焼成することにより、固体酸:EtP−AlPO4を得た。
得られた固体酸について、ICP発光分析装置(島津製作所製、ICPS1000III)、及びCHN元素分析装置(パーキンエルマー社製、2400−2)を用いて、固体酸中の金属、リン及び炭素を測定した結果、金属16%、リン19%、炭素2.5%を含み、有機リン酸モル比xは0.17であった。
(1)工程(A)
脱水管を備えた200mlの4つ口セパラブルフラスコ(ガラス製)に、合成例1に記載の製造方法で得られた2−(1−ヒドロキシペンチル)−シクロペンタン−1−オン50g(純度84%、0.247mol)、製造例1で調製した固体酸(形態:粉末)0.20g、5%Pd/C(N.E.ChemCat社製、Pdカーボン粉末、49%含水品、pH=5.8)5.1g(乾燥重量2.6g)を加え、水素濃度25容量%、窒素濃度75容量%の混合ガスを、原料の2−(1−ヒドロキシペンチル)−シクロペンタン−1−オン純分1gあたり0.2N−mL/分の流量で反応液に吹き込みながら、140℃になるように加熱し混合し、温度が140℃に達した後3Hrの反応を行なった。
(2)工程(B)
工程(A)に続いて水素濃度12.5容量%、窒素濃度87.5容量%の混合ガスを、原料の2−(1−ヒドロキシペンチル)−シクロペンタン−1−オン純分1gあたり0.2N−mL/分の流量で反応液に吹き込みながら、140〜147℃(平均温度146℃)で12Hrの反応を行なった。
工程(B)終了後、反応終了物をGCにより定量した結果、2−ペンチル−2−シクロペンテン−1−オンが0.219mol生成し、2−ペンチルシクロペンタン−1−オンが0.012mol副生していた。2−ペンチル−2−シクロペンテン−1−オンの収率は88.6%であった。その他の副生成物についての結果も纏めて表1に示す。
(1)工程(A)
脱水管を備えた200mlの4つ口セパラブルフラスコ(ガラス製)に、合成例1に記載の製造方法で得られた2−(1−ヒドロキシペンチル)−シクロペンタン−1−オン50g(純度83%、0.244mol)、製造例1で調製した固体酸(形態:粉末)0.20g、前記5%Pd/C(N.E.ChemCat社製)5.1g(乾燥重量2.6g)を加え、水素濃度40容量%、窒素濃度60容量%の混合ガスを、原料の2−(1−ヒドロキシペンチル)−シクロペンタン−1−オン純分1gあたり0.2N−mL/分の流量で反応液に吹き込みながら、140℃になるように加熱し混合し、温度が140℃に達した後3Hrの反応を行なった。
(2)工程(B)
工程(A)に続いて水素濃度12.5容量%、窒素濃度87.5容量%の混合ガスを、原料の2−(1−ヒドロキシペンチル)−シクロペンタン−1−オン純分1gあたり0.2N−mL/分の流量で反応液に吹き込みながら、140〜147℃(平均温度146℃)で10Hrの反応を行なった。
工程(B)終了後、反応終了物をGCにより定量した結果、2−ペンチル−2−シクロペンテン−1−オンが0.209mol生成し、2−ペンチルシクロペンタン−1−オンが0.018mol副生していた。2−ペンチル−2−シクロペンテン−1−オンの収率は85.6%であった。その他の副生成物についての結果も纏めて表1に示す。
(1)工程(A)
脱水管を備えた200mlの4つ口セパラブルフラスコ(ガラス製)に、合成例1に記載の製造方法で得られた2−(1−ヒドロキシペンチル)−シクロペンタン−1−オン50g(純度82%、0.242mol)、製造例1で調製した固体酸(形態:粉末)0.20g、前記5%Pd/C(N.E.ChemCat社製)5.1g(乾燥重量2.6g)を加え、水素濃度100容量%のガスを、原料の2−(1−ヒドロキシペンチル)−シクロペンタン−1−オン純分1gあたり0.2N−mL/分の流量で反応液に吹き込みながら、140℃になるように加熱し混合し、温度が140℃に達した後2Hrの反応を行なった。
(2)工程(B)
工程(A)に続いて水素濃度50容量%、窒素濃度50容量%の混合ガスを、原料の2−(1−ヒドロキシペンチル)−シクロペンタン−1−オン純分1gあたり0.2N−mL/分の流量で反応液に吹き込みながら140℃で3Hrの反応を行ない、更に水素濃度20容量%、窒素濃度80容量%の混合ガスを反応液に吹き込みながら、147℃で3Hrの反応を行なった。
工程(B)終了後、反応終了物をGCにより定量した結果、2−ペンチル−2−シクロペンテン−1−オンが0.200mol生成し、2−ペンチルシクロペンタン−1−オンが0.031mol副生していた。2−ペンチル−2−シクロペンテン−1−オンの収率は82.8%であった。その他の副生成物についての結果も纏めて表1に示す。
(1)工程(A)
脱水管を備えた200mlの4つ口セパラブルフラスコ(ガラス製)に、合成例1に記載の製造方法で得られた2−(1−ヒドロキシペンチル)−シクロペンタン−1−オン50g(純度83%、0.244mol)、製造例1で調製した固体酸(形態:粉末)0.20g、前記5%Pd/C(N.E.ChemCat社製)5.1g(乾燥重量2.6g)を加え、水素濃度50容量%、窒素濃度50容量%の混合ガスを、原料の2−(1−ヒドロキシペンチル)−シクロペンタン−1−オン純分1gあたり0.2N−mL/分の流量で反応液に吹き込みながら、140℃になるように加熱し混合し、温度が140℃に達した後3Hrの反応を行なった。
(2)工程(B)
工程(A)に続いて水素濃度12.5容量%、窒素濃度87.5容量%の混合ガスを、原料の2−(1−ヒドロキシペンチル)−シクロペンタン−1−オン純分1gあたり0.2N−mL/分の流量で反応液に吹き込みながら140℃〜147℃(平均温度145℃)で9Hrの反応を行なった。
工程(B)終了後、反応終了物をGCにより定量した結果、2−ペンチル−2−シクロペンテン−1−オンが0.205mol生成し、2−ペンチルシクロペンタン−1−オンが0.022mol副生していた。2−ペンチル−2−シクロペンテン−1−オンの収率は84.3%であった。その他の副生成物についての結果も纏めて表1に示す。
脱水管を備えた200mlの4つ口セパラブルフラスコに、合成例1に記載の製造方法で得られた2−(1−ヒドロキシペンチル)−シクロペンタン−1−オン50.8g(純度81%、0.243mol)、製造例1で調製した固体酸(形態:粉末)0.13g、前記5%Pd/C(N.E.ChemCat社製)5.0g(乾燥重量2.6g)を加え、水素濃度12.5容量%、窒素濃度87.5容量%の混合ガスを、原料の2−(1−ヒドロキシペンチル)−シクロペンタン−1−オン純分1gあたり0.2N−mL/分の流量で反応液に吹き込みながら150℃になるように加熱し混合した。
温度が150℃に達した反応開始から15.5時間後には、留分が7.81g得られ、反応終了物をGCにより定量した結果、2−ペンチル−2−シクロペンテン−1−オン31.4g(0.206mol)、2−ペンチルシクロペンタン−1−オン1.5g(0.010mol)が生成していた。2−ペンチル−2−シクロペンテン−1−オンの収率は85.0%であった。その他の副生成物についての結果も纏めて表1に示す。
(1)工程(A)
脱水管を備えた2000mlの4つ口セパラブルフラスコ(ガラス製)に、合成例1に記載の製造方法で得られた2−(1−ヒドロキシペンチル)−シクロペンタン−1−オン1395g(純度85%、6.95mol)、製造例1で調製した固体酸(形態:粉末)3.6g、5%Pd/C(エボニック デグサ ジャパン社製、粉末、68.6%含水品)133.3g(乾燥重量41.9g)を加え、水素濃度12.5容量%、窒素濃度87.5容量%の混合ガスを、原料の2−(1−ヒドロキシペンチル)−シクロペンタン−1−オン純分1gあたり0.2N−mL/分の流量で反応液に吹き込みながら、140℃になるように加熱し混合し、温度が140℃に達した後7Hrの反応を行なった。
(2)工程(B)
工程(A)に続いて水素濃度7.5容量%、窒素濃度92.5容量%の混合ガスを、原料の2−(1−ヒドロキシペンチル)−シクロペンタン−1−オン純分1gあたり0.2N−mL/分の流量で反応液に吹込みながら、150℃で7Hrの反応を行なった。
工程(B)終了後、反応終了物をGCにより定量した結果、2−ペンチル−2−シクロペンテン−1−オンが6.13mol生成し、2−ペンチルシクロペンタン−1−オンが0.30mol副生していた。2−ペンチル−2−シクロペンテン−1−オンの収率は88.1%であった。その他の副生成物についての結果も纏めて表1に示す。
(1)工程(A)
脱水管を備えた2000mlの4つ口セパラブルフラスコ(ガラス製)に、合成例1に記載の製造方法で得られた2−(1−ヒドロキシペンチル)−シクロペンタン−1−オン1395g(純度85%、6.95mol)、製造例1で調製した固体酸(形態:粉末)3.6g、5%Pd/C(エボニック デグサ ジャパン社製、粉末、49%含水品)133.3g(乾燥重量41.9g)を加え、水素濃度12.5容量%、窒素濃度87.5容量%の混合ガスを、原料の2−(1−ヒドロキシペンチル)−シクロペンタン−1−オン純分1gあたり0.2N−mL/分の流量で反応液に吹き込みながら、140℃になるように加熱し混合し、温度が140℃に達した後7Hrの反応を行なった。
(2)工程(B)
工程(A)に続いて窒素ガスのみを、原料の2−(1−ヒドロキシペンチル)−シクロペンタン−1−オン純分1gあたり0.2N−mL/分の流量で反応液に吹き込みながら、150℃で15Hrの反応を行なった。
工程(B)終了後、反応終了物をGCにより定量した結果、2−ペンチル−2−シクロペンテン−1−オンが3.43mol生成し、2−ペンチルシクロペンタン−1−オンが0.14mol副生していた。2−ペンチル−2−シクロペンテン−1−オンの収率は49.3%であった。その他の副生成物についての結果も纏めて表1に示す。
1)触媒量=(乾燥状態の触媒質量)/(原料質量)×100
2)収率=(反応物中の2−ペンチル−2−シクロペンテン−1−オンのモル数)/(原料中の2−(1−ヒドロキシペンチル)−シクロペンタン−1−オンのモル数)×100
3)飽和体量=(反応物中の2−ペンチルシクロペンタン−1−オンのモル数)/(原料中の2−(1−ヒドロキシペンチル)−シクロペンタン−1−オンのモル数)×100
4)その他副生物量=(反応物中の2−ペンチルシクロペンタン−1−オン以外の副反応物モル数)/(原料中の2−(1−ヒドロキシペンチル)−シクロペンタン−1−オンのモル数)×100
Claims (4)
- 下記一般式(1)で表される2−(1−ヒドロキシアルキル)−シクロアルカン−1−オンを原料とし、酸及び白金族金属触媒の共存下に、工程(A)の後に、工程(B)の工程を含む、下記一般式(2)で表される2−アルキル−2−シクロアルケン−1−オンの製造方法。
工程(A):水素ガス濃度5〜45容量%の雰囲気下で脱水異性化させる工程
工程(B):水素ガス濃度1容量%以上、かつ工程(A)における水素濃度よりも2容量%以上低い濃度の雰囲気下で脱水異性化させる工程
- 白金族金属触媒が、Pdを含む触媒である、請求項1に記載の2−アルキル−2−シクロアルケン−1−オンの製造方法。
- 工程(A)及び(B)の反応温度が、0〜300℃である、請求項1又は2に記載の2−アルキル−2−シクロアルケン−1−オンの製造方法。
- 工程(A)の反応時間が、工程(A)及び(B)の合計反応時間の5〜50%である、請求項1〜3のいずれかに記載の2−アルキル−2−シクロアルケン−1−オンの製造方法。
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