JP2009298940A5 - - Google Patents

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  1. 下記式（Ｉ）で表される化合物からなる成分（Ａ）を７５．０〜９９．２重量％、アルカノールアミンである成分（Ｂ）を０．５〜１０．０重量％、及び、炭素数１〜６のアルキル基を有するアルキルベンゼンスルホン酸及び／又はその塩である成分（Ｃ）を０．３〜５．０重量％含有する、フラックス用洗浄剤組成物。
    Figure 2009298940
     ［上記式（Ｉ）において、Ｒ1は炭素数１〜８の炭化水素基を示し、Ｒ2は水素原子又は炭素数１〜４の炭化水素基を示し、ｎは１〜４である。］
  2. 成分（Ａ）、成分（Ｂ）及び成分（Ｃ）の総重量が９７〜１００重量％である、請求項１記載のフラックス用洗浄剤組成物。
  3. 下記式（Ｉ）で表される化合物からなる成分（Ａ）、アルカノールアミンである成分（Ｂ）、炭素数１〜６のアルキル基を有するアルキルベンゼンスルホン酸及び／又はその塩である成分（Ｃ）、及び水を含有するフラックス用洗浄剤組成物であって、
    （Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）の重量比（Ａ）／（Ｂ）／（Ｃ）が、
    ７５．０〜９９．２／０．５〜１０．０／０．３〜５．０であり、
    （Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）の合計量１００重量部に対して、水を５〜２０重量部を含有する、フラックス用洗浄剤組成物。
    Figure 2009298940
     ［上記式（Ｉ）において、Ｒ1は炭素数１〜８の炭化水素基を示し、Ｒ2は水素原子又は炭素数１〜４の炭化水素基を示し、ｎは１〜４である。］
  4. 成分（Ａ）の２５℃における動粘度が４ｍｍ2／ｓを超える、請求項１から３のいずれかに記載のフラックス用洗浄剤組成物。
  5. 請求項１から４のいずれかに記載のフラックス用洗浄剤組成物を被洗浄物に接触させることを含み、前記被洗浄物が、ハンダ付けされた部品の隙間にフラックス残渣を含む製造中間物である、フラックス残渣の洗浄方法。
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Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5414577B2 (ja) * 2010-03-09 2014-02-12 花王株式会社 硬質表面用アルカリ洗浄剤組成物
CN110225667B (zh) * 2013-09-11 2023-01-10 花王株式会社 树脂掩模层用洗涤剂组合物及电路基板的制造方法
JP6158060B2 (ja) 2013-12-10 2017-07-05 花王株式会社 半田フラックス残渣除去用洗浄剤組成物
JP6202678B2 (ja) * 2014-02-03 2017-09-27 花王株式会社 半田フラックス残渣除去用洗浄剤組成物
JP6226144B2 (ja) * 2014-02-27 2017-11-08 荒川化学工業株式会社 洗浄剤組成物原液、洗浄剤組成物および洗浄方法
JP6243792B2 (ja) * 2014-05-12 2017-12-06 花王株式会社 はんだが固化された回路基板の製造方法、電子部品が搭載された回路基板の製造方法、及び、フラックス用洗浄剤組成物
JP6345512B2 (ja) * 2014-06-30 2018-06-20 花王株式会社 半田フラックス残渣除去用洗浄剤組成物
JP6598671B2 (ja) * 2015-12-24 2019-10-30 花王株式会社 フラックス用洗浄剤組成物
JP7073655B2 (ja) * 2017-09-19 2022-05-24 荒川化学工業株式会社 洗浄剤組成物原液、及び該洗浄剤組成物原液を含む洗浄剤組成物
CN110408944A (zh) * 2019-09-10 2019-11-05 昆山市飞荣达电子材料有限公司 一种金属表面清洗方法
JP7006826B1 (ja) 2021-07-27 2022-01-24 荒川化学工業株式会社 鉛フリーはんだフラックス用洗浄剤組成物、鉛フリーはんだフラックスの洗浄方法
CN114106935B (zh) * 2021-11-04 2023-07-25 浙江奥首材料科技有限公司 一种水基型助焊剂清洗剂、其制备方法及用途

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61162597A (ja) * 1985-01-09 1986-07-23 旭電化工業株式会社 洗浄剤組成物
US6943142B2 (en) * 2002-01-09 2005-09-13 Air Products And Chemicals, Inc. Aqueous stripping and cleaning composition
US9217929B2 (en) * 2004-07-22 2015-12-22 Air Products And Chemicals, Inc. Composition for removing photoresist and/or etching residue from a substrate and use thereof
TW200734448A (en) * 2006-02-03 2007-09-16 Advanced Tech Materials Low pH post-CMP residue removal composition and method of use
JP4140923B2 (ja) * 2006-03-31 2008-08-27 花王株式会社 洗浄剤組成物

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