JP5478097B2 - 2−アルキル−2−シクロアルケン−1−オンの製造方法 - Google Patents
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Description
しかし、特許文献1の方法は、気相反応であるため操作が煩雑であるという欠点を有し、特許文献2の方法は、触媒活性化に用いる水素ガスにより二重結合が還元されて2−アルキルシクロアルカノンが副生し、目的とする2−アルキル−2−シクロアルケン−1−オンの収率が低下するため、高純度のものが得られないという欠点を有する。また、特許文献3及び4に記載の方法は、強酸を使用するため反応槽の腐食性、後処理の問題があった。
すなわち、本発明は、次の〔1〕及び〔2〕を提供する。
〔1〕下記一般式(1)で表される2−アルキリデンシクロアルカノンを、下記工程(a)及び(b)で処理したパラジウム及び/又は白金触媒の存存下で反応させる、下記一般式(2)で表される2−アルキル−2−シクロアルケン−1−オンの製造方法
工程(a):パラジウム及び/又は白金触媒を、水素ガスを含む雰囲気下において活性化する工程
工程(b):工程(a)において触媒の雰囲気として存在する水素ガスを、不活性ガスで置換し除去する工程
工程(a):パラジウム及び/又は白金触媒を、水素ガスを含む雰囲気下において活性化する工程
工程(b):工程(a)において触媒の雰囲気として存在する水素ガスを、不活性ガスで置換し除去する工程
また、本発明によれば、従来よりも原料の重合及び2−アルキルシクロアルカノンの副生を防ぐことが可能となり、腐食性、毒性の低い触媒を用いて目的化合物を高収率、高純度で製造することが可能となる。
また、本発明のパラジウム及び/又は白金触媒の活性化方法は、下記工程(a)及び(b)によることを特徴とする。
工程(a):パラジウム及び/又は白金触媒を、水素ガスを含む雰囲気下において活性化する工程
工程(b):工程(a)において触媒の雰囲気として存在する水素ガスを、不活性ガスで置換し除去する工程
本発明の化合物(2)の製造方法においては、原料として化合物(1)を用いる。
一般式(1)及び(2)において、R1及びR2は、それぞれ水素原子又は炭素数1〜8のアルキル基を示すか、又はR1とR2とに隣接する炭素原子を介してシクロペンタン環又はシクロヘキサン環を形成してもよい。R1及びR2は、水素原子又は直鎖又は分岐鎖のアルキル基であることが好ましく、水素原子又は直鎖のアルキル基であることがより好ましい。
R1及びR2であるアルキル基としては、メチル基、エチル基、直鎖又は分岐鎖の各種プロピル基、各種ブチル基、各種ペンチル基、各種ヘキシル基、各種ヘプチル基、各種オクチル基が挙げられる。
ここで、「R1とR2とに隣接する炭素原子を介してシクロペンタン環又はシクロヘキサン環を形成」するとは、R1が炭素原子を介してR2と結合して、又は、R2が炭素原子を介してR1と結合して、5員環又は6員環を形成」することを意味する。なお、炭素原子に結合した水素原子は、例えば炭素数1〜5のアルキル基、アルケニル基等の炭化水素基で置換していてもよい。
原料である化合物(1)の製造方法は特に限定されないが、例えばケミカルアブストラクツ79巻、78170f等に記載の方法に従い、シクロペンタノンとアルデヒドをアルドール縮合させることにより製造することができる。
化合物(1)の具体例としては、2−プロピリデンシクロペンタノン、2−ブチリデンシクロペンタノン、2−(2’−メチルプロピリデン)シクロペンタノン、2−ペンチリデンシクロペンタノン、2−(2’−メチルブチリデン)シクロペンタノン、2−ヘキシリデンシクロペンタノン、2−(2’−エチルプロピリデン)シクロペンタノン、2−(2’−プロピルペンチリデン)シクロペンタノン等が挙げられる。
本発明では、このような方法で得られる化合物(1)を精製せずに用いることもできるが、触媒の活性が低下する場合は蒸留等の方法で精製して用いてもよい。
本発明の化合物(2)は、化合物(1)を、下記工程(a)及び(b)によって処理したパラジウム及び/又は白金触媒の存在下で反応させることにより製造される。
工程(a):パラジウム及び/又は白金触媒を、水素ガスを含む雰囲気下において活性化する工程
工程(b):工程(a)において触媒の雰囲気として存在する水素ガスを、不活性ガスで置換し除去する工程
本発明に用いられる触媒は、白金(Pt)及び/又はパラジウム(Pd)(以下、これらを総称して「金属成分」ともいう)を主成分として含む触媒である。これらの金属成分は、1種単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。ここで、「主成分として含む」とは、触媒金属成分中に、当該成分を好ましくは50モル%以上、より好ましくは70モル%以上、更に好ましくは90モル%以上、特に好ましくは95モル%以上含むことを意味する。
これらの触媒は、他の金属成分又は副次量の助触媒を含有していてもよい。このような他の金属成分の例としては、例えば、Ru、Rh、Os、Irなどの周期律表第5〜6周期の第8〜9族元素、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu等の周期律表第4周期の第4〜11族元素や、W、Ag及びAu等が挙げられる。
担持型触媒は、触媒の耐久性等の物理的特性を改善するために金属成分を担体に担持した触媒である。担持型触媒の調製は、沈殿法、イオン交換法、蒸発乾固法、噴霧乾燥法、混練法等の公知の方法により行うことができる。担体としては、炭素(活性炭)、アルミナ、シリカ、シリカ−アルミナ、硫酸バリウム及び炭酸カルシウム等が挙げられる。これらの中では、炭素(活性炭)、シリカ、アルミナ、シリカ−アルミナが好ましい。
触媒の具体例としては、パラジウムカーボン、白金カーボン、パラジウム担持アルミナ、白金担持アルミナ、パラジウム担持硫酸バリウム、白金担持硫酸バリウム、パラジウム担持炭酸カルシウム、白金担持炭酸カルシウム等が挙げられる。これらの中では、反応性が高く、反応後にパラジウム触媒を容易に回収可能なパラジウムカーボン、白金カーボン、パラジウム担持アルミナ、白金担持アルミナが好ましく、入手性や取り扱いの簡便さ、反応性等の観点から、パラジウムカーボン及び白金カーボンが特に好ましい。
担持型触媒における金属成分の担持量は、触媒活性の点から、担体と担持された金属成分との合計量に基づき、通常0.1〜70質量%程度が好ましい。
ラネー型触媒は多孔質のスポンジ状金属触媒であり、例えば、久保松照夫、小松信一郎著、「ラネー触媒」、共立出版(1971))等により調製することができる。
可溶型触媒を用いる場合は、例えば、硝酸、塩酸などの無機酸などの金属塩の溶液、又は各種金属塩の混合溶液を反応系に滴下すればよい。
なお、上記の触媒として市販品を使用することもできる。
回分式の場合は、反応性及び経済性の観点から、原料である化合物(1)に対して、金属量として0.001〜1.5mol%が好ましく、0.005〜0.5mol%がより好ましく、0.01〜0.2mol%がさらに好ましい。
触媒を用いる場合は、懸濁床でも固定床でもよい。
固体白金族金属触媒を用いた固定床反応の場合には、触媒と反応終了物との分離工程が要らないことから、大量生産する際には有効である。
懸濁床反応でも固体触媒を使用すれば、濾過等により触媒と反応液とを容易に分離することができ、触媒をリサイクルすることも可能である。また、反応形式は、液相でも気相でも、また回分式でも連続式でも行うことができる。
工程(a)は、パラジウム及び/又は白金触媒を、水素ガスを含む雰囲気下において活性化する工程である。
処理槽内の気相部中の水素ガス濃度は、活性化の効率の観点から70質量%以上が好ましく、90質量%以上がより好ましい。
触媒の活性化処理温度は、20〜150℃が好ましく、25〜100℃がより好ましく、30〜80℃が更に好ましい。活性化処理時の減圧度は0.5〜100kPaが好ましく、5〜70kPaがより好ましく、10〜60kPaがさらに好ましい。また、活性化時間は0.5〜2時間が好ましく、0.75〜1.5時間がより好ましい。
触媒の活性化処理は、水素ガス雰囲気下で減圧とした後大気圧に戻すという操作を複数回、例えば2〜6回、好ましくは3〜4回繰り返すことにより行うことが好ましい。
工程(b)は、工程(a)において触媒の雰囲気として存在する水素ガスを、不活性ガスで置換し除去する工程である。
工程(b)は、工程(a)で得られた処理済のパラジウム及び/又は白金触媒に含まれる水素ガスを、速やかに系外に排出することができる工程であればよく、その他については特に限定されない。例えば、微減圧下で不活性ガスに置換する工程等を挙げることができる。
不活性ガスとしては、窒素ガス、アルゴンガス、ヘリウムガス等が好ましく、窒素ガスがより好ましい。また、減圧度は0.5〜100kPaが好ましく、10〜90kPaがより好ましく、20〜80kPaがさらに好ましい。
不活性ガスによる置換後の処理槽内の気相部の水素ガス濃度は、収率の観点から0〜30質量%が好ましく、0.1〜10質量%がより好ましい。
触媒中の水素ガスを除去する操作は、不活性ガス雰囲気下で減圧とした後大気圧に戻すという操作を複数回、例えば2〜10回、好ましくは3〜9回繰り返すことにより行うことが好ましい。
本発明の反応における温度は100〜300℃が好ましく、反応を短時間で終わらせ、化合物(1)の重合を防ぎ収率の低下を防ぐという観点から、150〜250℃がより好ましく、160〜230℃がさらに好ましく、170〜210℃が特に好ましい。
反応圧力は反応温度に応じて適宜調整しうるが、50〜200kPaの範囲とすることが好ましく、100〜150kPaの範囲とすることがより好ましい。
本発明は、溶媒の存在下でも不存在下でも行うことができる。溶媒を使用しない方が、生産性、経済性の観点から有利である。使用しうる溶媒に特に制限はなく、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、tert−ブタノール、n−ブタノール、ヘキサノール、オクタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコール、ベンジルアルコール等のアルコール類、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等のケトン類、イソプロピルエーテル、n−ブチルエーテル、1,4−ジオキサン、テトラヒドロピラン等のエーテル類、ギ酸n−メチル、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類、n−へキサン、n−オクタン、n−デカン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素類等が挙げられる。これらの溶媒は、1種単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
化合物(2)の好適例としては、一般式(2)において、mが0、nが1又は2、より好ましくはnが1、R1及びR2が、それぞれ水素原子、又は炭素数1〜8、好ましくは炭素数3〜6の直鎖又は分岐鎖のアルキル基である化合物が挙げられる。
化合物(2)の具体例としては、2−プロピル−2−シクロペンテン−1−オン、2−イソプロピル−2−シクロペンテン−1−オン、2−n−ブチル−2−シクロペンテン−1−オン、2−n−ペンチル−2−シクロペンテン−1−オン、2−イソペンチル−2−シクロペンテン−1−オン、2−(2’−メチルブチル)−2−シクロペンテン−1−オン、2−ヘキシル−2−シクロペンテン−1−オン等が挙げられる。
下記一般式(3)で表されるアルキル(3−オキソ−2−アルキルシクロアルキル)アセテート(以下、「化合物(3)」という。)は、香料素材、生理活性物質として有用な化合物であり、上記の製造方法で得られた化合物(2)を原料として、塩基性触媒の存在下で反応させることにより、得ることができる。
塩基性触媒の使用量は、反応性等の観点から、化合物(2)に対して0.005〜0.2モル倍が好ましく、0.01〜0.1モル倍がより好ましい。溶媒を使用する場合は、アルコール類等の極性溶媒が好ましい。
反応温度は−10〜30℃が好ましく、−2〜20℃がより好ましい。
次に、上記の方法により得られた化合物(5)と水とを反応させることにより、化合物(3)を製造することができる。水は、化合物(5)に対して1〜3モル倍量を加えることが好ましく、反応系中に滴下しながら反応させることが好ましい。この際の反応温度は150〜230℃が好ましく、180〜220℃がより好ましい。
なお、実施例、比較例において、「%」は特記しない限り「質量%」であり、反応圧力は、すべて101kPa(大気圧)である。
滴下槽を備えた6m3の反応槽に、シクロペンタノン2241kg(26.6kmol)、水1007kg、48%NaOH11kgを仕込み、撹拌しながら15℃に冷却した後、同温度でバレルアルデヒド985kg(11.4kmol)を5時間かけて滴下した後、1時間撹拌した。反応終了後、中和し、過剰のシクロペンタノンを蒸留回収した。有機層の反応終了品1868kg中には2−(1−ヒドロキシペンチル)−シクロペンタノン 1706kgが含まれていた。
脱水管を備えた300mlの4つ口フラスコに、上記で得られた反応終了品を精留して得られた2−(1−ヒドロキシペンチル)−シクロペンタノン170g(0.99mol)と、TiO2(球状成型品、直径1.5mm)8.5gを加え、100℃、53kPaの条件下で加熱混合し、2−ペンチリデンシクロペンタノン141g(収率93%)を得た。
自動合成装置(柴田科学株式会社製、Chemi−200、100mL GL製反応容器)に、デカン(和光純薬工業株式会社製、特級、純度99%) 5.0g(0.035mol)、5%Pd/C(エヌ・イー ケムキャット株式会社製、Pdカーボン粉末、49%含水品)0.43gを加えて、400r/minで攪拌しながら槽内を微減圧下(27kPa)で窒素置換した。その後、水素を捕集した耐圧風船を取り付け、槽内を27kPaまで減圧しては水素で大気圧に戻すという操作を4回繰り返した。槽内を50℃まで昇温し、1時間触媒活性化を行った。槽内を54kPaまで減圧しては窒素で大気圧に戻すという操作を8回繰り返した後、槽内を190℃まで昇温し、シリンジを用いて合成例1で得られた2−ペンチリデンシクロペンタノン(純度96%)10gを添加した。反応は6時間行い、GC分析による2−ペンチル−2−シクロペンテン−1−オンの内標収率は96%であり、2−ペンチルシクロペンタノンは3%、高沸副生物は1%生成していた。
実施例1で用いたのと同じ自動合成装置にデカン5.0g(0.035mol)、2%Pt/C(エヌ・イー ケムキャット株式会社製、Ptカーボン粉末、54%含水品)1.11gを加えて、400r/min.で攪拌しながら槽内を27kPaまで減圧しては水素で大気圧に戻すという操作を4回繰り返した。槽内を50℃まで昇温し、1時間触媒活性化を行った。槽内を54kPaまで減圧しては窒素で大気圧に戻すという操作を8回繰り返した後、槽内を200℃まで昇温し、シリンジを用いて合成例1で得られた2−ペンチリデンシクロペンタノン(純度96%)10gを添加した。反応は6時間行い、GC分析による2−ペンチル−2−シクロペンテン−1−オンの内標収率は95%であり、2−ペンチルシクロペンタノンは2%、高沸副生物は1%生成していた。
実施例1で用いたのと同じ自動合成装置に、2−ペンチリデンシクロペンタノン10g、実施例1で用いた5%Pd/C 0.23gを加えて、攪拌しながら系内を微減圧下(27kPa)で窒素置換した。その後、水素を捕集した耐圧風船を取り付け、槽内を27kPaまで減圧しては水素で大気圧に戻すという操作を4回繰り返した後、槽内を130℃まで昇温した。反応は2時間行い、GC分析による2−ペンチル−2−シクロペンテン−1−オンの内標収率は77%であり、2−ペンチルシクロペンタノンは20%、高沸副生物は1%生成していた。
実施例1で用いたのと同じ自動合成装置に、2−ペンチリデンシクロペンタノン10g、実施例1で用いた5%Pd/C 0.43gを加えて、攪拌しながら槽内を微減圧下(27kPa)で窒素置換し、槽内を195℃まで昇温した。反応は6時間行い、GC分析による2−ペンチル−2−シクロペンテン−1−オンの内標収率は85%であり、2−ペンチルシクロペンタノンは4%、高沸副生物は11%生成していた。
実施例1で用いたのと同じ自動合成装置にデカン5.0g(0.035mol)、5%Ir/C(エヌ・イー ケムキャット株式会社製、Irカーボン粉末、61%含水品)0.56gを加えて、400r/min.で攪拌しながら槽内を27kPaまで減圧しては水素で大気圧に戻すという操作を4回繰り返した。槽内を50℃まで昇温し、1時間触媒活性化を行った。槽内を54kPaまで減圧しては窒素で大気圧に戻すという操作を8回繰り返した後、槽内を200℃まで昇温し、シリンジを用いて合成例1で得られた2−ペンチリデンシクロペンタノン(純度96%)10gを添加した。反応は5.5時間行い、GC分析による2−ペンチル−2−シクロペンテン−1−オンの内標収率は19%であり、2−ペンチルシクロペンタノンは検出せず、高沸副生物は19%生成していた。
実施例1で用いたのと同じ自動合成装置にデカン5.0g(0.035mol)、5%Rh/C(エヌ・イー ケムキャット株式会社製、Rhカーボン粉末、54%含水品)0.47gを加えて、400r/min.で攪拌しながら槽内を27kPaまで減圧しては水素で大気圧に戻すという操作を4回繰り返した。槽内を50℃まで昇温し、1時間触媒活性化を行った。槽内を54kPaまで減圧しては窒素で大気圧に戻すという操作を8回繰り返した後、槽内を200℃まで昇温し、シリンジを用いて合成例1で得られた2−ペンチリデンシクロペンタノン(純度96%)10gを添加した。反応は4時間行い、GC分析による2−ペンチル−2−シクロペンテン−1−オンの内標収率は10%であり、2−ペンチルシクロペンタノンは検出せず、高沸副生物は19%生成していた。
実施例1で用いたのと同じ自動合成装置にデカン5.0g(0.035mol)、5%Ru/C(エヌ・イー ケムキャット株式会社製、Ruカーボン粉末、50%含水品)0.44gを加えて、400r/min.で攪拌しながら槽内を27kPaまで減圧しては水素で大気圧に戻すという操作を4回繰り返した。槽内を50℃まで昇温し、1時間触媒活性化を行った。槽内を54kPaまで減圧しては窒素で大気圧に戻すという操作を8回繰り返した後、槽内を200℃まで昇温し、シリンジを用いて合成例1で得られた2−ペンチリデンシクロペンタノン(純度96%)10gを添加した。反応は4時間行い、GC分析による2−ペンチル−2−シクロペンテン−1−オンの内標収率は1%であり、2−ペンチルシクロペンタノンは検出せず、高沸副生物は22%生成していた。
Claims (6)
- 下記一般式(1)で表される2−アルキリデンシクロアルカノンを、下記工程(a)及び(b)で処理したパラジウム及び/又は白金触媒の存存下で反応させる、下記一般式(2)で表される2−アルキル−2−シクロアルケン−1−オンの製造方法。
工程(a):パラジウム及び/又は白金触媒を、水素ガスを含む雰囲気下において20〜80℃で活性化する工程
工程(b):工程(a)において触媒の雰囲気として存在する水素ガスを、不活性ガスで置換し除去する工程
- 工程(a)における活性化処理時の減圧度が5〜70kPaである、請求項1に記載の2−アルキル−2−シクロアルケン−1−オンの製造方法。
- 工程(a)における触媒の活性化を、水素ガス雰囲気下で減圧とした後大気圧に戻す操作を2〜6回繰り返すことにより行う、請求項1又は2に記載の2−アルキル−2−シクロアルケン−1−オンの製造方法。
- 一般式(1)及び(2)において、mが0、nが1又は2、R1及びR2が、それぞれ水素原子、又は炭素数1〜8の直鎖又は分岐鎖のアルキル基である、請求項1〜3のいずれかに記載の2−アルキル−2−シクロアルケン−1−オンの製造方法。
- 一般式(1)及び(2)において、mが0、nが1、R1及びR2が、それぞれ水素原子、又は炭素数1〜8の直鎖又は分岐鎖のアルキル基である、請求項1〜3のいずれかに記載の2−アルキル−2−シクロアルケン−1−オンの製造方法。
- 不活性ガスが、窒素ガス、アルゴンガス又はヘリウムガスである、請求項1〜5のいずれかに記載の2−アルキル−2−シクロアルケン−1−オンの製造方法。
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