JP2009094125A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】半導体基板上に導電性膜を形成する工程と、前記導電性膜上に犠牲膜を形成する工程と、前記犠牲膜をパターニングする工程と、パターニングされた前記犠牲膜の側面に、サイドウォールを形成する工程と、パターニングされた前記犠牲膜を除去する工程と、前記サイドウォールをマスクとして用いて前記導電性膜をパターニングして、配線を形成する工程とを有する方法により、半導体装置を製造する。
【選択図】図1
Description
前記導電性膜上に犠牲膜を形成する工程と、
前記犠牲膜をパターニングする工程と、
パターニングされた前記犠牲膜の側面に、サイドウォールを形成する工程と、
パターニングされた前記犠牲膜を除去する工程と、
前記サイドウォールをマスクとして用いて前記導電性膜をパターニングして、配線を形成する工程と
を有することを特徴とする。
2 ゲート絶縁膜
3 導電性膜
3a ドープドポリシリコン膜
3b W/WN膜
4 犠牲膜
5 レジストパターン
6 サイドウォール形成用膜
7 サイドウォール
8 ゲート電極配線
Claims (4)
- 半導体基板上に導電性膜を形成する工程と、
前記導電性膜上に犠牲膜を形成する工程と、
前記犠牲膜をパターニングする工程と、
パターニングされた前記犠牲膜の側面に、サイドウォールを形成する工程と、
パターニングされた前記犠牲膜を除去する工程と、
前記サイドウォールをマスクとして用いて前記導電性膜をパターニングして、配線を形成する工程と
を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記犠牲膜としてアモルファスカーボン膜を形成することを特徴とする請求項1に記載の半導体の製造方法。
- 前記サイドウォールを形成する膜としてシリコン窒化膜を形成することを特徴とする請求項1または2に記載の半導体の製造方法。
- 前記配線として、ゲート電極配線を形成することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の半導体の製造方法。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100996072B1 (ko) | 2007-11-21 | 2010-11-22 | 가부시끼가이샤 도시바 | 반도체 장치 제조 방법 |
US8889560B2 (en) | 2011-08-02 | 2014-11-18 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Methods of forming fine patterns for semiconductor device |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62126637A (ja) * | 1985-11-18 | 1987-06-08 | インタ−ナショナル・ビジネス・マシ−ンズ・コ−ポレ−ション | 開孔の形成方法 |
JPS63263770A (ja) * | 1987-04-20 | 1988-10-31 | インターナシヨナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーシヨン | GaAs MESFET及びその製造方法 |
JPH0677180A (ja) * | 1992-08-24 | 1994-03-18 | Fujitsu Ltd | 細線状エッチングマスクの製造方法 |
JP2005045053A (ja) * | 2003-07-23 | 2005-02-17 | Elpida Memory Inc | 半導体装置の製造方法 |
JP2006303022A (ja) * | 2005-04-18 | 2006-11-02 | Toshiba Corp | 半導体装置の製造方法 |
JP2007027180A (ja) * | 2005-07-12 | 2007-02-01 | Elpida Memory Inc | 半導体装置及びその製造方法 |
-
2007
- 2007-10-04 JP JP2007260787A patent/JP2009094125A/ja active Pending
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62126637A (ja) * | 1985-11-18 | 1987-06-08 | インタ−ナショナル・ビジネス・マシ−ンズ・コ−ポレ−ション | 開孔の形成方法 |
JPS63263770A (ja) * | 1987-04-20 | 1988-10-31 | インターナシヨナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーシヨン | GaAs MESFET及びその製造方法 |
JPH0677180A (ja) * | 1992-08-24 | 1994-03-18 | Fujitsu Ltd | 細線状エッチングマスクの製造方法 |
JP2005045053A (ja) * | 2003-07-23 | 2005-02-17 | Elpida Memory Inc | 半導体装置の製造方法 |
JP2006303022A (ja) * | 2005-04-18 | 2006-11-02 | Toshiba Corp | 半導体装置の製造方法 |
JP2007027180A (ja) * | 2005-07-12 | 2007-02-01 | Elpida Memory Inc | 半導体装置及びその製造方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100996072B1 (ko) | 2007-11-21 | 2010-11-22 | 가부시끼가이샤 도시바 | 반도체 장치 제조 방법 |
US8889560B2 (en) | 2011-08-02 | 2014-11-18 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Methods of forming fine patterns for semiconductor device |
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