JP2009105200A - ジャンクションバリアショットキーダイオード - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明は、ジャンクションバリアショットキーダイオードにおいて、pn接合を形成するp型領域の側部に存在するpn接合の傾きが、当該p型領域の底部に存在するpn接合の傾きより急峻である。
【選択図】図1
Description
即ち、第1の主要形態は、前述の通り、炭化珪素からなる第一導電型を有する基板表面に、第一導電型のドリフト層(炭化珪素層)と、前記ドリフト層表面に交互に配置されたショットキーと、pn接合領域とを有し、アノードおよびカソードとして外部コンタクトとを具備するジャンクションバリアショットキーダイオードにおいて、p型領域の底部のpn接合の傾きに比べ、前記p型領域の側部のpn接合の傾きの方が急峻なることを特徴とするものである。この場合、合わせて、本例ではpn接合を形成するp型領域の底部に存在する不純物濃度が一定ではないp型領域の厚さが、p型領域の側部に存在する不純物濃度が一定でないp型領域の厚さよりも厚い。
0.1μmより0.5μm、p+領域のうちの不純物濃度プロファイルを持つ領域2の幅は0.1μmより0.3μm程度となされる。
0.1μmより0.5μm、p+領域のうちの不純物濃度プロファイルを持つ領域2の幅は0.3μmより0.8μm程度となされる。
2×1015cm-3〜8×1016cm-3程度の範囲が多用される。又、トレンチコーナー部のpn接合において、n型領域の不純物濃度が高いと耐圧が落ちる可能性があるため、ドリフト層3よりも不純物濃度の高いn型層は、トレンチ底部のpn接合よりも浅い領域にあることが望ましい。
Claims (4)
- 炭化珪素からなる第一導電型を有する基板表面に、炭化珪素の第一導電型のドリフト層と、前記ドリフト層表面に交互に配置されたショットキー接合とpn接合と、アノードおよびカソードとして外部コンタクトとを具備するジャンクションバリアショットキーダイオードにおいて、前記pn接合を形成するp型領域の側部に存在する不純物濃度が一定ではないp型領域を含むpn接合の傾きが、前記p型領域の底部に存在する不純物濃度が一定でないp型領域を含むpn接合の傾きより急峻なことを特徴とするジャンクションバリアショットキーダイオード。
- 前記pn接合を形成するp型領域が、前記ドリフト層表面に形成されたトレンチ内に配置されていることを特徴とする請求項1に記載のジャンクションバリアショットキーダイオード。
- 前記ドリフト層のうちのpn接合を形成するp型領域に挟まれている領域の濃度が、その下部に存在するドリフト層よりも高いことを特徴とする請求項1に記載のジャンクションバリアショットキーダイオード。
- 前記ドリフト層のうちのpn接合を形成するp型領域に挟まれている領域の濃度が、その下部に存在するドリフト層よりも高いことを特徴とする請求項2に記載のジャンクションバリアショットキーダイオード。
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