JP2009024164A5 - - Google Patents

Claims (11)

1. 表面を処理するための、界面活性剤を含まない、増粘貯蔵安定性液体クレンジング及び多機能性被覆組成物であって、
   前記表面に結合することができるカチオン性有機シラン第四級アンモニウム化合物、
   研磨材固体粒子であって、前記第四級化合物に対して非反応性の研磨材固体粒子、
   水溶性アルキルアリールスルホネート及び約７〜約１１のＨＬＢ数を有するエトキシル化アルコールの増粘剤組成物、及び
   液体希釈剤、
   から本質的になり、前記組成物は界面活性剤を含まず、かつ前記成分は、前記表面をクレンジングし、前記表面に多機能性被覆を結合し、それにより、その表面を水反撥性及び汚染物反撥性にするのに有効な量で存在する、前記組成物。
2. 第四級化合物が、Ｃ_８〜Ｃ_２２飽和又は不飽和炭化水素基を有する、請求項１に記載の組成物。
3. 第四級化合物が約５重量％までの量で存在し、研磨材粒子が約３５重量％までの量で存在し、増粘剤組成物が約２５重量％までの量で存在する、請求項１に記載の組成物。
4. 非反応性研磨材粒子が、シリカ、珪酸塩、金属酸化物、金属炭酸塩、粘土、炭化物、金属水酸化物、尿素、セラミック微小球、中空ガラス微小球、及びプラスチックからなる群から選択されている、請求項１に記載の組成物。
5. アルキルアリールスルホネートが、デシルベンゼンスルホン酸ナトリウム及びドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムからなる群から選択されており、
   エトキシル化アルコールが、次の式：
   Ｒ−Ｏ（ＣＨ _２ ＣＨ _２ Ｏ) _ｘ Ｈ
   （式中、Ｒ＝Ｃ _９ 〜Ｃ _１５ 、及びｘ＝約２．５〜約１２である。）
   により定義される基から選択されている、請求項１に記載の組成物。
6. 第四級化合物が、式：
   

   

   
   （式中、Ｒ ^１ ＝水素及び／又はＣ _１ 〜Ｃ _４ アルキル；Ｒ ^２ ＝Ｃ _１ 〜Ｃ _８ 個の炭素原子を有する二価炭化水素ラジカル；Ｒ ^３ ＝水素、又はＣ _１ 〜Ｃ _４ アルキル；Ｒ ^４ ＝水素、又はＣ _１ 〜Ｃ _１０ アルキル；Ｒ ^５ ＝Ｃ _８ 〜Ｃ _２２ 飽和又は不飽和炭化水素ラジカル；及びＸ＝ハロゲン基、カルボン酸基、スルホン酸基、水酸化物基、硫酸基、又は燐酸基である。）
   によって定義される、請求項１に記載の組成物。
7. 過酸化水素又はその錯体を含む、請求項１に記載の組成物。
8. 過酸化水素が約８重量％までの量で存在し、第四級化合物が約５重量％までの量で存在し、研磨材粒子が約３５重量％までの量で存在し、増粘剤が約２５重量％までの量で存在する、請求項７に記載の組成物。
9. 成分が、表面をクレンジングし、前記表面に多機能性被覆を結合し、それにより、その表面を（ａ）水反撥性及び汚染物反撥性、及び（ｂ）抗菌性にするのに有効な量で存在する、請求項１に記載の組成物。
10. 表面を処理するための、界面活性剤を含まない増粘貯蔵安定性クレンジング及び多機能性液体被覆組成物であって、
    次の式：
    

    

    
    （式中、Ｒ ^１ ＝水素及び／又はＣ _１ 〜Ｃ _４ アルキル；Ｒ ^２ ＝Ｃ _１ 〜Ｃ _８ 個の炭素原子を有する二価炭化水素ラジカル；Ｒ ^３ ＝水素、又はＣ _１ 〜Ｃ _４ アルキル；Ｒ ^４ ＝水素、又はＣ _１ 〜Ｃ _１０ アルキル；Ｒ ^５ ＝Ｃ _８ 〜Ｃ _２２ 飽和又は不飽和炭化水素ラジカル；及びＸ＝ハロゲン基、カルボン酸基、スルホン酸基、水酸化物基、硫酸基、又は燐酸基である。）
    によって定義される、約５重量％までの量の、前記表面に結合することができる単量体カチオン性有機シラン第四級アンモニウム化合物、
    研磨材固体粒子で、前記第四級化合物に対して非反応性であって、約３５重量％までの量の、研磨材固体粒子、
    水溶性アルキルアリールスルホネート及び約７．５〜約９のＨＬＢ数を有するエトキシル化アルコールの増粘剤組成物、
    前記表面をクレンジングし、前記表面に多機能性被覆を結合し、それにより、その表面を水反撥性及び汚染物反撥性にするのに有効な量の前記成分、及び
    液体希釈剤、
    から本質的になり、然も、前記組成物が界面活性剤を含まない、前記組成物。
11. 有機シラン第四級アンモニウム化合物が、次の群：
    塩化３−（トリメトキシシリル）プロピルジメチルオクタデシルアンモニウム、
    塩化３−（トリメトキシシリル）プロピルジデシルメチルアンモニウム、
    塩化３−（トリメトキシシリル）プロピルテトラデシルジメチルアンモニウム、
    塩化３−（トリメトキシシリル）プロピルジメチルソイヤアンモニウム、
    塩化３−（トリメトキシシリル）プロピルジメチルオレイルアンモニウム、
    塩化３−（トリメトキシシリル）プロピルオクタデシルアンモニウム、
    塩化３−（トリメトキシシリル）プロピルオレイルアンモニウム、
    塩化３−（トリヒドロキシシリル）プロピルジメチルオクタデシルアンモニウム、
    塩化３−（トリメトキシシリル）プロピルドコサンアンモニウム、及び
    塩化３−（トリメトキシシリル）プロピルジメチルオクチルアンモニウム、
    からなる群から選択されている、請求項１０に記載の組成物。