JP2009198485A - カラーフィルタの製造方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 62
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 18
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims abstract description 113
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 88
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims abstract description 38
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 36
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 36
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 31
- 230000007547 defect Effects 0.000 claims description 42
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 31
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 25
- 230000002950 deficient Effects 0.000 claims description 21
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 claims description 11
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 claims description 10
- 238000004876 x-ray fluorescence Methods 0.000 claims description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 13
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 9
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 9
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 5
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 101100537098 Mus musculus Alyref gene Proteins 0.000 description 3
- 101100269674 Mus musculus Alyref2 gene Proteins 0.000 description 3
- 101150095908 apex1 gene Proteins 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000005339 levitation Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000012811 non-conductive material Substances 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000009789 rate limiting process Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
- G01N23/223—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material by irradiating the sample with X-rays or gamma-rays and by measuring X-ray fluorescence
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- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/94—Investigating contamination, e.g. dust
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
- G01N2223/07—Investigating materials by wave or particle radiation secondary emission
- G01N2223/076—X-ray fluorescence
Abstract
【解決手段】液晶表示装置用の基板に付着した金属元素含有異物の有無を検査する方法であって、前記基板に付着した異物の大きさと位置とを検出する第1検査ステップと、第1検査ステップで検出された位置に位置合わせして、その異物が金属元素を含有するか否かについて検査する第2検査ステップとを備えることを特徴とする検査方法。
【選択図】図1
Description
また、特許文献3は、液晶表示装置を組み立てた後、その電極同士の短絡の有無を検査する方法を記載しているが、この方法では、短絡した液晶表示装置全体を不良品として扱うことになる。
また、併せて、本発明はこの検査方法に適用される検査装置を提供するものである。
液晶表示装置用の基板を製造する工程中で金属元素含有異物の付着した基板を選別して不良品として除去するため、その基板に付着した金属元素含有異物の有無を検査する方法であって、
前記基板に付着した異物の大きさと位置とを検出する第1検査ステップと、第1検査ステップで検出された位置に検査装置を位置合わせして、その異物が金属元素を含有するか否かについて検査する第2検査ステップとを備えており、
前記位置合わせの際に、第1検査ステップで得られた位置座標の情報をもとに異物欠陥の位置に位置合わせした後、カメラユニットを使用して異物がある場所付近の画像を取得し、この画像から異物の座標を詳細に決定して位置合わせすると共に、
異物が金属元素を含有していた場合には、その基板を不良品とすることを特徴とする検査方法である。
前記基板に付着した異物の大きさと位置とを検出する第1検査ステップと、第1検査ステップで検出された異物のうち、予め定められた基準の大きさより小さい異物について、第1検査ステップで検出された位置に検査装置を位置合わせして、その異物が金属元素を含有するか否かについて検査する第2検査ステップとを備えており、
前記位置合わせの際に、第1検査ステップで得られた位置座標の情報をもとに異物欠陥の位置に位置合わせした後、カメラユニットを使用して異物がある場所付近の画像を取得し、この画像から異物の座標を詳細に決定して位置合わせすると共に、
異物が金属元素を含有していた場合には、その基板を不良品とすることを特徴とする検査方法である。
すなわち、請求項6に記載の発明は、液晶表示装置用の基板を製造する工程中で金属元素含有異物の付着した基板を選別して不良品として除去するため、その基板に付着した金属元素含有異物を検出する装置であって、
液晶表示装置用の基板を把持する把持機構と、
蛍光X線分析ユニットを搭載した検査ヘッドと、
予め得られた前記異物の位置座標の情報をもとに異物欠陥の位置に位置合わせした後、異物がある場所付近の画像を取得するカメラユニットと、
前記カメラユニットにより得られた異物がある場所付近の画像から、異物の座標を詳細に決定する詳細位置合わせ機構と、
前記詳細位置合わせ機構により詳細に決定された異物の位置に前記蛍光X線分析ユニットを位置合わせする移動機構と、
蛍光X線分析ユニットの結果に基づいて前記異物に含有される金属元素を検査する検査手段と、
異物が金属元素を含有していた場合には、その基板を不良品とする選別手段と、
これら把持機構、検査ヘッド、移動機構及び検査手段を制御する制御手段と、
を備えることを特徴とする検査装置である。
図1は、第2検査ステップを実行するカラーフィルタの検査装置10を上面から見たときの模式図である。なお、以下では検査対象物をカラーフィルタとした場合について説明しているが、検査対象物はカラーフィルタに限らず、ガラス板を基材とし液晶表示装置に利用される基板を検査対象物とすることが可能である。
ただし、説明を簡単にするため図3においては、YRef1=YRef2=Yとした場合を示している。
10a カラーフィルタ搬送手段
11a 把持機構
11b 直動機構
12 検査ヘッド
13 検査ヘッド移動機構
14 分析手段
15 判定手段
16 制御手段
17 カラーフィルタ
21 X線検出器
22 X線源
23 蛍光X線分析ユニット
24 CCDカメラ
25 レンズ
26 照明
27 カメラユニット
29 異物欠陥
31 異物欠陥
32 パターンピッチ
33 着目点
34a 比較点1
34b 比較点2
35 取得された画像
42 処理後画像
43 画像処理によって生じた無効領域
51 異物欠陥
52 異物欠陥を含む画像の取得場所および視野
53 参照画像の取得場所および視野
54 カラーフィルタ
61 異物欠陥
62 処理後画像
71 異物欠陥
72 異物欠陥を含む画像の取得場所および視野
73 参照画像の取得場所および視野
74 カラーフィルタ
82 処理後画像
83 パターンマッチング処理によって生じた無効領域
84 参照画像のシフト量
Claims (6)
- 液晶表示装置用の基板を製造する工程中で金属元素含有異物の付着した基板を選別して不良品として除去するため、その基板に付着した金属元素含有異物の有無を検査する方法であって、
前記基板に付着した異物の大きさと位置とを検出する第1検査ステップと、第1検査ステップで検出された位置に検査装置を位置合わせして、その異物が金属元素を含有するか否かについて検査する第2検査ステップとを備えており、
前記位置合わせの際に、第1検査ステップで得られた位置座標の情報をもとに異物欠陥の位置に位置合わせした後、カメラユニットを使用して異物がある場所付近の画像を取得し、この画像から異物の座標を詳細に決定して位置合わせすると共に、
異物が金属元素を含有していた場合には、その基板を不良品とすることを特徴とする検査方法。 - 液晶表示装置用の基板を製造する工程中で金属元素含有異物の付着した基板を選別して不良品として除去するため、その基板に付着した金属元素含有異物の有無を検査する方法であって、
前記基板に付着した異物の大きさと位置とを検出する第1検査ステップと、第1検査ステップで検出された異物のうち、予め定められた基準の大きさより小さい異物について、第1検査ステップで検出された位置に検査装置を位置合わせして、その異物が金属元素を含有するか否かについて検査する第2検査ステップとを備えており、
前記位置合わせの際に、第1検査ステップで得られた位置座標の情報をもとに異物欠陥の位置に位置合わせした後、カメラユニットを使用して異物がある場所付近の画像を取得し、この画像から異物の座標を詳細に決定して位置合わせすると共に、
異物が金属元素を含有していた場合には、その基板を不良品とすることを特徴とする検査方法。 - 前記基準の大きさが径20μmであることを特徴とする請求項2に記載の検査方法。
- 前記金属元素がFe元素又はAl元素であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の検査方法。
- 前記第2検査ステップが、蛍光X線分析装置に基づくことを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の検査方法。
- 液晶表示装置用の基板を製造する工程中で金属元素含有異物の付着した基板を選別して不良品として除去するため、その基板に付着した金属元素含有異物を検出する装置であって、
液晶表示装置用の基板を把持する把持機構と、
蛍光X線分析ユニットを搭載した検査ヘッドと、
予め得られた前記異物の位置座標の情報をもとに異物欠陥の位置に位置合わせした後、異物がある場所付近の画像を取得するカメラユニットと、
前記カメラユニットにより得られた異物がある場所付近の画像から、異物の座標を詳細に決定する詳細位置合わせ機構と、
前記詳細位置合わせ機構により詳細に決定された異物の位置に前記蛍光X線分析ユニットを位置合わせする移動機構と、
蛍光X線分析ユニットの結果に基づいて前記異物に含有される金属元素を検査する検査手段と、
異物が金属元素を含有していた場合には、その基板を不良品とする選別手段と、
これら把持機構、検査ヘッド、移動機構及び検査手段を制御する制御手段と、
を備えることを特徴とする検査装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008239206A JP5272604B2 (ja) | 2008-01-21 | 2008-09-18 | カラーフィルタの製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008010300 | 2008-01-21 | ||
JP2008010300 | 2008-01-21 | ||
JP2008239206A JP5272604B2 (ja) | 2008-01-21 | 2008-09-18 | カラーフィルタの製造方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008531053A Division JP4404159B2 (ja) | 2008-01-21 | 2008-02-15 | 検査方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009198485A true JP2009198485A (ja) | 2009-09-03 |
JP5272604B2 JP5272604B2 (ja) | 2013-08-28 |
Family
ID=40900859
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008531053A Expired - Fee Related JP4404159B2 (ja) | 2008-01-21 | 2008-02-15 | 検査方法 |
JP2008239206A Active JP5272604B2 (ja) | 2008-01-21 | 2008-09-18 | カラーフィルタの製造方法 |
JP2009140922A Active JP5272909B2 (ja) | 2008-01-21 | 2009-06-12 | 検査装置 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008531053A Expired - Fee Related JP4404159B2 (ja) | 2008-01-21 | 2008-02-15 | 検査方法 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009140922A Active JP5272909B2 (ja) | 2008-01-21 | 2009-06-12 | 検査装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US7852982B2 (ja) |
JP (3) | JP4404159B2 (ja) |
WO (1) | WO2009093341A1 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011232204A (ja) * | 2010-04-28 | 2011-11-17 | Rigaku Corp | カラーフィルタ基板検査方法及び検査装置 |
WO2014034565A1 (ja) * | 2012-08-31 | 2014-03-06 | シャープ株式会社 | 膜厚測定装置 |
WO2014038405A1 (ja) * | 2012-09-07 | 2014-03-13 | シャープ株式会社 | ゲイン校正試料、膜厚測定装置およびゲイン校正方法 |
WO2014038403A1 (ja) * | 2012-09-07 | 2014-03-13 | シャープ株式会社 | 膜厚測定装置 |
WO2014038406A1 (ja) * | 2012-09-04 | 2014-03-13 | シャープ株式会社 | 膜厚測定装置 |
WO2014038404A1 (ja) * | 2012-09-04 | 2014-03-13 | シャープ株式会社 | オフセット量校正試料および膜厚測定装置 |
WO2014041990A1 (ja) * | 2012-09-11 | 2014-03-20 | シャープ株式会社 | 膜厚測定装置および膜厚測定方法 |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011169821A (ja) * | 2010-02-19 | 2011-09-01 | Sii Nanotechnology Inc | X線分析装置およびx線分析のマッピング方法 |
US8502967B2 (en) * | 2011-02-01 | 2013-08-06 | Cooper S. K. Kuo | Apparatus for optical inspection |
JP5684612B2 (ja) * | 2011-03-09 | 2015-03-18 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | X線分析装置 |
JP5956730B2 (ja) * | 2011-08-05 | 2016-07-27 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | X線分析装置及び方法 |
JP5929106B2 (ja) * | 2011-11-07 | 2016-06-01 | 凸版印刷株式会社 | 検査方法および検査装置 |
US20130215419A1 (en) * | 2012-02-22 | 2013-08-22 | Cooper S. K. Kuo | Optical inspection device |
CN102621149B (zh) * | 2012-03-21 | 2015-07-22 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 基板的检测装置及方法 |
KR20140101612A (ko) * | 2013-02-12 | 2014-08-20 | 삼성디스플레이 주식회사 | 결정화 검사장치 및 결정화 검사방법 |
WO2016165828A1 (de) * | 2015-04-15 | 2016-10-20 | Yxlon International Gmbh | Verfahren zum prüfen eines elektronischen bauteils |
JP6679049B2 (ja) * | 2018-09-28 | 2020-04-15 | 株式会社リガク | 測定装置、プログラム及び測定装置の制御方法 |
US11867645B2 (en) * | 2018-10-18 | 2024-01-09 | Security Matters Ltd. | System and method for detection and identification of foreign elements in a substance by X-ray or Gamma-ray detection and emission |
FR3111703B1 (fr) * | 2020-06-18 | 2022-05-20 | Skf Svenska Kullagerfab Ab | Procédé de détection d’un défaut critique pour élément roulant en matériau céramique |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07325041A (ja) * | 1994-06-02 | 1995-12-12 | Mitsubishi Electric Corp | 微小異物の位置決め方法、分析方法、これに用いる分析装置およびこれを用いた半導体素子もしくは液晶表示素子の製法 |
JPH08145849A (ja) * | 1994-11-22 | 1996-06-07 | Yokogawa Electric Corp | カラーフィルタ検査装置 |
JPH11316201A (ja) * | 1998-01-30 | 1999-11-16 | Rigaku Industrial Co | 試料表面の検査方法およびこれを使用するx線分析装置 |
JP2002082217A (ja) * | 2000-06-28 | 2002-03-22 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルタ異物除去方法 |
JP2004117062A (ja) * | 2002-09-24 | 2004-04-15 | Seiko Epson Corp | 電気光学パネル用基板の検査方法、電気光学パネル用基板の製造方法、電気光学パネル用基板、電気光学装置および電子機器 |
JP2005181015A (ja) * | 2003-12-17 | 2005-07-07 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルタの検査方法及び検査装置 |
JP2006208137A (ja) * | 2005-01-27 | 2006-08-10 | Seiko Epson Corp | マトリクス構造の欠陥検出方法およびマトリクス構造の欠陥検出装置 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07119717B2 (ja) * | 1989-12-12 | 1995-12-20 | シャープ株式会社 | 半導体材料評価装置 |
US5461654A (en) * | 1992-04-07 | 1995-10-24 | Grodzins; Lee | X-ray fluorescence detector |
JP2843529B2 (ja) * | 1994-07-06 | 1999-01-06 | 理学電機工業株式会社 | 蛍光x線分析装置 |
JPH08145901A (ja) * | 1994-11-21 | 1996-06-07 | Hitachi Electron Eng Co Ltd | 透明金属薄膜基板の異物検査装置 |
JP2813147B2 (ja) * | 1995-02-14 | 1998-10-22 | 三菱電機株式会社 | 微小異物の分析方法、分析装置およびこれらを用いる半導体素子もしくは液晶表示素子の製法 |
JPH11132720A (ja) * | 1997-10-30 | 1999-05-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 点欠陥検出装置及び方法 |
JP2000009661A (ja) * | 1998-06-26 | 2000-01-14 | Ntn Corp | フラットパネル検査装置 |
JP2001196429A (ja) * | 2000-01-06 | 2001-07-19 | Mitsubishi Electric Corp | 歩留まり管理システムおよびその対象物とされた装置 |
JP3746433B2 (ja) * | 2001-03-02 | 2006-02-15 | 日本板硝子株式会社 | ガラス製品の製造方法及び製造装置 |
US20030068829A1 (en) * | 2001-06-25 | 2003-04-10 | Symyx Technologies, Inc. | High throughput crystallographic screening of materials |
JP2003149183A (ja) * | 2001-11-09 | 2003-05-21 | Nippon Light Metal Co Ltd | Al−Fe系化合物のEPMA同定法 |
JP4388270B2 (ja) * | 2002-11-18 | 2009-12-24 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 表面検査方法及び表面検査装置 |
JP2005055265A (ja) * | 2003-08-01 | 2005-03-03 | Hitachi High-Tech Electronics Engineering Co Ltd | X線分析装置、x線分析方法、及び表面検査装置 |
JP2006189281A (ja) * | 2005-01-05 | 2006-07-20 | Hitachi High-Technologies Corp | 表面検査装置及び表面検査方法 |
US7245695B2 (en) * | 2005-04-11 | 2007-07-17 | Jordan Valley Applied Radiation Ltd. | Detection of dishing and tilting using X-ray fluorescence |
-
2008
- 2008-02-15 WO PCT/JP2008/052560 patent/WO2009093341A1/ja active Application Filing
- 2008-02-15 JP JP2008531053A patent/JP4404159B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2008-09-18 JP JP2008239206A patent/JP5272604B2/ja active Active
-
2009
- 2009-06-12 JP JP2009140922A patent/JP5272909B2/ja active Active
- 2009-11-24 US US12/625,174 patent/US7852982B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2010
- 2010-11-04 US US12/939,382 patent/US8358735B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07325041A (ja) * | 1994-06-02 | 1995-12-12 | Mitsubishi Electric Corp | 微小異物の位置決め方法、分析方法、これに用いる分析装置およびこれを用いた半導体素子もしくは液晶表示素子の製法 |
JPH08145849A (ja) * | 1994-11-22 | 1996-06-07 | Yokogawa Electric Corp | カラーフィルタ検査装置 |
JPH11316201A (ja) * | 1998-01-30 | 1999-11-16 | Rigaku Industrial Co | 試料表面の検査方法およびこれを使用するx線分析装置 |
JP2002082217A (ja) * | 2000-06-28 | 2002-03-22 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルタ異物除去方法 |
JP2004117062A (ja) * | 2002-09-24 | 2004-04-15 | Seiko Epson Corp | 電気光学パネル用基板の検査方法、電気光学パネル用基板の製造方法、電気光学パネル用基板、電気光学装置および電子機器 |
JP2005181015A (ja) * | 2003-12-17 | 2005-07-07 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルタの検査方法及び検査装置 |
JP2006208137A (ja) * | 2005-01-27 | 2006-08-10 | Seiko Epson Corp | マトリクス構造の欠陥検出方法およびマトリクス構造の欠陥検出装置 |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011232204A (ja) * | 2010-04-28 | 2011-11-17 | Rigaku Corp | カラーフィルタ基板検査方法及び検査装置 |
JP2014048182A (ja) * | 2012-08-31 | 2014-03-17 | Sharp Corp | 膜厚測定装置 |
WO2014034565A1 (ja) * | 2012-08-31 | 2014-03-06 | シャープ株式会社 | 膜厚測定装置 |
CN104412062A (zh) * | 2012-08-31 | 2015-03-11 | 夏普株式会社 | 膜厚测定装置 |
WO2014038406A1 (ja) * | 2012-09-04 | 2014-03-13 | シャープ株式会社 | 膜厚測定装置 |
WO2014038404A1 (ja) * | 2012-09-04 | 2014-03-13 | シャープ株式会社 | オフセット量校正試料および膜厚測定装置 |
JP2014048274A (ja) * | 2012-09-04 | 2014-03-17 | Sharp Corp | 膜厚測定装置 |
JP2014048275A (ja) * | 2012-09-04 | 2014-03-17 | Sharp Corp | オフセット量校正試料および膜厚測定装置 |
WO2014038403A1 (ja) * | 2012-09-07 | 2014-03-13 | シャープ株式会社 | 膜厚測定装置 |
JP2014052312A (ja) * | 2012-09-07 | 2014-03-20 | Sharp Corp | 膜厚測定装置 |
WO2014038405A1 (ja) * | 2012-09-07 | 2014-03-13 | シャープ株式会社 | ゲイン校正試料、膜厚測定装置およびゲイン校正方法 |
CN104412061A (zh) * | 2012-09-07 | 2015-03-11 | 夏普株式会社 | 膜厚测定装置 |
WO2014041990A1 (ja) * | 2012-09-11 | 2014-03-20 | シャープ株式会社 | 膜厚測定装置および膜厚測定方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5272909B2 (ja) | 2013-08-28 |
US8358735B2 (en) | 2013-01-22 |
JP5272604B2 (ja) | 2013-08-28 |
JPWO2009093341A1 (ja) | 2011-05-26 |
JP2009258114A (ja) | 2009-11-05 |
US20110080998A1 (en) | 2011-04-07 |
US20100074405A1 (en) | 2010-03-25 |
JP4404159B2 (ja) | 2010-01-27 |
WO2009093341A1 (ja) | 2009-07-30 |
US7852982B2 (en) | 2010-12-14 |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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