JP2014060376A - ショットキーバリアダイオードおよびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】本発明は、ショットキーバリアダイオードおよびその製造方法に関する。
【解決手段】本発明の一実施形態に係るショットキーバリアダイオードは、n+型炭化ケイ素基板の第1面に位置するn−型エピ層、n−型エピ層内に位置する第1p+領域、n−型エピ層および第1p+領域上に位置するn型エピ層、n型エピ層内に位置する第2p+領域、n型エピ層および第2p+領域上に位置するショットキー電極、およびn+型炭化ケイ素基板の第2面に位置するオーミック電極を含み、第1p+領域と第2p+領域は互いに接触している。
【選択図】図1
【解決手段】本発明の一実施形態に係るショットキーバリアダイオードは、n+型炭化ケイ素基板の第1面に位置するn−型エピ層、n−型エピ層内に位置する第1p+領域、n−型エピ層および第1p+領域上に位置するn型エピ層、n型エピ層内に位置する第2p+領域、n型エピ層および第2p+領域上に位置するショットキー電極、およびn+型炭化ケイ素基板の第2面に位置するオーミック電極を含み、第1p+領域と第2p+領域は互いに接触している。
【選択図】図1
Description
本発明は、炭化ケイ素(SiC、シリコンカーバイド)を含むショットキーバリアダイオードおよびその製造方法に関する。
ショットキーバリアダイオード(schottky barrier diode、SBD)は、一般的なPNダイオードとは異なり、PN接合を利用せず、金属と半導体が接合したショットキー接合を利用することにより、迅速なスイッチング特性を示し、PNダイオードよりも低いターンオン電圧特性を有する。
一般的なショットキーバリアダイオードは、漏洩電流の低減特性を向上させるために、ショットキー接合部の下端にp+領域が形成された接合バリアショットキー(junction barrier schottky、JBS)の構造を適用することにより、逆電圧印加時に拡散するPNダイオード空乏層の重畳によって漏洩電流が遮断され、降伏電圧が向上するという効果を得ている。
しかし、ショットキー接合部にp+領域が存在することにより、順方向の電流経路となるショットキー電極とn−ドリフト層との接触面積が狭くなって抵抗値が増加し、ショットキーバリアダイオードのオン(on)抵抗が増加するという問題がある。さらに、p+領域がフローティングされているため漏洩電流を遮断させる空乏層の幅が広くなく、p+領域間の間隔を小さくするという工程上の困難がある。
本発明が解決しようとする課題は、ショットキーバリアダイオードで、ショットキー接合面積を極大化し、順方向電圧印加時にオン抵抗を低めることである。
本発明の一実施形態に係るショットキーバリアダイオードは、n+型炭化ケイ素基板の第1面に位置するn−型エピ層、n−型エピ層内に位置する第1p+領域、n−型エピ層および第1p+領域の上に位置するn型エピ層、n型エピ層内に位置する第2p+領域、n型エピ層および第2p+領域上に位置するショットキー電極、およびn+型炭化ケイ素基板の第2面に位置するオーミック電極を含み、第1p+領域と第2p+領域は互いに接触している。
第1p+領域は、n−型エピ層の表面に格子形状で形成されていてもよい。
第2p+領域は、n型エピ層の周縁を囲む四角形状で形成されていてもよい。
本発明の一実施形態に係るショットキーバリアダイオードの製造方法は、n+型炭化ケイ素基板の第1面にn−型エピ層を形成する段階、n−型エピ層の表面にp+イオンを注入して第1p+領域を形成する段階、n−型エピ層および第1p+領域上にn型エピ層を形成する段階、n型エピ層の表面にp+イオンを注入して第2p+領域を形成する段階、n型エピ層および第2p+領域上にショットキー電極を形成する段階、およびn+型炭化ケイ素基板の第2面にオーミック電極を形成する段階を含み、第1p+領域と第2p+領域は、互いに接触するように形成される。
このように、本発明の一実施形態によれば、ショットキー接合面積が極大化し、順方向電圧印加時にオン抵抗を低めることができる。
添付の図面を参照しながら、本発明の好ましい実施形態について詳しく説明する。しかし、本発明はここで説明される実施形態に限定されるものではなく、他の形態で具体化してもよい。むしろ、ここで紹介される実施形態は、開示された内容が徹底かつ完全になるように、または当業者に本発明の思想が十分に伝達されるようにするために提供されるものである。
図面において、層および領域の厚さは、明確性を期するために誇張して示した。また、層が他の層または基板「上」にあると言及される場合には、他の層または基板上に直接形成されることもあり、またはその間に第3の層が介在することもある。明細書全体に渡って同一する参照番号で表示された部分は、同じ構成要素を意味する。
図1は、本発明の実施形態に係るショットキーバリアダイオードの断面図である。図2は、図1のn−型エピ層の平面図である。図3は、図1のn型エピ層の平面図である。
図1〜図3を参照すると、本実施形態に係るショットキーバリアダイオードは、n+型炭化ケイ素基板100の第1面にn−型エピ層(n−型エピタキシャル層)200、n型エピ層(n型エピタキシャル層)300、およびショットキー電極400が順に積層されており、n+型炭化ケイ素基板100の第2面にオーミック電極500が積層されている。
n−型エピ層200にはp+イオンが注入された第1p+領域210が形成されており、n型エピ層300にはp+イオンが注入された第2p+領域310が形成されている。
第1p+領域210は、n−型エピ層200の表面に格子形状で形成されている。第2p+領域310は、n型エピ層300の周縁を囲む(周縁に沿った)四角形状で形成されており、第1p+領域210と接触している。
このように、第1p+領域210と第2p+領域310が接触して電気的に連結しているため、逆バイアス印加時に第1p+領域210とn−型エピ層200の接合領域に逆バイアスが印加されて従来よりもさらに広い空乏層が形成され、漏洩電流が著しく減少する。
また、第1p+領域210をn−型エピ層200の表面に形成し、第1p+領域210と接触と接触する第2p+領域310をn型エピ層300の周縁に形成することにより、ショットキー接合面積が増加し、順方向電圧印加時にオン抵抗を低めることができる。
以下、図4〜図7および図1を参照しながら、本発明の実施形態に係る半導体素子の製造方法について詳細に説明する。
図4〜図7は、本発明の実施形態に係るショットキーバリアダイオードの製造方法を順に示す図である。
図4に示すように、n+型炭化ケイ素基板100を準備し、n+型炭化ケイ素基板100の第1面にエピタキシャル成長によってn−型エピ層200を形成する。
次に、図5に示すように、n−型エピ層200の一部表面にp+イオンを注入して第1p+領域210を形成する。第1p+領域210は、n−型エピ層200の表面上に格子形で形成される。
次に、図6に示すように、n−型エピ層200および第1p+領域210上にエピタキシャル成長によってn型エピ層300を形成する。
次に、図7に示すように、n型エピ層300の一部表面にp+イオンを注入して第2p+領域310を形成する。第2p+領域310は、n型エピ層300の周縁を囲む四角形状で形成される。第2p+領域310は、第1p+領域210に接触するように形成される。
次に、図1に示すように、n型エピ層300および第2p+領域310上にショットキー電極400を形成し、n+型炭化ケイ素基板100の第2面にオーミック電極500を形成する。
以上、本発明の好ましい実施形態について詳細に説明したが、本発明の権利範囲はこれに限定されるものではなく、添付した特許請求の範囲で定義している本発明の基本概念を利用した当業者の多様な変形および改良形態も本発明の権利範囲に属する。
100:n+型炭化ケイ素基板
200:n−型エピ層
210:第1p+領域
300:n型エピ層
310:第2p+領域
400:ショットキー電極
500:オーミック電極
200:n−型エピ層
210:第1p+領域
300:n型エピ層
310:第2p+領域
400:ショットキー電極
500:オーミック電極
Claims (6)
- n+型炭化ケイ素基板の第1面に位置するn−型エピ層、
前記n−型エピ層内に位置する第1p+領域、
前記n−型エピ層および前記第1p+領域上に位置するn型エピ層、
前記n型エピ層内に位置する第2p+領域、
前記n型エピ層および前記第2p+領域上に位置するショットキー電極、および
前記n+型炭化ケイ素基板の第2面に位置するオーミック電極を含み、
前記第1p+領域と前記第2p+領域は互いに接触している、ショットキーバリアダイオード。 - 前記第1p+領域は、前記n−型エピ層の表面に格子形状で形成されている、請求項1に記載のショットキーバリアダイオード。
- 前記第2p+領域は、前記n型エピ層の周縁を囲む四角形状で形成されている、請求項2に記載のショットキーバリアダイオード。
- n+型炭化ケイ素基板の第1面にn−型エピ層を形成する段階、
前記n−型エピ層の表面にp+イオンを注入して第1p+領域を形成する段階、
前記n−型エピ層および前記第1p+領域上にn型エピ層を形成する段階、
前記n型エピ層の表面にp+イオンを注入して第2p+領域を形成する段階、
前記n型エピ層および前記第2p+領域上にショットキー電極を形成する段階、および
前記n+型炭化ケイ素基板の第2面にオーミック電極を形成する段階を含み、
前記第1p+領域と前記第2p+領域は、互いに接触するように形成される、ショットキーバリアダイオードの製造方法。 - 前記第1p+領域は、前記n−型エピ層の表面に格子形状で形成される、請求項4に記載のショットキーバリアダイオードの製造方法。
- 前記第2p+領域は、前記n型エピ層の周縁を囲む四角形状で形成される、請求項5に記載のショットキーバリアダイオードの製造方法。
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