JP2009238896A - 半導体集積回路装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本願発明は、ポストCMP洗浄において、ウエハのデバイス面をほぼ水平上向きで、当該面に薬液又は純水等の洗浄液体を供給するとともに、ウエハを水平面内で、ほぼその中心の周りで自転させながらウエット洗浄するときに、その自転速度をデバイス面上における洗浄液体の厚さがほぼ均一になる程度に低速にするものである。
【選択図】図1
Description
先ず、本願において開示される発明の代表的な実施の形態について概要を説明する。
(a)ウエハの第1の主面上の第1の絶縁膜に配線溝を形成する工程;
(b)前記配線溝を埋めるように、前記配線溝内および前記第1の絶縁膜上に金属部材層を形成する工程;
(c)前記配線溝外の前記金属部材層を、CMP処理により、除去することにより埋め込み配線を形成する工程;
(d)前記工程(c)の後、前記埋め込み配線が形成された前記ウエハの前記第1の主面側に対して、前記ウエハを前記第1の主面を含む面内において自転させながら、ウエット洗浄処理を実行する工程;
(e)前記工程(d)の後、前記ウエハの前記第1の主面側を乾燥される工程、
ここで、前記ウエハの自転速度は、1回/分以上30回/分未満である。
(d1)第1の回転ロール・ブラシによる第1の薬液洗浄処理;
(d2)前記第1の薬液洗浄処理の後に行われる第2の回転ロール・ブラシによる第2の薬液洗浄処理;
(d3)前記第2の薬液洗浄処理の後に行われる回転ペン・ブラシによる第3の薬液洗浄処理。
(d1)第1の回転ロール・ブラシによる第1の薬液洗浄処理;
(d2)前記第1の薬液洗浄処理の後に行われる前記第2の回転ロール・ブラシによる第2の薬液洗浄処理;
(d3)前記第2の薬液洗浄処理の後に行われる回転ペン・ブラシによる第3の薬液洗浄処理;
(d4)前記第3の薬液洗浄処理の後に行われるブラシを使用しない第1のリンス処理。
(d1)第1の回転ロール・ブラシによる第1の薬液洗浄処理;
(d2)前記第1の薬液洗浄処理の後に行われる第2の回転ロール・ブラシによる第2の薬液洗浄処理;
(d3)前記第2の薬液洗浄処理の後に行われる回転ペン・ブラシによる第3の薬液洗浄処理;
(d4)前記第3の薬液洗浄処理の後に行われるブラシを使用しない第1のリンス処理;
(d5)前記第2の薬液洗浄処理と前記第3の薬液洗浄処理との間に行われるブラシを使用しない第2のリンス処理。
(d1)第1の回転ロール・ブラシによる第1の薬液洗浄処理;
(d2)前記第1の薬液洗浄処理の後に行われる第2の回転ロール・ブラシによる第2の薬液洗浄処理;
(d3)前記第2の薬液洗浄処理の後に行われる回転ペン・ブラシによる第3の薬液洗浄処理;
(d4)前記第3の薬液洗浄処理の後に行われるブラシを使用しない第1のリンス処理;
(d5)前記第2の薬液洗浄処理と前記第3の薬液洗浄処理との間に行われるブラシを使用しない第2のリンス処理;
(d6)前記第1の薬液洗浄処理と前記第2の薬液洗浄処理との間に行われるブラシを使用しない第3のリンス処理。
(f)前記工程(e)の後、前記埋め込み配線および前記第1の絶縁膜上に、絶縁性バリア膜を形成する工程。
(c1)前記配線溝外の前記金属部材層の内の銅を主要な成分とする銅合金層を、第1のCMP処理により、除去する工程;
(c2)前記配線溝外の前記金属部材層の内のバリアメタル層を、第2のCMP処理により、除去する工程。
(c1)前記配線溝外の前記金属部材層の内の銅を主要な成分とする銅合金層を、第1のCMP処理により、除去する工程;
(c2)前記配線溝外の前記金属部材層の内のバリアメタル層を、防食剤を含むスラリを用いた第2のCMP処理により、除去する工程。
(f)前記工程(e)の後、前記埋め込み配線および前記第1の絶縁膜上に、絶縁性バリア膜を形成する工程、
ここで、前記絶縁性バリア膜は、SiCN膜を有する。
(d1)第1の回転ロール・ブラシによる第1の薬液洗浄処理。
(d1)第1の回転ロール・ブラシによる第1の薬液洗浄処理;
(d2)前記第1の薬液洗浄処理の後に行われる第2の回転ロール・ブラシによる第2の薬液洗浄処理。
(d3)回転ペン・ブラシによる第3の薬液洗浄処理。
(d1)第1の回転ロール・ブラシによる第1の薬液洗浄処理;
(d6)前記第1の薬液洗浄処理の後に行われるブラシを使用しない第3のリンス処理。
(d1)第1の回転ロール・ブラシによる第1の薬液洗浄処理;
(d3)前記第1の薬液洗浄処理の後に行われる回転ペン・ブラシによる第3の薬液洗浄処理;
(d4)前記第3の薬液洗浄処理の後に行われるブラシを使用しない第1のリンス処理;
(d6)前記第1の薬液洗浄処理と前記第3の薬液洗浄処理との間に行われるブラシを使用しない第3のリンス処理。
(d1)第1の回転ロール・ブラシによる第1の薬液洗浄処理;
(d2)前記第1の薬液洗浄処理の後に行われる第2の回転ロール・ブラシによる第2の薬液洗浄処理;
(d5)前記第2の薬液洗浄処理の後に行われるブラシを使用しない第2のリンス処理;
(d6)前記第1の薬液洗浄処理と前記第2の薬液洗浄処理との間に行われるブラシを使用しない第3のリンス処理。
(a)ウエハの第1の主面上の第1の絶縁膜に配線溝を形成する工程;
(b)前記配線溝を埋めるように、前記配線溝内および前記第1の絶縁膜上に金属部材層を形成する工程;
(c)前記配線溝外の前記金属部材層を、CMP処理により、除去することにより埋め込み配線を形成する工程;
(d)前記工程(c)の後、前記埋め込み配線が形成された前記ウエハの前記第1の主面側に対して、ウエット洗浄処理を実行する工程;
(e)前記工程(d)の後、前記ウエハの前記第1の主面側を乾燥される工程、
ここで、前記ウエット洗浄処理は、以下の処理を含む:
(d1)第1の回転ロール・ブラシによる第1の薬液洗浄処理;
(d2)前記第1の薬液洗浄処理の後に行われる第2の回転ロール・ブラシによる第2の薬液洗浄処理;
(d3)前記第2の薬液洗浄処理の後に行われる回転ペン・ブラシによる第3の薬液洗浄処理;
(d4)前記第3の薬液洗浄処理の後に行われるブラシを使用しない第1のリンス処理;
(d5)前記第2の薬液洗浄処理と前記第3の薬液洗浄処理との間に行われるブラシを使用しない第2のリンス処理;
(d6)前記第1の薬液洗浄処理と前記第2の薬液洗浄処理との間に行われるブラシを使用しない第3のリンス処理。
(a)ウエハの第1の主面上の第1の絶縁膜に配線溝を形成する工程;
(b)前記配線溝を埋めるように、前記配線溝内および前記第1の絶縁膜上に金属部材層を形成する工程;
(c)前記配線溝外の前記金属部材層を、CMP処理により、除去することにより埋め込み配線を形成する工程;
(d)前記工程(c)の後、前記埋め込み配線が形成された前記ウエハの前記第1の主面側に対して、ノズルにより薬液又は純水を供給しながら、ウエット洗浄処理を実行する工程;
(e)前記工程(d)の後、前記ウエハの前記第1の主面側を乾燥される工程、
ここで、前記ノズルから供給される薬液又は純水が前記ウエハの前記第1の主面に当たる際の断面形状は、直交する一方の軸方向の寸法が、他方の寸法に比較して、3倍以上長い。
1.本願において、実施の態様の記載は、必要に応じて、便宜上複数のセクションに分けて記載するが、特にそうでない旨明示した場合を除き、これらは相互に独立別個のものではなく、単一の例の各部分、一方が他方の一部詳細または一部または全部の変形例等である。また、原則として、同様の部分は繰り返しを省略する。また、実施の態様における各構成要素は、特にそうでない旨明示した場合、理論的にその数に限定される場合および文脈から明らかにそうでない場合を除き、必須のものではない。
実施の形態について更に詳述する。各図中において、同一または同様の部分は同一または類似の記号または参照番号で示し、説明は原則として繰り返さない。
図1は本願の一実施の形態の半導体集積回路装置の製造方法におけるダマシンCMP後のウエット洗浄の原理を説明するウエハ上面斜視図(図1(a))、高速自転の場合の側面図(図1(b))、および低速自転の場合の側面図(図1(c))である。図2は本願の一実施の形態の半導体集積回路装置の製造方法におけるダマシンCMP後のウエット洗浄で発生する埋め込み配線腐食とウエハの自転速度の関係を示すグラフである。図3は本願の一実施の形態の半導体集積回路装置の製造方法の要部プロセス・ブロック・フロー図である。これらに基づいて、本願の一実施形態の半導体集積回路装置の製造方法におけるメタルCMPおよびポストCMP洗浄プロセスのアウトラインを説明する。
図4は本願の一実施の形態の半導体集積回路装置の製造方法に使用するダマシンCMPおよびCMP後のウエット洗浄一貫装置の上面図である。図5は本願の一実施の形態の半導体集積回路装置の製造方法に使用するダマシンCMPおよびCMP後のウエット洗浄一貫装置の研磨部の研磨プラテン周辺を示す装置斜視図である。図6は本願の一実施の形態の半導体集積回路装置の製造方法に使用するダマシンCMPおよびCMP後のウエット洗浄一貫装置のポストCMP洗浄部のロール・ブラシ洗浄領域(洗浄ステージ1又は2)を示す装置斜視図である。図7は本願の一実施の形態の半導体集積回路装置の製造方法に使用するダマシンCMPおよびCMP後のウエット洗浄一貫装置のポストCMP洗浄部のペン・ブラシ洗浄領域(洗浄ステージ3)を示す装置斜視図である。図8は本願の一実施の形態の半導体集積回路装置の製造方法のダマシンCMPおよびCMP後のウエット洗浄の詳細プロセス・ブロック・フロー図である。図9は本願の一実施の形態の半導体集積回路装置の製造方法のダマシンCMP後のウエット洗浄(一部研磨プロセス中の洗浄類似処理を含む)の詳細プロセス・フローをまとめた図表である。これらに基づいて、本願の一実施形態の半導体集積回路装置の製造方法に使用するCMP装置およびその装置を用いた一貫処理を説明する。
図10は本願の一実施形態の半導体集積回路装置の製造方法による半導体集積回路装置デバイス構造を示すデバイス断面図である。図10に基づいて、本願の一実施形態の半導体集積回路装置の製造方法による半導体集積回路装置デバイス構造の概要を説明する。
図11は本願の一実施の形態の半導体集積回路装置の製造方法のダマシン配線プロセスのデバイス断面フロー図(ビア開口工程)である。図12は本願の一実施の形態の半導体集積回路装置の製造方法のダマシン配線プロセスのデバイス断面フロー図(レジスト・プラグ形成工程)である。図13は本願の一実施の形態の半導体集積回路装置の製造方法のダマシン配線プロセスのデバイス断面フロー図(配線溝開口工程)である。図14は本願の一実施の形態の半導体集積回路装置の製造方法のダマシン配線プロセスのデバイス断面フロー図(ライナー除去工程)である。図15は本願の一実施の形態の半導体集積回路装置の製造方法のダマシン配線プロセスのデバイス断面フロー図(バリア・メタル&銅シード形成工程)である。図16は本願の一実施の形態の半導体集積回路装置の製造方法のダマシン配線プロセスのデバイス断面フロー図(銅シード埋め込み工程)である。図17は本願の一実施の形態の半導体集積回路装置の製造方法のダマシン配線プロセスのデバイス断面フロー図(銅CMP工程)である。図18は本願の一実施の形態の半導体集積回路装置の製造方法のダマシン配線プロセスのデバイス断面フロー図(バリア・メタルCMP工程)である。図19は本願の一実施の形態の半導体集積回路装置の製造方法のダマシン配線プロセスのデバイス断面フロー図(上層絶縁性バリア膜形成工程)である。これらに基づいて、本願の一実施形態の半導体集積回路装置の製造方法によるデバイス断面フローをM4領域(図10)を例にとり具体的に説明する。
図20は、本願の一実施の形態の半導体集積回路装置の製造方法のCMP後のウエット洗浄(ロール・ブラシ洗浄、リンス、ペン・ブラシ洗浄等)に使用する薬液又は純水ノズルの作用(第1の例)を説明するウエハ上面図(図20(a))および、そのX−X’ウエハ模式断面図(図20(b))である。図21は本願の一実施の形態の半導体集積回路装置の製造方法のCMP後のウエット洗浄(ロール・ブラシ洗浄、リンス、ペン・ブラシ洗浄等)に使用する薬液又は純水ノズルの作用(第2の例)を説明するウエハ上面図(図21(a))および、そのX−X’ウエハ模式断面図(図21(b))である。これらに基づいて、本願の一実施形態の半導体集積回路装置の製造方法におけるポストCMP洗浄に使用する洗浄水ノズルおよびその変形例を説明する。
図22は本願の一実施の形態の半導体集積回路装置の製造方法のCMP後のペン・ブラシ洗浄におけるスキャン回数とデバイス特性の関係を示すプロット図である。図23は比較例に対応するCMP後のウエット洗浄方法(現在標準的に行われているもの)によるデバイス特性を示すプロット図である。図24は本願の一実施の形態の半導体集積回路装置の製造方法のCMP後のウエット洗浄によるデバイス特性を示すプロット図である。図25は前記図23の比較例に対応するCMP後のウエット洗浄方法の処理条件を説明する比較例の条件説明図表である。これらに基づいて、本願の一実施形態の半導体集積回路装置の製造方法によるデバイスに関する特性データ等を説明する。
以上本発明者によってなされた発明を実施形態に基づいて具体的に説明したが、本発明はそれに限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能であることは言うまでもない。
1a (ウエハ又は半導体基板の)第1の主面又はデバイス面
43 (第4層の)金属部材層(埋め込み配線)
49 配線溝
175 CMP処理
176 ウエット洗浄処理
Claims (20)
- 以下の工程を含む半導体集積回路装置の製造方法:
(a)ウエハの第1の主面上の第1の絶縁膜に配線溝を形成する工程;
(b)前記配線溝を埋めるように、前記配線溝内および前記第1の絶縁膜上に金属部材層を形成する工程;
(c)前記配線溝外の前記金属部材層を、CMP処理により、除去することにより埋め込み配線を形成する工程;
(d)前記工程(c)の後、前記埋め込み配線が形成された前記ウエハの前記第1の主面側に対して、前記ウエハを前記第1の主面を含む面内において自転させながら、ウエット洗浄処理を実行する工程;
(e)前記工程(d)の後、前記ウエハの前記第1の主面側を乾燥される工程、
ここで、前記ウエハの自転速度は、1回/分以上30回/分未満である。 - 前記1項の半導体集積回路装置の製造方法において、前記自転速度は、2回/分以上22回/分未満である。
- 前記1項の半導体集積回路装置の製造方法において、前記自転速度は、4回/分以上16回/分未満である。
- 前記1項の半導体集積回路装置の製造方法において、前記工程(c)から(e)は、CMP処理装置内で行われる。
- 前記1項の半導体集積回路装置の製造方法において、前記ウエット洗浄処理は、以下の処理を含む:
(d1)第1の回転ロール・ブラシによる第1の薬液洗浄処理;
(d2)前記第1の薬液洗浄処理の後に行われる第2の回転ロール・ブラシによる第2の薬液洗浄処理;
(d3)前記第2の薬液洗浄処理の後に行われる回転ペン・ブラシによる第3の薬液洗浄処理。 - 前記1項の半導体集積回路装置の製造方法において、前記ウエット洗浄処理は、以下の処理を含む:
(d1)第1の回転ロール・ブラシによる第1の薬液洗浄処理;
(d2)前記第1の薬液洗浄処理の後に行われる前記第2の回転ロール・ブラシによる第2の薬液洗浄処理;
(d3)前記第2の薬液洗浄処理の後に行われる回転ペン・ブラシによる第3の薬液洗浄処理;
(d4)前記第3の薬液洗浄処理の後に行われるブラシを使用しない第1のリンス処理。 - 前記1項の半導体集積回路装置の製造方法において、前記ウエット洗浄処理は、以下の処理を含む:
(d1)第1の回転ロール・ブラシによる第1の薬液洗浄処理;
(d2)前記第1の薬液洗浄処理の後に行われる第2の回転ロール・ブラシによる第2の薬液洗浄処理;
(d3)前記第2の薬液洗浄処理の後に行われる回転ペン・ブラシによる第3の薬液洗浄処理;
(d4)前記第3の薬液洗浄処理の後に行われるブラシを使用しない第1のリンス処理;
(d5)前記第2の薬液洗浄処理と前記第3の薬液洗浄処理との間に行われるブラシを使用しない第2のリンス処理。 - 前記1項の半導体集積回路装置の製造方法において、前記ウエット洗浄処理は、以下の処理を含む:
(d1)第1の回転ロール・ブラシによる第1の薬液洗浄処理;
(d2)前記第1の薬液洗浄処理の後に行われる第2の回転ロール・ブラシによる第2の薬液洗浄処理;
(d3)前記第2の薬液洗浄処理の後に行われる回転ペン・ブラシによる第3の薬液洗浄処理;
(d4)前記第3の薬液洗浄処理の後に行われるブラシを使用しない第1のリンス処理;
(d5)前記第2の薬液洗浄処理と前記第3の薬液洗浄処理との間に行われるブラシを使用しない第2のリンス処理;
(d6)前記第1の薬液洗浄処理と前記第2の薬液洗浄処理との間に行われるブラシを使用しない第3のリンス処理。 - 前記1項の半導体集積回路装置の製造方法において、前記回転ロール・ブラシの回転速度は、160回/分以上、500回/分未満である。
- 前記1項の半導体集積回路装置の製造方法において、前記回転ロール・ブラシの回転速度は、170回/分以上、400回/分未満である。
- 前記1項の半導体集積回路装置の製造方法において、前記回転ロール・ブラシの回転速度は、180回/分以上、300回/分未満である。
- 前記1項の半導体集積回路装置の製造方法において、前記リンス処理における純水ノズルの数は、複数である。
- 前記1項の半導体集積回路装置の製造方法において、前記回転ペン・ブラシの揺動は、前記ウエハの中心付近から外周部への1回である。
- 前記1項の半導体集積回路装置の製造方法において、前記埋め込み配線は、下層のバリアメタル層と上層の銅を主要な成分とする銅合金層を有する。
- 前記1項の半導体集積回路装置の製造方法において、更に、以下の工程を含む:
(f)前記工程(e)の後、前記埋め込み配線および前記第1の絶縁膜上に、絶縁性バリア膜を形成する工程。 - 前記1項の半導体集積回路装置の製造方法において、前記工程(c)は、以下の下位工程を含む:
(c1)前記配線溝外の前記金属部材層の内の銅を主要な成分とする銅合金層を、第1のCMP処理により、除去する工程;
(c2)前記配線溝外の前記金属部材層の内のバリアメタル層を、第2のCMP処理により、除去する工程。 - 前記1項の半導体集積回路装置の製造方法において、前記工程(c)は、以下の下位工程を含む:
(c1)前記配線溝外の前記金属部材層の内の銅を主要な成分とする銅合金層を、第1のCMP処理により、除去する工程;
(c2)前記配線溝外の前記金属部材層の内のバリアメタル層を、防食剤を含むスラリを用いた第2のCMP処理により、除去する工程。 - 前記1項の半導体集積回路装置の製造方法において、前記ウエット洗浄処理は、回転ロール・ブラシを用いた薬液又は純水による洗浄工程を含む。
- 前記1項の半導体集積回路装置の製造方法において、前記工程(c)は、以下の下位工程を含む:
(c1)前記配線溝外の前記金属部材層の内の銅を主要な成分とする銅合金層を、第1のCMP処理により、除去する工程;
(c2)前記配線溝外の前記金属部材層の内のバリアメタル層を、BTAを含むスラリを用いた第2のCMP処理により、除去する工程。 - 以下の工程を含む半導体集積回路装置の製造方法:
(a)ウエハの第1の主面上の第1の絶縁膜に配線溝を形成する工程;
(b)前記配線溝を埋めるように、前記配線溝内および前記第1の絶縁膜上に金属部材層を形成する工程;
(c)前記配線溝外の前記金属部材層を、CMP処理により、除去することにより埋め込み配線を形成する工程;
(d)前記工程(c)の後、前記埋め込み配線が形成された前記ウエハの前記第1の主面側に対して、ウエット洗浄処理を実行する工程;
(e)前記工程(d)の後、前記ウエハの前記第1の主面側を乾燥される工程、
ここで、前記ウエット洗浄処理は、以下の処理を含む:
(d1)第1の回転ロール・ブラシによる第1の薬液洗浄処理;
(d2)前記第1の薬液洗浄処理の後に行われる第2の回転ロール・ブラシによる第2の薬液洗浄処理;
(d3)前記第2の薬液洗浄処理の後に行われる回転ペン・ブラシによる第3の薬液洗浄処理;
(d4)前記第3の薬液洗浄処理の後に行われるブラシを使用しない第1のリンス処理;
(d5)前記第2の薬液洗浄処理と前記第3の薬液洗浄処理との間に行われるブラシを使用しない第2のリンス処理;
(d6)前記第1の薬液洗浄処理と前記第2の薬液洗浄処理との間に行われるブラシを使用しない第3のリンス処理。
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