JP2009227979A5 - - Google Patents
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Description
実施例６
高分子電解質膜の製造において、フェノチアジンに代え、Ｉｒｇａｎｏｘ５６５を用いる以外は実施例１と同様の方法で高分子電解質膜を調製した。この高分子電解質膜に対し、実施例５（ラジカル耐性評価１）よりも温和な条件でラジカル耐性を評価した。具体的には、以下のような試験条件である。その結果を表８に示す。なお、このＩｒｇａｎｏｘ５６５（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製）は以下の構造式で示される硫黄原子と窒素原子を分子内に含有する。
（ラジカル耐性評価２）
３％過酸化水素に鉄イオン濃度が４ｐｐｍになるように塩化第一鉄を溶解した塩化第一鉄水溶液を準備した。該塩化第一鉄水溶液に、高分子電解質膜を投入し、そのまま６０℃で２時間保温した。その後、高分子電解質膜を取り出し、付着している水分を十分拭き取ってから、その重量を測定した。そして、塩化第一鉄水溶液浸漬前後での重量変化率を求めることにより耐ラジカル性の評価を行った。なお、重量維持率(％)は、浸漬後の高分子電解質膜の重量を、浸漬前の高分子電解質膜の重量で除した値×１００(％)で示す。
高分子電解質膜の製造において、フェノチアジンに代え、Ｉｒｇａｎｏｘ５６５を用いる以外は実施例１と同様の方法で高分子電解質膜を調製した。この高分子電解質膜に対し、実施例５（ラジカル耐性評価１）よりも温和な条件でラジカル耐性を評価した。具体的には、以下のような試験条件である。その結果を表８に示す。なお、このＩｒｇａｎｏｘ５６５（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製）は以下の構造式で示される硫黄原子と窒素原子を分子内に含有する。
（ラジカル耐性評価２）
３％過酸化水素に鉄イオン濃度が４ｐｐｍになるように塩化第一鉄を溶解した塩化第一鉄水溶液を準備した。該塩化第一鉄水溶液に、高分子電解質膜を投入し、そのまま６０℃で２時間保温した。その後、高分子電解質膜を取り出し、付着している水分を十分拭き取ってから、その重量を測定した。そして、塩化第一鉄水溶液浸漬前後での重量変化率を求めることにより耐ラジカル性の評価を行った。なお、重量維持率(％)は、浸漬後の高分子電解質膜の重量を、浸漬前の高分子電解質膜の重量で除した値×１００(％)で示す。
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