JP2009196904A - 環状化合物及びその製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】各種有機溶媒に溶解可能であり、かつ均一な組成を有するカリックスアレーン系の環状化合物を提供すること。
【解決手段】一般式(1)中のRのうち、水素原子以外の基の置換数の分布の標準偏差が1.0以下である一般式(1)で表される環状化合物。
Figure 2009196904

【選択図】なし

Description

本発明は、環状化合物及びその製造方法に関する。更に詳しくは、絶縁膜、フォトレジスト等の電子材料用途への利用が特に期待できる、カリックスアレーン系の新規な環状化合物、及びその製造方法に関する。
環状化合物であるカリックスアレーン系化合物(以下、「カリックスアレーン系環状化合物」と記載する)は、一般にはフェノール、レゾルシノール等のフェノール系化合物とアルデヒド系化合物とを縮合させることで得られる環状オリゴマーである。カリックスアレーン系環状化合物は、近年、ホスト−ゲスト化学の分野においてクラウンエーテル、シクロデキストリンに次ぐ、第三の包接化合物として注目されている。
カリックスアレーン系環状化合物は、通常、一分子内に多くの水酸基を有するものであり、熱的安定性に優れ、高いガラス転移温度と高融点を有することから、優れた機能性材料として注目されている。例えば、p−メチルカリックス[6]アレーンヘキサアセテートの電子線ネガ型フォトレジストへの応用(例えば、非特許文献1参照)や、カリックス[4]レゾルシンアレーン、架橋剤、及び光酸発生剤等を用いたアルカリ現像型のネガ型フォトレジストへの応用(例えば、非特許文献2参照)等が報告されている。
また、高性能な光硬化材料へ応用することを目的としたラジカル重合性官能基やカチオン重合性官能基が導入されたカリックスアレーン系環状化合物、及び高解像度のレジスト材料へ応用することを目的とした保護基が導入されたカリックスアレーン系環状化合物の合成、並びにその光反応特性についての評価が報告されている(例えば、非特許文献3,4参照)。
更に、種々のカチオン重合性官能基を有するp−アルキルカリックス[n]アレーン環状化合物の合成とその光カチオン重合についての検討が報告されている(例えば、非特許文献5参照)。
Y.Ochiai,S.Manako,H.Yamamoto,T.Teshima,J.Fujita,and E.Nomura:J.Photopolymer.Sci.Tech.,13,413(2000) T.Nakayama,M.Nomura,K.Haga,and M.Ueda:Bull.Chem.Soc.Jpn.,71,2979(1998) T.Nishikubo,A.Kameyama,H.Kudo,and K.Tsutsui:J.Polym.Sci.Part A.Polym.Chem.,39,1293(2002) T.Nishikubo,A.Kameyama,and H.Kudo:Polym.J.,35,213(2003) K.Tsutsui,S.Kishimoto,A.Kameyama,and T.Nishikubo:Polym.Prep.Jpn.,37,1805(1999)
カリックスアレーン系環状化合物に官能基を導入する反応は、フェノール性水酸基が全て無置換のカリックスアレーン系環状化合物を出発原料とする。当該出発原料は非常に溶解性に乏しいため、官能基を導入する置換反応においては、ごく限られた有機溶媒しか用いることができないという問題があった。また、当該置換反応では、官能基はランダムに導入されるため、均一な組成で目的とする生成物を得ることができないという問題があった。これらの問題が、カリックスアレーン系の新規な環状化合物の自由な分子設計を行う上で多大な障害となっていた。
本発明は、このような従来技術の有する問題点に鑑みてなされたものであり、その課題とするところは、各種有機溶媒に溶解可能であり、かつ均一な組成を有するカリックスアレーン系の環状化合物及びその製造方法を提供することにある。
本発明者らは上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、官能基を導入する置換反応をアルカリ水溶液中で行うことによって、上記課題を達成することが可能であることを見出した。また、当該置換反応において、アルカリ水溶液のpHを変えることで任意の置換率で官能基を導入することが可能であることを見出した。更に、当該置換反応で合成されたカリックスアレーン系環状化合物は、官能基の置換率を制御することにより、アルカリ水溶液にも溶解可能となることを見出した。本発明はこのような知見に基づき完成するに至った。
即ち、本発明によれば、以下に示す環状化合物及びその製造方法が提供される。
[1]下記一般式(1)中のRのうち、水素原子以外の基の置換数の分布の標準偏差が1.0以下である下記一般式(1)で表される環状化合物。
Figure 2009196904
前記一般式(1)中、Rは、相互に独立に、水素原子、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルキル基、又は炭素数3〜20の置換若しくは非置換の脂環式炭化水素基であり、複数のRのうちの少なくとも一つは水素原子である。Rは、相互に独立に、炭素数1〜8の置換又は非置換のアルキレン基である。Yは、相互に独立に、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルキル基、炭素数2〜10の置換若しくは非置換のアルケニル基、炭素数2〜10の置換若しくは非置換のアルキニル基、炭素数7〜10の置換若しくは非置換のアラルキル基、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルコキシ基、又は置換若しくは非置換のフェノキシ基である。qは、相互に独立に、0又は1である。
[2]下記一般式(2)で表される、前記置換数の分布の標準偏差が1.0以下である前記[1]に記載の環状化合物。
Figure 2009196904
前記一般式(2)中、Rは、相互に独立に、水素原子、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルキル基、又は炭素数3〜20の置換若しくは非置換の脂環式炭化水素基であり、複数のRのうちの少なくとも一つは水素原子である。
[3]下記一般式(3)で表される化合物と下記一般式(4)で表される化合物を、アルカリ水溶液中で反応させることを含む環状化合物の製造方法。
Figure 2009196904
前記一般式(3)中、Rは、相互に独立に、炭素数1〜8の置換又は非置換のアルキレン基である。Yは、相互に独立に、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルキル基、炭素数2〜10の置換若しくは非置換のアルケニル基、炭素数2〜10の置換若しくは非置換のアルキニル基、炭素数7〜10の置換若しくは非置換のアラルキル基、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルコキシ基、又は置換若しくは非置換のフェノキシ基である。qは、相互に独立に、0又は1である。
Figure 2009196904
前記一般式(4)中、Rは、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルキル基、又は炭素数3〜20の置換若しくは非置換の脂環式炭化水素基であり、Xは、Cl、Br、又はIである。
本発明の環状化合物は、各種有機溶媒に溶解可能であり、かつ均一な組成を有するという効果を奏するものである。
本発明の環状化合物の製造方法によれば、各種有機溶媒に溶解可能であり、かつ均一な組成を有する環状化合物を効率的に製造することができる。
以下、本発明の実施の最良の形態について説明するが、本発明は以下の実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、当業者の通常の知識に基づいて、以下の実施の形態に対し適宜変更、改良等が加えられたものも本発明の範囲に入ることが理解されるべきである。
(1)環状化合物
本発明の環状化合物は、一般式(1)中のRのうち、水素原子以外の基(以下、「疎水性基」ともいう)の置換数の分布の標準偏差が1.0以下である一般式(1)で表される環状化合物である。また、疎水性基の置換数の分布の標準偏差(以下、「標準偏差」と記載する)は、0.5以下であることが好ましく、0.3以下であることが更に好ましい。標準偏差が1.0超であると、アルカリ水溶液に不溶となる場合がある。なお、標準偏差の下限は特に限定されるものではないが、実質的には0.1以上である。なお、本明細書中、「疎水性基」とは、一般式(1)及び(2)中、Rとして表される基のうち、水素原子以外の基、即ち、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルキル基、又は炭素数3〜20の置換若しくは非置換の脂環式炭化水素基をいう。
なお、本発明の環状化合物は、実質的には、Rで表される疎水性基の置換数の異なる複数種類の化合物の集合物(混合物、組成物)である。
Figure 2009196904
一般式(1)中、Rは、相互に独立に、水素原子、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルキル基、又は炭素数3〜20の置換若しくは非置換の脂環式炭化水素基であり、複数のRのうちの少なくとも一つは水素原子である。Rは、相互に独立に、炭素数1〜8の置換又は非置換のアルキレン基である。Yは、相互に独立に、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルキル基、炭素数2〜10の置換若しくは非置換のアルケニル基、炭素数2〜10の置換若しくは非置換のアルキニル基、炭素数7〜10の置換若しくは非置換のアラルキル基、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルコキシ基、又は置換若しくは非置換のフェノキシ基である。qは、相互に独立に、0又は1である。
ここで、本明細書にいう標準偏差は以下のようにして算出する。商品名「MALDI−TOF−MASS」(型番 SHIMAZU/KRATOSマトリックス支援レーザーイオン化飛行時間型質量分析装置 KOMPACT MALDI IV tDE、島津製作所社製)を用いて一般式(1)で表される化合物を質量分析する。質量分析の結果に基づき、式(5)により算出することができる。
Figure 2009196904
式(5)中、mは導入された置換基の数(0〜24の整数)を示し、f(m)は導入された置換基の数がmのときのピーク強度を示す。
ここで、導入された置換基の数は、各ピークにおける分子量から一般式(1)で表される化合物の分子量を差し引き、24個分の水素原子を加えた分子量を、導入に使用した化合物から脱離基を差し引いた分子量で割ることにより算出することができる。
導入した疎水性基の置換率については、疎水性基の種類や、用途によって様々である。例えば、フォトレジスト等の感光性材料のベースポリマーとして使用する場合には、有機溶媒にもアルカリ現像液にも溶解可能であることが望ましいため、疎水性基の置換率は1mol%〜90mol%であることが好ましく、5mol%〜80mol%であることが更に好ましく、10mol%〜70mol%であることが特に好ましい。なお、本明細書にいう、「疎水性基の置換率」とは、環状化合物中の全てのRに対する疎水性基の割合をいう。
本発明の環状化合物は、フェノール性水酸基及びフェノール性水酸基を保護する疎水性基を少なくとも一つずつは有している。疎水性基による効果のために各種有機溶媒に溶解可能となり、フェノール性水酸基による効果のためにアルカリ水溶液に溶解可能となる。
一般式(1)中、Rとして表される基のうち、炭素数1〜10の置換又は非置換のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、へキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基等の直鎖状又は分岐状のアルキル基;これらのアルキル基をメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の置換基で置換した基がある。
また、炭素数3〜20の置換又は非置換の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、ノルボルニル基、アダマンチル基等のシクロアルキル基;シクロペンチルメチル基、シクロヘキシルメチル基等のシクロアルキルアルキル基;これらのシクロアルキル基をメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の置換基で置換した基がある。
一般式(1)中、Rとして表される基のうち、炭素数1〜8の置換又は非置換のアルキレン基としては、例えば、プロピレン基、ブチレン基、ペンテン基等の直鎖状又は分岐状のアルキレン基;これらのアルキレン基をメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の置換基で置換した基がある。
一般式(1)中、Yとして表される基のうち、炭素数1〜10の置換又は非置換のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、へキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基等の直鎖状又は分岐状のアルキル基;これらのアルキル基をメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の置換基で置換した基がある。
また、炭素数2〜10の置換又は非置換のアルケニル基としては、例えば、ビニル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基等の直鎖状又は分岐状のアルケニル基;これらのアルケニル基をメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の置換基で置換した基がある。
更に、炭素数2〜10の置換又は非置換のアルキニル基としては、例えば、エチニル基、2−プロピニル基、1−メチル−2−プロピニル基、2−ブチニル基、3−ブチニル基、2−メチル−2−ブチニル基等の直鎖状又は分岐状のアルキニル基;これらのアルキニル基をメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の置換基で置換した基がある。
また、炭素数7〜10の置換又は非置換のアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基等の直鎖状又は分岐状のアラルキル基;これらのアラルキル基をメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の置換基で置換した基がある。
更に、炭素数1〜10の置換又は非置換のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等の直鎖状又は分岐状のアルコキシ基;これらのアルコキシ基をメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の置換基で置換した基がある。
また、本発明の環状化合物は、一般式(2)で表される、標準偏差が1.0以下である環状化合物であることが好ましい。また、標準偏差が、0.5以下であることが更に好ましく、0.3以下であることが特に好ましい。標準偏差が1.0超であると、アルカリ水溶液に不溶となる場合がある。なお、標準偏差の下限は特に限定されるものではないが、実質的には0.1以上である。
Figure 2009196904
一般式(2)中、Rは、相互に独立に、水素原子、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルキル基、又は炭素数3〜20の置換若しくは非置換の脂環式炭化水素基であり、複数のRのうち少なくとも一つは水素原子である。
一般式(2)中、Rとして表される基のうち、炭素数1〜10の置換又は非置換のアルキル基としては、前記炭素数1〜10の置換又は非置換のアルキル基として例示したものがある。
また、炭素数3〜20の置換又は非置換の脂環式炭化水素基としては、前記炭素数3〜20の置換又は非置換の脂環式炭化水素基として例示したものがある。
更に、本発明の環状化合物は、一般式(2)中のRが、相互に独立に、水素原子、又は炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルキル基であり、有機溶媒とアルカリ水溶液のいずれにも溶解可能な環状化合物であることが更に好ましい。有機溶媒とアルカリ水溶液のいずれにも溶解可能であることによって、例えば本願の環状化合物を含む感放射線性樹脂組成物を用いて形成される膜を露光し、アルカリ水溶液で現像することにより所望のパターンを形成することが可能となる。尚、ここでいうアルカリ水溶液とは後述する本環状化合物を合成する際に用いられるアルカリ水溶液よりも強い塩基性を有するアルカリ水溶液である。
有機溶媒としては、例えば、アセトン、酢酸ブチル、酢酸エチル、N−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド等がある。また、アルカリ水溶液としては、例えば、2.38質量%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液、5質量%水酸化ナトリウム水溶液、5質量%水酸化カリウム水溶液、10質量%炭酸カリウム水溶液等がある。
(2)環状化合物の製造方法
本発明の環状化合物の製造方法は、一般式(3)で表される化合物と一般式(4)で表される化合物をアルカリ水溶液中で反応させることを含む方法である。以下、詳細に説明する。
Figure 2009196904
一般式(3)中、Rは、相互に独立に、炭素数1〜8の置換又は非置換のアルキレン基である。Yは、相互に独立に、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルキル基、炭素数2〜10の置換若しくは非置換のアルケニル基、炭素数2〜10の置換若しくは非置換のアルキニル基、炭素数7〜10の置換若しくは非置換のアラルキル基、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルコキシ基、又は置換若しくは非置換のフェノキシ基である。qは、相互に独立に、0又は1である。
Figure 2009196904
一般式(4)中、Rは、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルキル基、又は炭素数3〜20の置換若しくは非置換の脂環式炭化水素基であり、Xは、Cl、Br、又はIである。
先ず、一般式(3)で表される化合物の合成方法について記載する。一般式(3)で表される化合物は、例えば、一般式(5−1)又は(5−2)で表される化合物と、一般式(6)で表される化合物とを溶媒中、触媒の存在下で脱水縮合させることで合成することができる。また、一般式(6)で表される化合物の代わりに一般式(7)で表される化合物を用いることもできる。
Figure 2009196904
一般式(5−1)及び(5−2)中、Yは、水素原子、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルキル基、炭素数2〜10の置換若しくは非置換のアルケニル基、炭素数2〜10の置換若しくは非置換のアルキニル基、炭素数7〜10の置換若しくは非置換のアラルキル基、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルコキシ基、又は置換若しくは非置換のフェノキシ基である。
Figure 2009196904
一般式(6)中、Rは、炭素数1〜8の置換又は非置換のアルキレン基である。
Figure 2009196904
一般式(7)中、Rは、炭素数1〜8の置換又は非置換のアルキレン基である。
一般式(5−1)又は(5−2)で表される化合物100質量部に対し、一般式(6)又は(7)で表される化合物の使用量は、100質量部〜800質量部であることが好ましく、200質量部〜600質量部であることが更に好ましく、300質量部〜500質量部であることが特に好ましい。
縮合反応に用いられる溶媒としては、例えば、有機溶剤が好ましく、アルコール系溶媒が更に好ましい。アルコール系溶媒として、具体的には、メチルアルコール、エチルアルコール、n−ブチルアルコール、イソプロピルアルコール等が挙げられるが、これらの中でもメチルアルコール、エチルアルコールが特に好ましい。溶媒の使用量は、反応に用いる化合物の合計量に対し、5質量%〜80質量%であることが好ましく、10質量%〜70質量%であることが更に好ましく、20質量%〜70質量%であることが特に好ましい。溶媒の使用量が5質量%未満であると、反応に用いる化合物の溶解が不十分な場合がある。一方、溶媒の使用量が80質量%超であると、反応が著しく遅くなる場合がある。
触媒としては、酸触媒が好適に用いられる。具体的には、塩酸、硫酸等が挙げられる。触媒の使用量は、一般式(5−1)又は(5−2)で表される化合物100質量部に対し、20質量部〜500質量部であることが好ましく、50質量部〜300質量部であることが更に好ましく、70質量部〜200質量部であることが特に好ましい。
反応条件として、反応時間は、通常、1時間〜168時間であり、好ましくは3時間〜150時間であり、更に好ましくは5時間〜120時間である。反応時間が1時間未満であると、反応が十分に進行していない場合がある。一方、反応時間が168時間超であると、生成物が分解する場合がある。また、反応温度は、通常、−20℃〜90℃であり、好ましくは−10℃〜90℃であり、更に好ましくは0℃〜85℃である。反応温度が−20℃未満であると、反応が進行しない場合がある。一方、反応温度が90℃超であると、生成物が分解する場合がある。
次に、合成した一般式(3)で表される化合物と、一般式(4)で表される化合物を、アルカリ水溶液中で反応させることで、本発明の環状化合物を製造することができる。なお、本発明の環状化合物は、実質的には、Rで表される疎水性基の置換数の異なる複数種類の化合物の集合物(混合物、組成物)として得られるものである。
一般式(4)で表される化合物として、具体的には、メチルブロマイド、エチルブロマイド、プロピルブロマイド、イソプロピルブロマイド、n−ブチルブロマイド、イソブチルブロマイド、tert−ブチルブロマイド、ペンチルブロマイド、イソペンチルブロマイド、ネオペンチルブロマイド等の低級の直鎖状又は分岐状のアルキルブロマイドを好適に用いることができる。
一般式(3)で表される化合物と一般式(4)で表される化合物の割合は特に制限されるものではないが、収率の観点から、一般式(3)で表される化合物のフェノール性水酸基100mol%に対して、一般式(4)で表される化合物の割合は、1mol%〜200mol%であることが好ましく、10mol%〜100mol%であることが更に好ましく、20mol%〜80mol%であることが特に好ましい。一般式(4)で表される化合物の割合が1mol%未満であると、目的とする化合物の収率が低下する場合がある。一方、一般式(4)で表される化合物の割合が200mol%超であると、生成物中に残留した一般式(4)で表される化合物が多いため、分離精製が困難になる場合がある。
アルカリ水溶液は、一般式(3)及び(4)で表される化合物に対して不活性であり、かつこれらの化合物を溶解しうるものなら特に制限されるものではない。例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド等の水溶液がある。
アルカリ水溶液の濃度は、一般的には、0.1質量%〜30質量%であり、好ましくは0.5質量%〜20質量%であり、更に好ましくは1質量%〜15質量%である。アルカリ水溶液の濃度が0.1質量%未満であると、一般式(3)で表される化合物を溶解することが困難になる場合がある。一方、アルカリ水溶液の濃度が30質量%超であると、環状化合物が沈殿物として沈降しにくくなり、疎水性基の置換率の制御が困難になる場合がある。なお、アルカリ水溶液の濃度を変えることにより、疎水性基の置換率を任意に変更することができる。
本反応の原理について記載する。一般式(3)で表される化合物はフェノール性水酸基を多数有しているため、アルカリ水溶液に溶解可能である。しかし、反応が進行するにつれて、フェノール性水酸基が疎水性基で保護されることにより、反応生成物の疎水性が向上する。反応生成物の疎水性基の置換率が特定の値に達した時点で、反応生成物は当該アルカリ水溶液には不溶となり、沈殿物として溶液内に沈降する。溶液内に沈降した沈殿物に対しては、それ以上反応が進行しないために、所望の疎水性基の置換率の(即ち、標準偏差が1.0以下である)環状化合物を製造することができる。一方、当該反応を有機溶媒中で行うと、反応が進行するにつれて、疎水性基の置換率が増加するために、反応生成物の有機溶媒に対する溶解性が増加する。そのため、所望の疎水性基の置換率の(即ち、標準偏差が1.0以下である)環状化合物を製造することが極めて困難になる。
以下、本発明を実施例に基づいて具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、実施例、比較例中の「部」及び「%」は、特に断らない限り質量基準である。また、各種物性値の測定方法、及び諸特性の評価方法を以下に示す。
[質量分析]:商品名「MALDI−TOF−MS」(型番SHIMAZU/KRATOSマトリックス支援レーザーイオン化飛行時間型質量分析装置 KOMPACT MALDI IV tDE、島津製作所社製)を用いて分析した。
[疎水性基の置換率(mol%)]:H−NMR分析(商品名「ECP−500」、日本電子社製)及び電位差滴定(商品名「電位自動滴定装置AT−510」、京都電子工業株式会社製)により測定した。
[疎水性基の置換数の分布の標準偏差]:得られた化合物を質量分析し、質量分析の結果に基づき、式(5)により算出することができる。
Figure 2009196904
式(5)中、mは導入された置換基の数(0〜24の整数)を示し、f(m)は導入された置換基の数がmのときのピーク強度を示す。
ここで、導入された置換基の数は、各ピークにおける分子量から一般式(1)で表される化合物の分子量を差し引き、24個分の水素原子を加えた分子量を、導入に使用した化合物から脱離基を差し引いた分子量で割ることにより算出した値である。
(合成例1)
レゾルシノール2.20gと、2,5−ジメトキシテトラヒドロフラン0.79gとを、エタノール6mLに添加し、12Nの塩酸2mLを加え、80℃で24時間加熱した。反応液をメタノールに注いで固体を得、この固体を約200mLのメタノールで洗浄し、真空下60℃、24時間の条件で乾燥することにより、収率29%で下記の構造を有する淡黄色固体(S)を合成した。
合成した淡黄色固体(S)は質量分析の結果から、環状オリゴマーであるカリックス[4]レゾルシンアレーンの繰り返し単位を有する化合物であると同定された。
Figure 2009196904
(実施例1)
合成した淡黄色固体(S)1.71gを、5%炭酸カリウム水溶液160gに溶解し、還流下でブロモブタン3.32gを添加し、6時間攪拌した。反応終了後、沈殿物を減圧濾過により採取し、酢酸ブチル100gに溶解して5%シュウ酸水で2回酸洗浄した。その後、減圧乾燥し、2.00gの化合物(A−1)を得た。得られた化合物(A−1)の疎水性基の置換率は、H−NMR分析及び電位差滴定の結果共に50mol%であり、他の置換率の化合物は検出されなかった。この化合物は、アセトン、酢酸ブチル、酢酸エチル、N−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド等の有機溶媒及び、2.38%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液、5%水酸化ナトリウム水溶液、5%水酸化カリウム水溶液、10%炭酸カリウム水溶液等のアルカリ水溶液に溶解可能であった。また、標準偏差は0.25であった。
Figure 2009196904
(実施例2)
5%炭酸カリウム水溶液を4%炭酸カリウム水溶液に変えたこと以外は実施例1と同様の方法で行い1.85gの化合物(A−2)を得た。得られた化合物(A−2)の疎水性基の置換率は、H−NMR分析及び電位差滴定の結果共に30mol%であり、他の置換率の化合物は検出されなかった。この化合物は、アセトン、酢酸ブチル、酢酸エチル、N−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド等の有機溶媒及び、2.38%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液、5%水酸化ナトリウム水溶液、5%水酸化カリウム水溶液、10%炭酸カリウム水溶液等のアルカリ水溶液に溶解可能であった。また、標準偏差は0.21であった。
Figure 2009196904
(実施例3)
ブロモブタン3.32gをブロモペンタン3.62gに変えたこと以外は実施例1と同様の方法で行い2.35gの化合物(A−3)を得た。得られた化合物(A−3)の疎水性基の置換率は、H−NMR分析及び電位差滴定の結果共に25mol%であり、他の置換率の化合物は検出されなかった。この化合物は、アセトン、酢酸ブチル、酢酸エチル、N−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド等の有機溶媒及び、2.38%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液、5%水酸化ナトリウム水溶液、5%水酸化カリウム水溶液、10%炭酸カリウム水溶液等のアルカリ水溶液に溶解可能であった。また、標準偏差は0.25であった。
Figure 2009196904
(比較例1)
5%炭酸カリウム水溶液をジメチルスルホキシドに変えたこと以外は実施例1と同様の方法で合成を行い2.55gの化合物(A−4)を得た。得られた化合物(A−4)のH−NMR分析による疎水性基の置換率は、検出ピークがブロードであったため同定できなかった。また、電位差滴定の結果による疎水性基の置換率は、40mol%〜98mol%の範囲であった。この化合物は、アセトン、酢酸ブチル、酢酸エチル、N−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド等の有機溶媒には溶解可能であったが、2.38%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液、5%水酸化ナトリウム水溶液、5%水酸化カリウム水溶液、10%炭酸カリウム水溶液等のアルカリ水溶液には不溶であった。また、標準偏差は1.5であった。
Figure 2009196904
本発明の環状化合物は、各種有機溶媒及びアルカリ水溶液に溶解可能であるため各種用途に応じた修飾反応を施すことが可能であり、絶縁膜やフォトレジスト等の電子材料用途材料の出発原料として有用である。また本発明の環状化合物の製造方法によれば、任意の割合で官能基をカリックスアレーン系環状化合物に導入することができるため、各種の電子材料用途に対応した環状化合物を提供することができ、極めて有用である。

Claims (3)

  1. 下記一般式(1)中のRのうち、水素原子以外の基の置換数の分布の標準偏差が1.0以下である下記一般式(1)で表される環状化合物。
    Figure 2009196904
    (前記一般式(1)中、Rは、相互に独立に、水素原子、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルキル基、又は炭素数3〜20の置換若しくは非置換の脂環式炭化水素基であり、複数のRのうちの少なくとも一つは水素原子である。Rは、相互に独立に、炭素数1〜8の置換又は非置換のアルキレン基である。Yは、相互に独立に、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルキル基、炭素数2〜10の置換若しくは非置換のアルケニル基、炭素数2〜10の置換若しくは非置換のアルキニル基、炭素数7〜10の置換若しくは非置換のアラルキル基、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルコキシ基、又は置換若しくは非置換のフェノキシ基である。qは、相互に独立に、0又は1である。)
  2. 下記一般式(2)で表される、前記置換数の分布の標準偏差が1.0以下である請求項1に記載の環状化合物。
    Figure 2009196904
    (前記一般式(2)中、Rは、相互に独立に、水素原子、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルキル基、又は炭素数3〜20の置換若しくは非置換の脂環式炭化水素基であり、複数のRのうちの少なくとも一つは水素原子である。)
  3. 下記一般式(3)で表される化合物と下記一般式(4)で表される化合物を、アルカリ水溶液中で反応させることを含む環状化合物の製造方法。
    Figure 2009196904
    (前記一般式(3)中、Rは、相互に独立に、炭素数1〜8の置換又は非置換のアルキレン基である。Yは、相互に独立に、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルキル基、炭素数2〜10の置換若しくは非置換のアルケニル基、炭素数2〜10の置換若しくは非置換のアルキニル基、炭素数7〜10の置換若しくは非置換のアラルキル基、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルコキシ基、又は置換若しくは非置換のフェノキシ基である。qは、相互に独立に、0又は1である。)
    Figure 2009196904
    (前記一般式(4)中、Rは、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルキル基、又は炭素数3〜20の置換若しくは非置換の脂環式炭化水素基であり、Xは、Cl、Br、又はIである。)
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010159244A (ja) * 2008-12-09 2010-07-22 Jsr Corp アレーン系化合物の製造方法及びアレーン系化合物
JP2011053369A (ja) * 2009-08-31 2011-03-17 Jsr Corp ネガ型感放射線性樹脂組成物
JP2013001694A (ja) * 2011-06-21 2013-01-07 Jsr Corp カリックスレゾルシンアレーントリマー誘導体およびその製造方法並びにレジスト材料
CN113480548A (zh) * 2021-08-03 2021-10-08 山东三牧新材料科技有限公司 一种4-氨基吡咯并[2,1-f][1,2,4]三嗪的制备方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005075767A (ja) * 2003-08-29 2005-03-24 Idemitsu Kosan Co Ltd フォトレジスト基材及びその精製方法、並びにフォトレジスト組成物
WO2005075398A1 (ja) * 2004-02-04 2005-08-18 Jsr Corporation カリックスアレーン系化合物、その製造方法、その中間体及びその組成物
JP2007009082A (ja) * 2005-06-30 2007-01-18 Jsr Corp カリックスアレーン系ポリマー及びその製造方法
JP2007197389A (ja) * 2006-01-27 2007-08-09 Idemitsu Kosan Co Ltd 環状化合物、並びにそれからなるフォトレジスト基材及び組成物
WO2008084786A1 (ja) * 2007-01-09 2008-07-17 Jsr Corporation 化合物及び感放射線性組成物
WO2009022540A1 (ja) * 2007-08-13 2009-02-19 Jsr Corporation 化合物及び感放射線性組成物

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005075767A (ja) * 2003-08-29 2005-03-24 Idemitsu Kosan Co Ltd フォトレジスト基材及びその精製方法、並びにフォトレジスト組成物
WO2005075398A1 (ja) * 2004-02-04 2005-08-18 Jsr Corporation カリックスアレーン系化合物、その製造方法、その中間体及びその組成物
JP2007009082A (ja) * 2005-06-30 2007-01-18 Jsr Corp カリックスアレーン系ポリマー及びその製造方法
JP2007197389A (ja) * 2006-01-27 2007-08-09 Idemitsu Kosan Co Ltd 環状化合物、並びにそれからなるフォトレジスト基材及び組成物
WO2008084786A1 (ja) * 2007-01-09 2008-07-17 Jsr Corporation 化合物及び感放射線性組成物
WO2009022540A1 (ja) * 2007-08-13 2009-02-19 Jsr Corporation 化合物及び感放射線性組成物

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010159244A (ja) * 2008-12-09 2010-07-22 Jsr Corp アレーン系化合物の製造方法及びアレーン系化合物
JP2011053369A (ja) * 2009-08-31 2011-03-17 Jsr Corp ネガ型感放射線性樹脂組成物
JP2013001694A (ja) * 2011-06-21 2013-01-07 Jsr Corp カリックスレゾルシンアレーントリマー誘導体およびその製造方法並びにレジスト材料
CN113480548A (zh) * 2021-08-03 2021-10-08 山东三牧新材料科技有限公司 一种4-氨基吡咯并[2,1-f][1,2,4]三嗪的制备方法
CN113480548B (zh) * 2021-08-03 2023-09-22 山东三牧新材料科技有限公司 一种4-氨基吡咯并[2,1-f][1,2,4]三嗪的制备方法

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