JP2009139975A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009139975A5 JP2009139975A5 JP2009027526A JP2009027526A JP2009139975A5 JP 2009139975 A5 JP2009139975 A5 JP 2009139975A5 JP 2009027526 A JP2009027526 A JP 2009027526A JP 2009027526 A JP2009027526 A JP 2009027526A JP 2009139975 A5 JP2009139975 A5 JP 2009139975A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- gray
- semi
- transparent
- manufacturing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 11
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims 7
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims 4
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 3
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims 3
- 150000001845 chromium compounds Chemical class 0.000 claims 2
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910016006 MoSi Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims 1
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000004380 ashing Methods 0.000 claims 1
- SJKRCWUQJZIWQB-UHFFFAOYSA-N azane;chromium Chemical compound N.[Cr] SJKRCWUQJZIWQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910021563 chromium fluoride Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims 1
- FTBATIJJKIIOTP-UHFFFAOYSA-K trifluorochromium Chemical compound F[Cr](F)F FTBATIJJKIIOTP-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims 1
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009027526A JP4878379B2 (ja) | 2009-02-09 | 2009-02-09 | グレートーンマスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009027526A JP4878379B2 (ja) | 2009-02-09 | 2009-02-09 | グレートーンマスクの製造方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2007166437A Division JP4700657B2 (ja) | 2007-06-25 | 2007-06-25 | グレートーンマスク及びその製造方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2010245051A Division JP4840834B2 (ja) | 2010-11-01 | 2010-11-01 | グレートーンマスク及びその製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2009139975A JP2009139975A (ja) | 2009-06-25 |
| JP2009139975A5 true JP2009139975A5 (https=) | 2009-10-22 |
| JP4878379B2 JP4878379B2 (ja) | 2012-02-15 |
Family
ID=40870555
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2009027526A Expired - Lifetime JP4878379B2 (ja) | 2009-02-09 | 2009-02-09 | グレートーンマスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4878379B2 (https=) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6157832B2 (ja) * | 2012-10-12 | 2017-07-05 | Hoya株式会社 | 電子デバイスの製造方法、表示装置の製造方法、フォトマスクの製造方法、及びフォトマスク |
| JP6302502B2 (ja) * | 2016-04-15 | 2018-03-28 | Hoya株式会社 | 電子デバイスの製造方法、表示装置の製造方法、フォトマスクの製造方法、及びフォトマスク |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6318351A (ja) * | 1986-07-11 | 1988-01-26 | Hitachi Micro Comput Eng Ltd | パタ−ン形成用マスク |
| US4770947A (en) * | 1987-01-02 | 1988-09-13 | International Business Machines Corporation | Multiple density mask and fabrication thereof |
| US5213916A (en) * | 1990-10-30 | 1993-05-25 | International Business Machines Corporation | Method of making a gray level mask |
| JP2814847B2 (ja) * | 1992-07-30 | 1998-10-27 | 日本電気株式会社 | 多段位相シフトレチクルの製造方法 |
| JPH0749410A (ja) * | 1993-08-06 | 1995-02-21 | Dainippon Printing Co Ltd | 階調マスク及びその製造方法 |
| JP3438426B2 (ja) * | 1995-08-22 | 2003-08-18 | ソニー株式会社 | 位相シフト露光マスク |
| JPH0980740A (ja) * | 1995-09-14 | 1997-03-28 | Ricoh Co Ltd | 露光マスクおよび半導体装置の製造方法 |
| US5914202A (en) * | 1996-06-10 | 1999-06-22 | Sharp Microeletronics Technology, Inc. | Method for forming a multi-level reticle |
| JP3080023B2 (ja) * | 1997-02-20 | 2000-08-21 | 日本電気株式会社 | 露光用フォトマスク |
| JP3064962B2 (ja) * | 1997-06-19 | 2000-07-12 | 日本電気株式会社 | ハーフトーン位相シフトマスクおよびそのマスクブランクスならびにハーフトーン位相シフトマスクの製造方法および欠陥修正方法 |
| JP3253590B2 (ja) * | 1998-08-31 | 2002-02-04 | シャープ株式会社 | ハーフトーンマスクの製造方法 |
| JP2000181048A (ja) * | 1998-12-16 | 2000-06-30 | Sharp Corp | フォトマスクおよびその製造方法、並びにそれを用いた露光方法 |
| JP4292350B2 (ja) * | 1999-04-22 | 2009-07-08 | 栄 田中 | 液晶表示装置とその製造方法 |
-
2009
- 2009-02-09 JP JP2009027526A patent/JP4878379B2/ja not_active Expired - Lifetime
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101045450B1 (ko) | 4계조 포토마스크 및 그 사용 방법 | |
| JP5839744B2 (ja) | フラットパネルディスプレイ製造用フォトマスクの製造方法、およびフラットパネルディスプレイの製造方法 | |
| JP5244485B2 (ja) | フォトマスク及びその製造方法、並びにパターン転写方法 | |
| JP2007249198A (ja) | 4階調フォトマスクの製造方法、及びフォトマスクブランク | |
| TWI694302B (zh) | 光罩及顯示裝置之製造方法 | |
| TWI745873B (zh) | 光罩、光罩之製造方法、及顯示裝置之製造方法 | |
| JP2011215197A5 (https=) | ||
| JP2013134435A5 (https=) | ||
| JP2011090344A5 (https=) | ||
| TW201319727A (zh) | 多色調光罩、多色調光罩之製造方法、圖案轉印方法及薄膜電晶體之製造方法 | |
| JP2014066863A (ja) | フォトマスクの製造方法、フォトマスク、パターン転写方法、及びフラットパネルディスプレイの製造方法 | |
| JP5336226B2 (ja) | 多階調フォトマスクの製造方法 | |
| KR20160010322A (ko) | 포토마스크, 포토마스크의 제조 방법, 포토마스크 블랭크 및 표시 장치의 제조 방법 | |
| JP4714311B2 (ja) | 多階調フォトマスクの製造方法及び薄膜トランジスタ基板用パターン転写方法 | |
| JP2009237419A (ja) | 多階調フォトマスク及びその製造方法、並びにパターン転写方法 | |
| JP4695964B2 (ja) | グレートーンマスク及びその製造方法 | |
| TW201131283A (en) | Method of manufacturing a multi-tone photomask, multi-tone photomask blank and method of manufacturing an electronic device | |
| JP2009139975A5 (https=) | ||
| JP2009237315A (ja) | 多階調フォトマスクの製造方法及び多階調フォトマスク、並びにパターン転写方法 | |
| JP5185154B2 (ja) | 多階調フォトマスクの検査方法 | |
| JP2009229893A (ja) | 多階調フォトマスクの製造方法及びパターン転写方法 | |
| JP5400698B2 (ja) | 多階調フォトマスク、多階調フォトマスクの製造方法、パターン転写方法及び多階調フォトマスクの使用方法 | |
| JP4848071B2 (ja) | 5階調フォトマスクの製造方法及びパターン転写方法 | |
| JP4878379B2 (ja) | グレートーンマスクの製造方法 | |
| JP4840834B2 (ja) | グレートーンマスク及びその製造方法 |