JP2009155364A - アゾ化合物及び該アゾ化合物を含有する偏光膜 - Google Patents

Abstract

【課題】耐光性により優れた偏光膜及び偏光膜用の染料化合物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表されるアゾ化合物。

式中、Ａはフェニル基又はナフチル基を表し、該フェニル基はカルボキシル基及びスルホ基からなる群から選ばれる少なくとも１種の酸性基を１〜２個有し、該ナフチル基はカルボキシル基及びスルホ基からなる群から選ばれる少なくとも１種の酸性基を１〜３個有する。Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数１〜４のアルコキシ基を表す。Ｒ^７及びＲ^８はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数１〜４のアルコキシ基を表し、Ｒ^７及びＲ^８の少なくともいずれか一方は炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数１〜４のアルコキシ基を表す。Ｘは−Ｎ＝Ｎ−又は−ＮＨＣＯ−を表し、Ｚはカルボキシル基又はスルホ基を表す。
【選択図】なし

Description

本発明は、アゾ化合物及び該アゾ化合物を含有する偏光膜に関する。

ビニルアルコールなどの偏光膜基材に二色性染料などを含有させた、偏光性能を有する膜である偏光膜が、フロントプロジェクター又はリアプロジェクターなどの液晶表示装置などに用いられている。液晶表示装置を長時間使用しても、偏光膜の吸光度が低下しない、いわゆる耐光性が求められており、特許文献１には、式（Ａ）で表されるアゾ化合物又はその塩を二色性染料として用いる染料系偏光膜が開示されている。

特開２００１−２４０７６２号公報

本発明の課題は、耐光性により優れた偏光膜及び偏光膜用の染料化合物を提供することである。

本発明は、式（Ｉ）で表されるアゾ化合物である。

（式（Ｉ）中、Ａは、フェニル基又はナフチル基を表し、該フェニル基は、カルボキシル基及びスルホ基からなる群から選ばれる少なくとも１種の酸性基を１〜２個有し、該ナフチル基は、カルボキシル基及びスルホ基からなる群から選ばれる少なくとも１種の酸性基を１〜３個有する。Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数１〜４のアルコキシ基を表す。Ｒ^７及びＲ^８は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数１〜４のアルコキシ基を表し、Ｒ^７及びＲ^８の少なくともいずれか一方は、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数１〜４のアルコキシ基を表す。Ｘは、−Ｎ＝Ｎ−又は−ＮＨＣＯ−を表し、Ｚは、カルボキシル基又はスルホ基を表す。）

また本発明は、式（Ｉ）で表されるアゾ化合物に含まれるカルボキシル基及びスルホ基は、カチオンとともにアニオンとして存在するか、あるいは、有機アミンとともに、スルホ基又はカルボキシル基として存在する上記アゾ化合物である。

また本発明は、Ａが、モノスルホフェニル基又はジスルホナフチル基である上記アゾ化合物である。

また本発明は、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６が、それぞれ独立に、水素原子、メチル基又はメトキシ基である上記アゾ化合物である。

また本発明は、Ｒ^７及びＲ^８の少なくともいずれか一方が、メチル基又はメトキシ基である上記アゾ化合物である。

また本発明は、偏光膜基材に、上記アゾ化合物を含有させてなる偏光膜である。

また本発明は、偏光膜基材に、上記アゾ化合物及び極大吸収波長が５００〜５７０ｎｍである染料を含有させてなる偏光膜である。

また本発明は、極大吸収波長が５００〜５７０ｎｍである染料が、式（Ｖ）で表される化合物である上記偏光膜である。

（式（Ｖ）中、Ｄは、フェニル基又はナフチル基を表し、該フェニル基は、カルボキシル基及びスルホ基からなる群から選ばれる少なくとも１種の酸性基を１〜２個有し、該ナフチル基は、カルボキシル基及びスルホ基からなる群から選ばれる少なくとも１種の酸性基を１〜３個有する。該フェニル基又は該ナフチル基には、炭素数１〜４のアルキル基及び炭素数１〜４のアルコキシ基からなる群から選ばれる少なくとも１種の基が１〜２個結合していてもよい。Ｒ^９、Ｒ^１０、Ｒ^１１及びＲ^１２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数１〜４のアルコシキ基を表す。Ｅは、−ＮＨ−、−Ｎ＝Ｎ−又は−ＮＨＣＯ−を表す。Ｆは、フェニル基を表し、該フェニル基には、ヒドロキシ基、アミノ基、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基及びスルホ基からなる群から選ばれる基が１〜２個結合していてもよい。ｎは０又は１の整数を表す。）

また本発明は、Ｒ^９、Ｒ^１０、Ｒ^１１及びＲ^１２が、それぞれ独立に、水素原子、メチル基又はメトキシ基である上記偏光膜である。

また本発明は、Ｆが、ヒドロキシ基又はアミノ基を有するフェニル基である上記偏光膜である。

また本発明は、Ｄが、モノスルホフェニル基又はジスルホナフチル基である上記偏光膜である。

また本発明は、偏光膜基材が、ポリビニルアルコールを含んでなる上記偏光膜である。

また本発明は、上記偏光膜を有する液晶表示装置である。

本発明の染料化合物は、より耐光性に優れた偏光膜を与えることができる。

以下、本発明を詳細に説明する。
本発明は、式（Ｉ）で表されるアゾ化合物（以下、「アゾ化合物（Ｉ）」という場合がある。）

式（Ｉ）中、Ａは、フェニル基又はナフチル基を表し、該フェニル基は、カルボキシル基及びスルホ基からなる群から選ばれる少なくとも１種の酸性基を１〜２個有し、該ナフチル基は、カルボキシル基及びスルホ基からなる群から選ばれる少なくとも１種の酸性基を１〜３個有する。

Ａのフェニル基としては、例えば、２−スルホフェニル、３−スルホフェニル又は４−スルホフェニルなどのモノスルホフェニル；２−カルボキシフェニル、３−カルボキシフェニル、４−カルボキシフェニルなどのモノカルボキシフェニル；２，４−ジスルホフェニル、２，５−ジスルホフェニルなどのジスルホフェニル；３，５−ジカルボキシフェニル、２−カルボキシ−４−スルホフェニル、２−カルボキシ−５−スルホフェニルなどが挙げられ、特にモノスルホフェニルは入手が容易であることから好ましい。

Ａのナフチル基としては、例えば、５−スルホ−２−ナフチル、６−スルホ−２−ナフチル、７−スルホ−２−ナフチル、８−スルホ−２−ナフチル、４−スルホ−１−ナフチル、５−スルホ−１−ナフチル、６−スルホ−１−ナフチル、７−スルホ−１−ナフチルなどのモノスルホナフチル；６，８−ジスルホ−２−ナフチル、４，８−ジスルホ−２−ナフチル、５，７−ジスルホ−２−ナフチル、３，６−ジスルホ−２−ナフチル、３，６−ジスルホ−１−ナフチル、４，６−ジスルホ−１−ナフチルなどのジスルホナフチル；３，６，８−トリスルホ−２−ナフチル、４，６，８−トリスルホ−２−ナフチルなどが挙げられ、特にジスルホナフチルは入手容易であることから好ましく、ジスルホ−２−ナフチルがより好ましい。

Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数１〜４のアルコキシ基を表す。該アルキル基及びアルコキシ基は、直鎖又は分岐状のいずれでもよい。アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基及びプロピル基などが挙げられ、アルコキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基及びプロポキシ基などが挙げられる。
Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６としては、偏光性能の観点から、水素原子、メチル基又はメトキシ基が特に好ましい。

Ｒ^７及びＲ^８は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数１〜４のアルコキシ基を表し、Ｒ^７及びＲ^８の少なくともいずれか一方は、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数１〜４のアルコキシ基を表す。アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基及びプロピル基などが挙げられ、アルコキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基及びプロポキシ基などが挙げられる。
Ｒ^７及びＲ^８の少なくともいずれか一方が、メチル基又はメトキシ基であると、耐光性能がより向上することから、好ましい。
Ｒ^７及びＲ^８は、偏光性能の観点から、メチル基又はメトキシ基が特に好ましい。置換位置は、置換基Ｚに対して、偏光性能の観点から、オルト位が好ましい。

Ｘは、−Ｎ＝Ｎ−又は−ＮＨＣＯ−を表し、Ｚは、カルボキシル基又はスルホ基を表す。

アゾ化合物（Ｉ）又はその塩は、例えば、以下に述べる方法によって製造することができる。
先ず、式（ＩＩ）で表される芳香族アミン化合物を、水性溶媒中、クロロ炭酸フェニルと反応させて、式（ＩＩＩ）で表されるカルバメート化合物を得る。

（式（ＩＩ）及び式（ＩＩＩ）中、Ｒ^７、Ｒ^８及びＺは前記と同じ意味を表す。）

次いで、式（ＩＩＩ）で表されるカルバメート化合物と、式（ＩＶ）で表されるアゾ中間化合物とを、水性溶媒中、２０〜６０℃で反応させることにより、アゾ化合物（Ｉ）を得ることができる。

（式（ＩＶ）中、Ａ、Ｘ、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６は、前記と同じ意味を表す。）

上記水性溶媒とは、水と任意の割合で混合し得る有機化合物、又は該有機化合物と水との混合溶媒である。水と任意の割合で混合し得る有機化合物としては、通常、メタノール、エタノール、プロパノールなどの炭素数１〜３のアルコールが用いられる。

アゾ化合物（Ｉ）の例示としては、式（Ｉ−１）〜式（Ｉ−１３）で表される化合物などが挙げられる。

アゾ化合物（Ｉ）に含まれるカルボキシル基及びスルホ基は、カチオンとともにアニオンとして存在するか、あるいは、有機アミンとともに、スルホ基又はカルボキシル基として存在する。
たとえばアゾ化合物（Ｉ）に含まれるカルボキシル基及びスルホ基は、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオンなどのようなアルカリ金属イオン、アンモニウムイオンなどのカチオンとともにアニオンとして存在するか、又は、エタノールアミンやアルキルアミンのような有機アミンなどとともに、カルボキシル基又はスルホ基として存在する。アゾ化合物（Ｉ）を偏光膜基材に含有させる場合は、ナトリウムイオンとともにアニオンの形で用いることが好ましい。

本発明の偏光膜は、アゾ化合物（Ｉ）を偏光膜基材に含有させてなるものである。
偏光膜には、アゾ化合物（Ｉ）に加えて、他の有機染料を含有させることにより、色相を補正し、偏光性能をより向上させることができる。この場合に用いられる有機染料としては、二色性の高いものであればいかなる染料でもよいが、特に耐光性に優れる染料を選択することにより、たとえば液晶プロジェクター用途に適した偏光膜とすることができる。
特に極大吸収波長が５００〜５７０ｎｍの範囲である染料を用いると、色相を補正し、偏光性能をより向上させることができる。

極大吸収波長が５００〜５７０ｎｍの範囲である染料としては、式（Ｖ）で表される化合物（以下、「化合物（Ｖ）」という場合がある）が挙げられる。

式（Ｖ）中、Ｄは、フェニル基又はナフチル基を表し、該フェニル基は、カルボキシル基及びスルホ基からなる群から選ばれる少なくとも１種の酸性基を１〜２個有し、該ナフチル基は、カルボキシル基及びスルホ基からなる群から選ばれる少なくとも１種の酸性基を１〜３個有する。該フェニル基又は該ナフチル基には、炭素数１〜４のアルキル基及び炭素数１〜４のアルコキシ基からなる群から選ばれる少なくとも１種の基が１〜２個結合していてもよい。

Ｄのフェニル基としては、例えば、２−スルホフェニル基、３−スルホフェニル基、４−スルホフェニル基などのモノスルホフェニル基；２−カルボキシフェニル基、３−カルボキシフェニル基、４−カルボキシフェニル基などのモノカルボキシフェニル基；２，４−ジスルホフェニル基、２，５−ジスルホフェニル基などのジスルホフェニル基；３，５−ジカルボキシフェニル基；２−カルボキシ−４−スルホフェニル基、２−カルボキシ−５−スルホフェニル基などのカルボキシスルホフェニル基；２−メチル−４−スルホフェニル基、３−メチル−４−スルホフェニル基、２−メチル−４−スルホフェニル基、２，５−ジメチル−４−スルホフェニル基などのアルキルスルホフェニル基；３−メチル−４−カルボキシフェニル基、２，５−ジメチル−４−カルボキシフェニル基などのアルキルカルボキシフェニル基；２−メトキシ−４−スルホフェニル基、３−メトキシ−４−スルホフェニル基、２，５−ジメトキシ−４−スルホフェニル基などのアルコキシスルホフェニル基；２−メトキシ−４−カルボキシフェニル基、３−メトキシ−４−カルボキシフェニル基、２，５−ジメトキシ−４−カルボキシフェニル基などのアルコキシカルボキシフェニル基などが挙げられる。
フェニル基としては、特にモノスルホフェニル基が入手が容易であることから好ましい。

Ｄのナフチル基としては、例えば、５−スルホ−２−ナフチル基、６−スルホ−２−ナフチル基、７−スルホ−２−ナフチル基、８−スルホ−２−ナフチル基、４−スルホ−１−ナフチル基、５−スルホ−１−ナフチル基、６−スルホ−１−ナフチル基、７−スルホ−１−ナフチル基などのモノスルホナフチル基；６，８−ジスルホ−２−ナフチル基、４，８−ジスルホ−２−ナフチル基、５，７−ジスルホ−２−ナフチル基、３，６−ジスルホ−２−ナフチル基、３，６−ジスルホ−１−ナフチル基、４，６−ジスルホ−１−ナフチル基などのジスルホナフチル基；３，６，８−トリスルホ−２−ナフチル基、４，６，８−トリスルホ−２−ナフチル基などのトリスルホナフチル基などが挙げられる。
ナフチル基としては、ジスルホナフチル基が入手容易であることから好ましく、特にジスルホ−２−ナフチル基が好ましい。

Ｒ^９、Ｒ^１０、Ｒ^１１及びＲ^１２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数１〜４のアルコシキ基を表す。該アルキル基及びアルコキシ基は、直鎖又は分岐状のいずれでもよい。アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基及びプロピル基などが挙げられ、アルコキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基及びプロポキシ基などが挙げられる。
Ｒ^９、Ｒ^１０、Ｒ^１１及びＲ^１２としては、偏光性能の観点から、水素原子、メチル基又はメトキシ基が特に好ましい。

Ｅは、−ＮＨ−、−Ｎ＝Ｎ−又は−ＮＨＣＯ−を表す。
Ｆは、フェニル基を表し、該フェニル基には、ヒドロキシ基、アミノ基、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基及びスルホ基からなる群から選ばれる基が１〜２個結合していてもよい。該アルキル基及びアルコキシ基としては、Ｒ^９、Ｒ^１０、Ｒ^１１及びＲ^１２として例示された基が挙げられる。Ｆとしては、フェニル基、４−アミノフェニル基及びヒドロキシフェニル基が、製造が容易であることから好ましい。
ｎは０又は１の整数を表し、特にｎが０の場合が、製造が容易であることから好ましい。

化合物（Ｖ）をナトリウム塩で表すと、式（Ｖ−１）〜式（Ｖ−７）で表される化合物などが例示される。

化合物（Ｖ）に含まれるカルボキシル基及びスルホ基は、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオンなどのようなアルカリ金属イオン、アンモニウムイオンなどのカチオンとともにアニオンとして存在するか、又は、エタノールアミンやアルキルアミンのような有機アミンなどとともに、カルボキシル基又はスルホ基として存在する。化合物（Ｖ）を偏光膜基材に含有させる場合は、ナトリウムイオンとともにアニオンの形で用いることが好ましい。

化合物（Ｖ）は、アゾ化合物（Ｉ）に準じた方法で製造することができる。
具体的には式（ＶＩ）で表されるアゾ化合物を酸性の水性溶媒中、０〜４０℃で亜硝酸ナトリウムと反応させたのち、式（ＶＩＩ）で表される化合物を０〜４０℃、ｐＨ６〜１１の水性溶媒中で反応させることにより、化合物（Ｖ）を得ることができる。

（式中、ｎ、Ｄ、Ｒ^９、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｅ及びＦは、前記と同じ意味を表す。）

本発明の偏光膜は、アゾ化合物（Ｉ）、好ましくは、化合物（Ｖ）で表される化合物のよいな、極大吸収波長が５００〜５７０ｎｍの範囲である染料、必要に応じて、さらに他の有機染料を含んでなる二色性染料を、高分子フィルム状の偏光膜基材に公知の方法で含有させることによって、製造することができる。
本発明の偏光膜に用いられる偏光膜基材としては、例えば、ポリビニルアルコール系の樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、エチレン／酢酸ビニル（ＥＶＡ）樹脂、ナイロン樹脂、ポリエステル樹脂などからなるものが挙げられる。ここでいうポリビニルアルコール系の樹脂には、ポリ酢酸ビニルの部分又は完全ケン化物であるポリビニルアルコール自体のほか、ケン化ＥＶＡ樹脂のような、酢酸ビニルと他の共重合可能な単量体、例えば、エチレンやプロピレンのようなオレフィン類、クロトン酸やアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸のような不飽和カルボン酸類、不飽和スルホン酸類、ビニルエーテル類などとの共重合体のケン化物、さらにはポリビニルアルコールをアルデヒドで変性したポリビニルホルマールやポリビニルアセタールなどが挙げられる。
偏光膜基材としては、ポリビニルアルコール系のフィルム、特にポリビニルアルコールフィルムが、染料の吸着性及び配向性の点から、好適に用いられる。

偏光膜基材に染料を含有させる方法としては、通常、高分子フィルムを染色する方法が採用される。染色は、例えば次のようにして行うことができる。まず、染料を水に溶解して染浴を調製する。染浴中の染料濃度は特に制限されないが、通常は０．０００１〜１０重量％の範囲から選択される。また、必要により染色助剤を用いてもよく、例えば、芒硝を染浴中で１〜１０重量％用いるのが好適である。このようにして調製した染浴に高分子フィルムを浸漬し、染色を行う。染色温度は、好ましくは４０〜８０℃である。染料の配向は、高分子フィルムを延伸することによって行われる。延伸する方法としては、例えば湿式法や乾式法など、公知のいずれの方法を採用してもよい。高分子フィルムの延伸は、染色の前に行っても、染色の後に行ってもよい。

染料を含有させ、配向させた高分子フィルムは、必要に応じて、公知の方法によりホウ酸処理などの後処理が施される。このような後処理は、偏光膜の光線透過率、偏光性能及び耐久性を向上させる目的で行われる。ホウ酸処理の条件は、用いる高分子フィルムの種類や用いる染料の種類によって異なるが、一般的には、ホウ酸水溶液のホウ酸濃度を１〜１５重量％、好ましくは５〜１０重量％の範囲とし、処理は、通常、３０〜８０℃、好ましくは５０〜８０℃の温度範囲で行われる。さらには必要に応じて、カチオン系高分子化合物を含む水溶液でフィックス処理を併せて行ってもよい。

このようにして得られた偏光膜は、その片面又は両面に、光学的透明性及び機械的強度に優れる保護膜を貼合して、偏光板とすることができる。保護膜を形成する材料は、従来から使用されているものでよく、例えば、セルロースアセテート系フィルムやアクリル系フィルムのほか、四フッ化エチレン／六フッ化プロピレン共重合体のようなフッ素樹脂系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリオレフィン系フィルム、ポリアミド系フィルムなどが用いられる。

本発明のアゾ化合物（Ｉ）又はその塩を含む偏光膜は、偏光性能および耐光性に優れている。
本発明の偏光膜はその優れた特性から、カーナビゲーション、液晶プロジェクター、プロジェクション用テレビなどの大光量の液晶表示装置（ＬＣＤ）、プロジェクションテレビなどのフラットパネル表示装置（ＦＰＤ）などに好適に使用することができる。

以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。例中の「％」及び「部」は、特記しない限り、重量％及び重量部である。

（実施例１）
下式（１−１）で表される芳香族アミン９．４部を水１００部に溶解した後、２０〜２５℃の温度で、１５％炭酸ナトリウム水溶液によりｐＨ７〜８に調整しながら、クロロ炭酸フェニル８部を滴下した。滴下終了後、同温度及び同ｐＨで攪拌後、析出した結晶を濾過して、式（１−２）で表される中間体を得た。

上記で得た中間体（１−２）の全量と、式（２）で表されるアゾ中間化合物７部とを、水１００部及びＮ−メチルピロリドン１００部の混合液に加え、４０〜４５℃の温度で、１５％炭酸ナトリウム水溶液によりｐＨ８〜９に調整しながら攪拌した。不溶解物を濾過により除いた後、濾液にエタノール３００部を加えて結晶を析出させた。この析出した結晶を濾過した後、得られたケーキを水２２０部とＮ−メチルピロリドン８０部の混合液に再度、溶解した。この液に塩化ナトリウム３０部を加え、析出した結晶を濾過することにより、式（Ｉ−１）で表されるアゾ化合物の塩を得、この塩は、水性媒体中でλｍａｘ＝４０６ｎｍを示した。

（偏光膜の製造例）
厚さ７５μｍのポリビニルアルコールフィルム（クラレビニロン＃７５００、（株）クラレ製）を縦一軸に５倍延伸して、偏光膜基材とした。このポリビニルアルコールフィルムを緊張状態に保ったまま、実施例１で得られた式（Ｉ−１）で表されるアゾ化合物の塩を０．０２５％、染色助剤である芒硝を２．０％の濃度とした７０℃の水溶液に浸漬した。次に７８℃の７．５％ホウ酸水溶液に浸漬したのち取り出して、水で洗浄し、乾燥することにより、偏光膜を得た。得られた偏光膜のλｍａｘ（膜の延伸方向の透過率が最小となる波長）は４４０ｎｍであった。
得られた偏光膜に、１００℃の条件下、５８時間、照度５２０ｍＷ／ｃｍ^２（赤色光）の高圧水銀ランプで光照射したとき、吸光度の変化率ΔＡ（％）の値は、８５（％）であり、高温下、長時間暴露に対する耐光性も優れていた。ΔＡ（％）は、０時間時の吸光度の値をＡ（０）、５８時間後の吸光度の値をＡ（５８）としたときに、式（３）で定義され、ΔＡの値は大きいほど、耐光性に優れることを示す。
ΔＡ（％）＝（Ａ（５８）／Ａ（０））×１００ （３）

（比較例１）
式（Ｉ−１）で表されるアゾ化合物を含む偏光膜用染料の代わりに、特許文献１の第７頁、式（１ｂ）で表される化合物である、式（Ａ）で表されるアゾ化合物を用いて、実施例１と同様にして偏光膜を得た。得られた偏光膜のλｍａｘは４４０ｎｍであった。実施例１と同様に、ΔＡの値を求めたところ、ΔＡ（％）の値は、７２（％）にとどまり、本発明の偏光膜より、耐光性が劣っていた。

本発明の染料化合物は、より耐光性に優れた偏光膜を与えることができる。

Claims (13)

1. 式（Ｉ）で表されるアゾ化合物。
   

   

   （式（Ｉ）中、Ａは、フェニル基又はナフチル基を表し、該フェニル基は、カルボキシル基及びスルホ基からなる群から選ばれる少なくとも１種の酸性基を１〜２個有し、該ナフチル基は、カルボキシル基及びスルホ基からなる群から選ばれる少なくとも１種の酸性基を１〜３個有する。Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数１〜４のアルコキシ基を表す。Ｒ^７及びＲ^８は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数１〜４のアルコキシ基を表し、Ｒ^７及びＲ^８の少なくともいずれか一方は、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数１〜４のアルコキシ基を表す。Ｘは、−Ｎ＝Ｎ−又は−ＮＨＣＯ−を表し、Ｚは、カルボキシル基又はスルホ基を表す。）
2. 式（Ｉ）で表されるアゾ化合物に含まれるカルボキシル基及びスルホ基は、カチオンとともにアニオンとして存在するか、あるいは、有機アミンとともに、スルホ基又はカルボキシル基として存在する請求項１記載のアゾ化合物。
3. Ａが、モノスルホフェニル基又はジスルホナフチル基である請求項１又は２記載のアゾ化合物。
4. Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６が、それぞれ独立に、水素原子、メチル基又はメトキシ基である請求項１〜３のいずれか記載のアゾ化合物。
5. Ｒ^７及びＲ^８の少なくともいずれか一方が、メチル基又はメトキシ基である請求項１〜４のいずれか記載のアゾ化合物。
6. 偏光膜基材に、請求項１〜５のいずれか記載のアゾ化合物を含有させてなる偏光膜。
7. 偏光膜基材に、請求項１〜５のいずれか記載のアゾ化合物及び極大吸収波長が５００〜５７０ｎｍである染料を含有させてなる偏光膜。
8. 極大吸収波長が５００〜５７０ｎｍである染料が、式（Ｖ）で表される化合物である請求項７記載の偏光膜。
   

   

   （式（Ｖ）中、Ｄは、フェニル基又はナフチル基を表し、該フェニル基は、カルボキシル基及びスルホ基からなる群から選ばれる少なくとも１種の酸性基を１〜２個有し、該ナフチル基は、カルボキシル基及びスルホ基からなる群から選ばれる少なくとも１種の酸性基を１〜３個有する。該フェニル基又は該ナフチル基には、炭素数１〜４のアルキル基及び炭素数１〜４のアルコキシ基からなる群から選ばれる少なくとも１種の基が１〜２個結合していてもよい。Ｒ^９、Ｒ^１０、Ｒ^１１及びＲ^１２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数１〜４のアルコシキ基を表す。Ｅは、−ＮＨ−、−Ｎ＝Ｎ−又は−ＮＨＣＯ−を表す。Ｆは、フェニル基を表し、該フェニル基には、ヒドロキシ基、アミノ基、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基及びスルホ基からなる群から選ばれる基が１〜２個結合していてもよい。ｎは０又は１の整数を表す。）
9. Ｒ^９、Ｒ^１０、Ｒ^１１及びＲ^１２が、それぞれ独立に、水素原子、メチル基又はメトキシ基である請求項８記載の偏光膜。
10. Ｆが、ヒドロキシ基又はアミノ基を有するフェニル基である請求項８又は９記載の偏光膜。
11. Ｄが、モノスルホフェニル基又はジスルホナフチル基である請求項８〜１０のいずれか記載の偏光膜。
12. 偏光膜基材が、ポリビニルアルコールを含んでなる請求項６〜１１のいずれか記載の偏光膜。
13. 請求項６〜１２のいずれか記載の偏光膜を有する液晶表示装置。