JP2009084264A - フラーレン誘導体 - Google Patents
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Abstract
Description
(1)
[式中、mは1〜6の整数を、nは1〜4の整数を、pは0〜5の整数を、rは0〜4の整数を表す。Qは下記式(2)または(3)で表される基を表す。mが複数個ある場合、それらは同一でも異なっていてもよい。]
(2) (3)
[式中、R1、R2は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基またはアリール基を表す。これらの基に含まれる水素原子はハロゲン原子で置換されていてもよい。qは0〜7の整数を、vは0〜5の整数を表す。R1が複数個ある場合、それらは同一でも異なっていてもよい。また、R2が複数個ある場合、それらは同一でも異なっていてもよい。]
(1)
[式中、mは1〜6の整数を、nは1〜4の整数を、pは0〜5の整数を、rは0〜4の整数を表す。Qは下記式(2)または(3)で表される基を表す。mが複数個ある場合、それらは同一でも異なっていてもよい。]
(2) (3)
[式中、R1、R2は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基またはアリール基を表す。これらの基に含まれる水素原子はハロゲン原子で置換されていてもよい。qは0〜7の整数を、vは0〜5の整数を表す。R1が複数個ある場合、それらは同一でも異なっていてもよい。また、R2が複数個ある場合、それらは同一でも異なっていてもよい。]
(4)
[式中、cは1〜6の整数を、dは1〜4の整数を、eは0〜5の整数を、fは0〜4の整数を表す。Tは下記式(5)または(6)で表される基を表す。cが複数個ある場合、それらは同一でも異なっていてもよい。]
(5) (6)
[式中、R3、R4は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基またはアリール基を表す。これらの基に含まれる水素原子はハロゲン原子で置換されていてもよい。gは0〜7の整数を、hは0〜5の整数を表す。ただし、hが0の場合は、fは1〜4の整数である。R3が複数個ある場合、それらは同一でも異なっていてもよい。また、R4が複数個ある場合、それらは同一でも異なっていてもよい。]
本発明の有機光電変換素子は、前記式(1)で表されるフラーレン誘導体を含む層を有する。該フラーレン誘導体は、C60フラーレン誘導体である。前記式(1)中、Qは前記式(2)または(3)で表される基である。
(9)
[式中、m、nおよびpは前述と同じ意味を表す。R5は、フッ素原子または炭素数1〜4のアルキル基を表す。]
ここで用いられるグリシン誘導体の例としては、N−メトキシメチルグリシン、N−(2−(2−メトキシエトキシ)エチル)グリシンなどが例示される。
これらのグリシン誘導体の使用量はフラーレン1モルに対して、通常0.1〜10モル、好ましくは0.5〜3モルの範囲である。
もう一つの置換基の原料であるアルデヒドとしては、例えば、ベンズアルデヒド、ナフトアルデヒドなどが例示される。
これらのアルデヒド類使用量はフラーレン1モルに対して、通常0.1〜10モル、好ましくは0.5〜4モルの範囲である。
通常この反応は、溶媒中で行なわれる。この場合溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン、ヘキサン、オクタン、クロルベンゼンなど、この反応に対して不活性な溶媒が用いられる。その使用量は、フラーレンに対して通常1〜100000重量倍の範囲である。
反応に際しては、例えば溶媒中でグリシン誘導体とアルデヒド類とフラーレンとを混合し加熱反応させればよく、反応温度は、通常50〜350℃の範囲で行なわれる。反応時間は、通常、30分間から50時間行なわれる。
加熱反応後、反応混合物を室温まで放冷し,溶媒をロータリーエバポレーターで減圧留去し,得られた固形物をシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィーで分離精製目的とするフラーレン誘導体を得ることができる。
本発明の有機光電変換素子は、少なくとも一方が透明又は半透明である一対の電極と、該電極間に本発明に用いられるフラーレン誘導体を含む層を有する。本発明に用いられるフラーレン誘導体は、電子受容性化合物として用いることも電子供与性化合物として用いることもできるが、電子受容性化合物として用いることが好ましい。
1.少なくとも一方が透明又は半透明である一対の電極と、該電極間に設けられ電子受容性化合物として本発明に用いられるフラーレン誘導体を含有する第一の層と、該第一の層に隣接して設けられた電子供与性化合物を含有する第二の層とを有する有機光電変換素子であることを特徴とするもの、
2.少なくとも一方が透明又は半透明である一対の電極と、該電極間に設けられ電子受容性化合物として本発明に用いられるフラーレン誘導体および電子供与性化合物を含有する層を少なくとも一層有する有機光電変換素子であることを特徴とするもの、
のいずれかが好ましい。
(10) (11)
[式中、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13、R14およびR15は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基またはアリール基を表す。]
前記有機薄膜の製造方法は、特に制限されず、例えば、本発明に用いられるフラーレン誘導体を含む溶液からの成膜による方法が挙げられる。
本発明のフラーレン誘導体は、前記式(4)で表される。前記式(4)中、Tは前記式(5)または(6)で表される基である。該フラーレン誘導体は、有機溶媒に対する溶解性に優れ、特に、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族の炭化水素系溶媒に対する溶解性に優れる。
(12)
[式中、R3、c、d、eおよびgは前述と同じ意味を表す。]
(13)
[式中、jは1〜4の整数を表す。R4、c、dおよびeは前述と同じ意味を表す。]
ベンジル(2−(2−ヒドロキシエトキシ)エチルアミノ)アセテートの合成
[第1ステップ]: Dean-Stark トラップを装着した2口フラスコにブロモ酢酸 (20.8 g, 150 mmol)、ベンジルアルコール(16.2 g, 150 mmol)、パラートルエンスルホン酸 (258 mg, 1.5 mmol)、ベンゼン (300 mL)を加え120 ℃ で 24 時間脱水縮合した。溶媒をエバポレーターで減圧留去し、ついでシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー (ヘキサン/エチルアセテート=10/1, 5/1)で精製してブロモ酢酸ベンジルエステル(34.3 g, 150 mmol) を黄色油状物として定量的に得た。: Rf 0.71 (hexane/ethyl acetate=4/1); 1H NMR (500 MHz, ppm, CDCl3, J=Hz) δ 3.81 (s, 2H), 5.14 (s, 2H), 7.31 (s, 5H); 13C NMR (125 MHz, ppm, CDCl3) δ 25.74, 67.79, 128.27, 128.48, 128.54, 134.88, 166.91; IR (neat, cm-1) 2959, 1751, 1458, 1412, 1377, 1167, 972, 750, 698.
[第2ステップ]: アルゴン雰囲気下ブロモ酢酸ベンジルエステル (13.7 g, 60 mmol) のジクロロメタン(90 mL) 溶液にトリエチルアミン (17 mL, 120 mmol)を0 ℃で加え、得られた混合液を20分同温度で攪拌し、ついで, 2−(2−アミノエトキシ)エタノール (12 mL, 120 mmol) のジクロロメタン (40 mL) 溶液を加え、室温で4時間攪拌した。ついで、有機層を水洗(3回)後,無水硫酸マグネシウムで乾燥し、エバポレーターで溶媒を減圧留去後,シリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー (展開溶媒:酢酸エチル /メタノール =1/0, 10/1, 5/1) 精製しグリシンエステル 2 (12.2 g, 48.0 mmol) を収率 80 % で無色油状物として得た。: Rf 0.48 (エチルアセテート/メタノール=2/1); 1H NMR (500 MHz, ppm, CDCl3, J=Hz) δ 2.83 (t, 2H, J=5.1 Hz), 3.50 (s, 2H), 3.52 (t, 2H, J= 4.6 Hz), 3.58 (t, 2H, J= 5.0 Hz), 3.65 (t, 2H, J= 4.6 Hz), 5.11 (s, 2H), 7.28-7.30 (m, 5H); 13C NMR (125 MHz, ppm, CDCl3) δ 48.46, 50.25, 61.29, 66.38, 69.80, 72.23, 126.63, 128.12, 128.37, 135.30, 171.78; IR (neat, cm-1) 3412, 2880, 1719, 1638, 1560, 1508, 1458, 1067, 669.
[第1ステップ]: アルゴン雰囲気下ベンジル2−(2−(2−ヒドロキシエトキシ)エチルアミノ)アセテート(2) (6.58 g, 26 mmol) のジクロロメタン (50 mL) 溶液にトリエチルアミン (4.3 mL, 31 mmol)を0℃で加え、ついで4−(N,N-ジメチルアミノ)ピリジン (DMAP) (32 mg, 0.26 mmol) を加え、得られた混合液を20分攪拌後、これにジ-tert-ブチルジカルボネート (6.77 g, 31 mmol) のジクロロメタン(10 mL)溶液を滴下した。反応混合液を室温で4時間攪拌後、水を入れた3角フラスコ中に注ぎ入れて反応を停止しジエチルエーテル抽出(3回)を行った。有機層を乾燥後、減圧濃縮、ついでシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー (展開溶媒:ヘキサン/酢酸エチル= 3/1, 2.5/1, 2/1) 精製を行い、ベンジル{tert-ブトキシカルボニル−[2−(2−ヒドロキシ−エトキシ)エチル]アミノ}アセテート(5.83 g, 16.5 mmol) を収率 63 % で無色油状物として得た。: Rf 0.58 (エチルアセテート/メタノール=20/1); 1H NMR (500 MHz, ppm, CDCl3, J=Hz) δ 1.34 (d, 9H, J= 54.5 Hz), 2.19 (brs, 1H), 3.38-3.45 (m, 4H), 3.50-3.60 (m, 4H), 3.99 (d, 2H, J= 41.3 Hz), 5.09 (d, 2H, J= 4.1 Hz), 7.25-7.30 (m, 5H); 13C NMR (125 MHz, ppm, CDCl3) δ 27.82, 28.05, 47.90, 48.20, 49.81, 50.39, 61.23, 66.42, 69.92, 72.12, 80.08, 127.93, 128.14, 135.25, 154.99, 155.19, 169.94, 170.07; IR (neat, cm-1) 3449, 2934, 2872, 1751, 1701, 1458, 1400, 1367, 1252, 1143; Anal. Calcd for C18H27NO6: C, 61.17; H, 7.70; N, 3.96. Found: C, 60.01; H, 7.75; N, 4.13.
[第2ステップ]: アルゴンガス雰囲気下,水素化ナトリウム (1.2 g, 24.8 mmol, 50% in meneral oil) のテトラヒドロフラン(THF) (10 mL)溶液にベンジル{tert-ブトキシカルボニル−[2−(2−ヒドロキシ−エトキシ)エチル]アミノ}アセテート(5.83 g, 16.5 mmol)のTHF (20 mL) 溶液を 0 ℃ で滴下し、同温度で20分攪拌後、ヨードメタン(1.6 mL, 24.8 mmol) を0 ℃で加えた。 反応混合液を室温で 20 時間攪拌し、ついでアイスバスで冷却しながら水を加えて反応を停止した.エーテル抽出(3回)し、有機層を乾燥後、減圧濃縮、シリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー (展開溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=5/1, 3/1)精製して ベンジル{tert-ブトキシカルボニル−[2−(2−メトキシ−エトキシ)エチル]アミノ}アセテート(3.02 g, 8.21 mmol) を収率50 %で無色油状物として得た。: Rf 0.54 (ヘキサン/エチルアセテート=1/1); 1H NMR (500 MHz, ppm, CDCl3, J=Hz) δ 1.34 (d, 9H, J= 51.8 Hz), 3.28 (d, 3H, J= 2.7 Hz), 3.37-3.46 (m, 6H), 3.52 (dt, 2H, J= 5.4Hz, 16.5 Hz), 4.02 (d, 2H, J= 34.8 Hz), 5.09 (d, 2H, J=4.5 Hz), 7.24-7.30 (m, 5H); 13C NMR (125 MHz, ppm, CDCl3) δ 24.93, 25.16, 44.68, 45.00, 46.70, 47.40, 55.78, 63.30, 67.22, 68.60, 76.95, 124.98, 125.14, 125.36, 132.49, 151.99, 152.31, 166.84, 166.96; IR (neat, cm-1) 2880, 1751, 1701, 1560, 1458, 1400, 1366, 1117, 698, 617; Anal. Calcd for C19H29NO6: C, 62.11; H, 7.96; N, 3.81. Found: C, 62.15; H, 8.16; N, 3.83.
[第3ステップ]: アルゴン雰囲気下、ベンジル{tert-ブトキシカルボニル−[2−(2−メトキシ−エトキシ)エチル]アミノ}アセテート (3.02 g, 8.21 mmol) のジクロロメタン (17 mL) 溶液にトリフルオロ酢酸 (TFA) (9.0 mL)を加え室温で7時間攪拌した。ついで、10% 炭酸ナトリウム水溶液を加えて pH10に調整し、ジクロロメタン抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮してベンジル[2−(2−メトキシ−エトキシ)エチルアミノ]アセテート (2.18 g, 8.19 mmol) を黄色油状物として定量的に得た。: Rf 0.32 (エチルアセテート/メタノール=20/1); 1H NMR (500 MHz, ppm, CDCl3, J=Hz) δ 1.99 (brs, 1H), 2.83 (t, 2H, J= 5.3 Hz), 3.38 (s, 3H), 3.50 (s, 2H), 3.54 (t, 2H, J= 4.6 Hz), 3.60-3.62 (m, 4H), 5.17 (s, 2H), 7.32-7.38 (m, 5H); 13C NMR (125 MHz, ppm, CDCl3) δ 48.46, 50.66, 58.76, 66.20, 70.00, 70.44, 71.64, 128.09, 128.33, 135.44, 171.84; IR (neat, cm-1) 3350, 2876, 1736, 1560, 1458, 1117, 1030, 698, 619; Anal. Calcd for C14H21NO4: C, 62.90; H, 7.92; N, 5.24. Found: C, 62.28; H, 8.20; N, 5.05.
[第4ステップ]: ベンジル[2−(2−メトキシ−エトキシ)エチルアミノ]アセテート(2.19 g, 8.19 mmol) のメタノール (27 mL) 溶液に、パラジウムを10重量%担持させた活性炭 (219 mg) を室温で加え,水素ガスをパージした後,水素雰囲気下,室温で7時間攪拌した。セライトパッドをしきつめたグラスフィルターでPd/Cを除去し,セライト層をメタノールで洗浄し,濾液を減圧濃縮し [2−(2−メトキシエトキシ)エチルアミノ]酢酸 (1) (1.38 g, 7.78 mmol) を収率95%で黄色油状物として得た。: 1H NMR (500 MHz, ppm, MeOD, J=Hz) δ 3.21 (t, 2H, J= 5.1 Hz), 3.38 (s, 3H), 3.51 (s, 2H), 3.57 (t, 2H, J= 4.4 Hz), 3.65 (t, 2H, J= 4.6 Hz), 3.73 (t, 2H, J= 5.1 Hz); 13C NMR (125 MHz, ppm, MeOD) δ 48.13, 50.49, 59.16, 67.08, 71.05, 72.85, 171.10; IR (neat, cm-1) 3414, 2827, 1751, 1630, 1369, 1111, 1028, 851, 799; Anal. Calcd for C7H15NO4: C, 47.45; H, 8.53; N, 7.90. Found: C, 46.20; H, 8.49; N, 7.43.
フラーレン誘導体Aはグリシン誘導体1と1−ナフトアルデヒドで生成するイミンから脱炭酸して生じるイミニウムカチオンとフラーレンとの1,3-双極子環化付加反応(Prato反応)で合成した。
系内で発生させたアルゴン雰囲気下、ジムロートコンデンサーを装着した3口フラスコにC60 (500 mg, 0.69 mmol)、グリシン誘導体 1 (185 mg, 1.04 mmol)、および 1−ナフチルアルデヒド(217 mg, 1.39 mmol) 、クロロベンゼン(100 mL)を混合し、150℃で3時間加熱還流を行った。室温まで放冷し、溶媒をロータリーエバポレーターで減圧留去し、得られた固形物をシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィーで分離精製し(展開溶媒: 二硫化炭素 / 酢酸エチル = 1/0 to 20/1 )、目的とするフラーレン誘導体A(356 mg,0.36 mmol, 収率52 %)を褐色粉末として得た。得られた粉末は、メタノールで5回洗浄後、減圧下で乾燥させた。
1H NMR (500 MHz, ppm, CDCl3, J= Hz) δ 2.89-2.94 (1H, m), 3.43 (3H, s), 3.43-3.50 (1H, m), 3.62-3.65 (2H, m), 3.76-3.78 (2H, m), 3.96-4.00 (1H, m), 4.05-4.10 (1H, m), 4.49 (1H, d, J= 10.0 Hz), 5.31 (1H, d, J= 10.0 Hz), 6.16 (1H, s), 7.44-7.45 (2H, m), 7.62 (1H, t, J= 8.0 Hz), 7.83 (1H, d, J= 9.0 Hz), 7.87 (1H, d, J= 8.0 Hz), 8.39 (1H, d, J= 6.0 Hz), 8.52 (1H, d, J= 8.0 Hz); 13C NMR (125 MHz, ppm, CDCl3) δ 51.98, 59.19, 67.71, 69.50, 70.51, 72.04, 76.29, 123.91, 125.52, 125.81, 126.11, 128.07, 128.63, 129.16, 132.65, 133.19, 133.99, 135.47, 135.87, 136.13, 136.66, 139.26, 139.49, 140.14, 140.34, 141.56, 141.64, 141.77, 141.97, 142.04, 142.11, 142.24, 142.27, 142.30, 142.56, 142.66, 142.93, 143.10, 144.23, 144.39, 144.57, 144.64, 145.09, 145.20, 145.25, 145.29, 145.44, 145.55, 145.68, 145.74, 145.92, 146.07, 146.20, 146.73, 147.04, 147.25, 147.31, 153.70, 154.17, 154.26, 156.81; IR (KBr, cm-1) 2808, 1508, 1456, 1425, 1178, 1107, 773, 527; MALDI-TOF-MS (matrix: SA) found 991.203 (calcd for C77H21NO2, exact mass: 991.173).
N-メトキシエトキシエチル-2-(パーフルオロフェニル)フレロピロリジン(フラーレン誘導体B)の合成
フラーレンC60 (250 mg, 0.35 mmol)、グリシン誘導体 1 (92 mg, 0.52 mmol)、ペンタフルオロベンズアルデヒド(136 mg, 0.69 mmol)を 50 mLのクロロベンゼン中2時間加熱還流を行い、実施例1と同様の操作で精製し、フラーレン誘導体B を179 mg (0.17 mmol, 収率50 %) 得た。
1H NMR (500 MHz, ppm, CDCl3, J= Hz) δ 3.08-3.14 (1H, m), 3.37-3.42 (1H, m), 3.45 (3H, s), 3.65-3.68 (2H, m), 3.80-3.82 (2H, m), 3.95-3.99 (1H, m), 4.12-4.17 (1H, m), 4.35 (1H, dd, J= 10.0 Hz, 3.0 Hz), 5.18 (1H, d, J= 19.0 Hz), 5.79 (1H, s); 13C NMR (125 MHz, ppm, CDCl3) δ51.85, 58.70, 66.68, 69.06, 69.57, 70.59, 71.90, 72.86, 72.89, 74.57, 125.13, 128.03, 128.77, 135.26, 135.63, 136.37, 137.82, 139.33, 139.97, 140.00, 140.04, 141.37, 141.41, 141.44, 141.67, 141.69, 141.83, 141.90, 141.99, 142.38, 142.47, 142.81, 142.87, 144.05, 144.17, 144.24, 144.49, 144.96, 145.02, 145.10, 145.13, 145.18, 145.28, 145.32, 145.41, 145.73, 145.83, 145.86, 145.94, 146.06, 146.09, 147.06, 147.08, 150.76, 152.02, 153.14, 155.40; 19F NMR (470 MHz, ppm, CDCl3, J= Hz) δ 9.24 (1F, d, J= 23.0 Hz), 21.68 (2F, d, J= 23.0 Hz), 28.48 (2F, d, J= 17.0 Hz); IR (Neat, cm-1) 2873, 1523, 1501, 1107, 997, 754, 527; MALDI-TOF-MS (Neat) found 1031.234 (calcd for C73H14F5NO2, exact mass: 1031.094).
N-メトキシエトキシエチル-2-(4-フルオロフェニル)フレロピロリジン(フラーレン誘導体C)の合成
フラーレン C60 (250 mg, 0.35 mmol)、グリシン誘導体 1 (92 mg, 0.52 mmol)、4−フルオロベンズアルデヒド (86 mg, 0.69 mmol)をクロロベンゼン50mL中2時間加熱還流した。実施例1と同様の操作で精製し、フラーレン誘導体Cを 192 mg (0.20 mmol, 収率58 %) 得た。
1H NMR (500 MHz, ppm, CDCl3, J= Hz) δ 2.82-2.85 (1H, m), 3.37 (3H, s), 3.59-3.61 (2H, m), 3.71-3.74 (2H, m), 3.92-3.94 (1H, m), 3.97-4.00 (1H, m), 4.27 (1H, d, J= 19.0 Hz), 5.19 (1H, s), 5.20 (1H, d, J= 19.0 Hz), 7.04 (2H, t, J= 17.0 Hz), 7.75 (2H, br); 13C NMR (125 MHz, ppm, CDCl3) δ 52.01, 59.19, 67.63, 69.11, 70.41, 70.59, 72.07, 76.21, 81.62, 115.59, 115.74, 131.03, 131.09, 132.98, 135.63, 135.90, 136.45, 136.91, 139.47, 139.90, 140.14, 140.19, 141.53, 141.68, 141.82, 141.87, 141.98, 142.02, 142.05, 142.10, 142.13, 142.17, 142.27, 142.55, 142.57, 142.69, 143.00, 143.17, 144.36, 144.42, 144.59, 144.72, 145.15, 145.21, 145.26, 145.33, 145.52, 145.72, 145.94, 145.95, 146.04, 146.11, 146.14, 146.17, 146.21, 146.28, 146.30, 146.46, 146.61 147.32, 153.16, 153.29, 154.13, 156.47, 161.72; 19F NMR (470 MHz, ppm, CDCl3) δ 49.55 (1F, s); IR (Neat, cm-1) 2880, 1508, 1225, 1109, 754, 527; MALDI-TOF-MS (matrix: SA) found 958.476 (calcd for C73H18FNO2, exact mass: 959.132).
N-メトキシエトキシエチル-2-(4-メチルフェニル)フレロピロリジン(フラーレン誘導体D)の合成
フラーレン C60 (250 mg, 0.35 mmol)、グリシン誘導体 1 (92 mg, 0.52 mmol), 4−フルオロベンズアルデヒド (83 mg, 0.69 mmol)、をクロロベンゼン50mL中2時間加熱還流した。実施例1と同様の操作で精製し、フラーレン誘導体Dを133 mg (0.14 mmol, 収率40 %)得た。
N-メトキシエトキシエチル-2-フェニル-フレロピロリジン(フラーレン誘導体E)の合成
フラーレン C60 (250 mg, 0.35 mmol)、グリシン誘導体 1 (92 mg, 0.52 mmol)、4−フルオロベンズアルデヒド (83 mg, 0.69 mmol)をクロロベンゼン50mL中2時間加熱還流した。実施例1と同様の操作で精製し、フラーレン誘導体Eを 133 mg (0.14 mmol, 収率40 %)得た。
フラーレン誘導体Fの合成
フラーレン C60 (250 mg, 0.35 mmol)、グリシン誘導体 1 (92 mg, 0.52 mmol)、4−トリフルオロメチルベンズアルデヒド (121 mg, 0.69 mmol)をクロロベンゼン50mL中2時間加熱還流した。実施例1と同様の操作で精製し、フラーレン誘導体Fを 170 mg (0.17 mmol, 収率49 %) 得た。
N-メトキシエトキシエチル-2-(2-フェニルエチル)フレロピロリジン(フラーレン誘導体G)の合成
フラーレン C60 (250 mg, 0.35 mmol)、グリシン誘導体 1 (92 mg, 0.52 mmol)、3−フェニルプロピオンアルデヒド (93 mg, 0.69 mmol)をクロロベンゼン50mL中2時間加熱還流した。実施例1と同様の操作で精製し、フラーレン誘導体Gを 164 mg (0.17 mmol, 収率48 %) 得た。
N-メトキシエトキシエチル-2-(2-ナフチル)フレロピロリジン(フラーレン誘導体H)の合成
フラーレン C60 (500 mg, 0.69 mmol)、 グリシン誘導体 1 (185 mg, 1.04 mmol)、2−ナフトアルデヒド (217 mg, 1.39 mmol)をクロロベンゼン100mL中3時間加熱還流した。実施例1と同様の操作で精製し、フラーレン誘導体Hを 262 mg (0.26 mmol, 収率38 %) 得た。
1H NMR (500 MHz, ppm, CDCl3, J= Hz) δ 2.90-2.95 (1H, m), 3.44 (3H, s), 3.65-3.67 (2H, m), 3.76-3.80 (2H, m), 3.97-4.02 (1H, m), 4.05-4.10 (1H, m), 4.36 (1H, d, J= 19.0 Hz), 5.26 (1H, d, J= 20.0 Hz), 5.34 (1H, s), 7.47-7.49 (3H, m), 7.83-7.90 (4H, m); 13C NMR (125 MHz, ppm, CDCl3) δ 52.12, 59.17, 67.73, 69.38, 70.49, 72.06, 76.39, 126.18, 126.25, 127.79, 128.09, 128.50, 133.47, 134.81, 135.66, 136.56, 136.92, 139.48, 139.87, 140.14, 141.47, 141.67, 141.75, 141.86, 141.92, 142.01, 142.64, 142.11, 142.14, 142.28, 142.48, 142.52, 142.65, 142.97, 143.11, 144.36, 144.39, 144.54, 144.70, 145.12, 145.17, 145.23, 145.32, 145.51, 145.55, 145.58, 145.73, 145.90, 146.10, 146.14, 146.19, 146.29, 146.48, 146.78, 147.27, 153.32, 153.57, 154.38, 156.51; IR (Neat, cm-1) 2922, 1215, 1184, 1109, 752, 669, 527; MALDI-TOF-MS (matrix: SA) found 990.629 (calcd for C77H21NO2, exact mass: 991.173).
(キシレンへの溶解性評価)
表1に示されるフラーレン誘導体に1wt%の濃度となるようキシレン溶媒を加え、マグネチックスターラーで10分間攪拌した。その後のキシレン溶媒への溶解性を目視で観察した。結果を表1に示す。
電子供与体としてレジオレギュラーポリ3−ヘキシルチオフェン(アルドリッチ社製、ロット番号:15409BE、Mw=41000、Mn=22000)を1%(重量%)の濃度でo−ジクロロベンゼンに溶解させた。その後、表2に示されるフラーレン誘導体を電子供与体の重量に対して等倍重量電子受容体として溶液に混合した。ついで、1.0μmのテフロン(登録商標)フィルターで濾過し、塗布溶液を作製した。
N-メトキシエトキシエチル-2-(4-ビフェニル)フレロピロリジン(フラーレン誘導体I)の合成
ジムロートコンデンサーを装着した2口フラスコ(100mL)にフラーレン C60 (250 mg, 0.35 mmol)、グリシン誘導体 1 (92 mg, 0.52 mmol)、ビフェニル-4-カルボキサアルデヒド (126 mg, 0.69 mmol)を入れ、クロロベンゼン(50 mL) を加えて3時間加熱還流した。 室温まで放冷後,ロータリーエバポレータで溶媒を除去し、ついでシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィーを用いて精製し(展開溶媒:二硫化炭素/ 酢酸エチル = 1/0 to 20/1 ) フラーレン誘導体Iを150 mg (0.15 mmol, 42 %) 得た(褐色粉末)。この粉末をメタノールで5回洗浄した後、減圧乾燥した。
1H NMR (400 MHz, ppm, CDCl3, J= Hz) δ 2.84-2.90 (1H, m), 3.36-3.48 (2H, m), 3.40 (3H, s), 3.57-3.66 (2H, m), 3.71-3.80 (2H, m), 3.93-3.98 (1H, m), 4.00-4.06 (1H, m), 4.29 (1H, d, J= 9.5 Hz), 5.17 (1H, s), 5.22 (1H, d, J= 9.9 Hz), 7.26 (1H, dt, J1=1.1 Hz, J2= 7.7 Hz), 7.35 (2H, dd, J1= 8.4 Hz, J2= 7.0 Hz), 7.52 (2H, dd, J1= 1.1 Hz, J2= 8.2 Hz), 7.58 (2H, d, J= 8.4 Hz), 7.82 (d, 2H, J= 7.82 Hz); 13C NMR (100 MHz, ppm, CDCl3) δ 41.83, 48.49, 57.29, 58.66, 60.22, 61.67, 65.70, 71.72, 116.45, 116.51, 116.82, 116.92, 117.73, 118.29, 118.49, 119.39, 125.12, 125.58, 126.01, 126.38, 129.02, 129.41, 129.61, 129.61, 129.86, 130.69, 130.99, 131.12, 131.35, 131.42, 131.47, 131.52, 131.60, 131.73, 132.01, 132.44, 132.59, 133.80, 133.84, 134.07, 134.15, 134.56, 134.63, 134.68, 134.74, 134.81, 134.94, 135.01, 135.20, 135.35, 135.52, 135.55, 135.60, 135.63, 135.70, 135.70, 135.75, 135.89, 136.21, 136.70, 142.74, 142.90, 143.63, 145,88; IR (KBr, cm-1) 3435, 2864, 2803, 1485, 1462, 1427, 1337, 1304, 1179, 1107, 1007, 843, 762, 694, 527; MALDI-TOF-MS (matrix: SA) found 1016.3050 (calcd for C79H23NO2 +, exact Mass: 1017.1729)。
N-メトキシエトキシエチル-2-(4-メトキシフェニル)フレロピロリジン(フラーレン誘導体J)の合成
フラーレン C60 (500 mg, 0.69 mmol)、グリシン誘導体 1 (185 mg, 1.04 mmol)、4-メトキシベンズアルデヒド(189 mg, 1.39 mmol)に100 mLのクロロベンゼンを加え、2時間加熱還流を行った。溶媒を減圧留去したのち、シリカゲルフラッシュカラムクロマト(展開溶媒:二硫化炭素/ トルエン/ 酢酸エチル = 1/0/0 to 0/40/1 )を用いて精製を行い、フラーレン誘導体Jを312 mg (0.321 mmol, 42 %) 得た。この粉末をメタノールで5回洗浄した後、減圧乾燥した。
1H NMR (400 MHz, ppm, CDCl3, J= Hz) δ 2.78-2.84 (1H, m), 3.39 (3H, s), 3.35-3.45 (1H, m), 3.56-3.63 (2H, m), 3.69-3.79 (2H, m), 3.75 (3H, s), 3.89-3.94 (1H, m), 3.96-4.02 (1H, m), 4.24 (1H, d, J= 9.8 Hz), 5.06 (1H, s), 5.17 (1H, d, J= 9.7 Hz), 6.86 (2H, d, J= 8.3 Hz), 7.64 (2H, d, J= 6.9 Hz); 13C NMR (100 MHz, ppm, CDCl3) δ 51.99, 54.62, 58.74, 67.49, 68.77, 70.47, 70.52, 71.95, 76.14, 81.76, 113.84, 128.01, 128.62, 130.23, 135.41, 135.53, 136.28, 136.53, 139.25, 139.66, 139.84, 139.90, 141.24, 141.37, 141.52, 141.63, 141.68, 141.80, 141.83, 141.86, 141.99, 142.26, 142.29, 142.37, 142.70, 142.85, 144.07, 144.35, 144.41, 144.81, 144.89, 144.89, 144.99, 145.05, 145.19, 145.27, 145.47, 145.60, 145.76, 145.80, 145.84, 145.94, 145.99, 146.07, 146.21, 146.50, 146.96, 153.30, 153.35, 153.94, 156.28, 159.27; IR (KBr, cm-1) 3460, 3893, 2866, 2828, 1609, 1508, 1456, 1429, 1302, 1246, 1180, 1171, 1107, 1034, 831, 573, 527; MALDI-TOF-MS (matrix: SA) found 971.1522 (calcd for C74H21NO3 +, exact Mass: 971.1521)。
N-メトキシエトキシエチル-2-(4-クロロフェニル)フレロピロリジン(フラーレン誘導体K)の合成
ジムロートコンデンサーを装着した2口フラスコ(200mL)にフラーレン C60 (500 mg, 0.69 mmol)、グリシン誘導体 1 (184 mg, 1.04 mmol)、4-クロロベンズアルデヒド(196 mg, 1.39 mmol) を入れ、クロロベンゼン(100 mL)を加えて2時間加熱還流した。室温まで放冷後、ロータリーエバポレータで溶媒を除去し、ついでシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィーを用いて精製し(展開溶媒:二硫化炭素/ 酢酸エチル = 1/0 to 20/1 ) フラーレン誘導体Kを254 mg (0.26 mmol, 38 %) 得た(褐色粉末)。この粉末をメタノールで5回洗浄した後、減圧乾燥した。
1H NMR (500 MHz, ppm, CDCl3, J= Hz) δ 2.85-2.90 (1H, m), 3.37-3.47 (1H, m), 3.42 (3H, s), 3.62-3.65 (2H, m), 3.71-3.80 (2H, m), 3.94-3.98 (1H, m), 4.01-4.05 (1H, m), 4.29 (1H, d, J= 9.6 Hz), 5.14 (1H, s), 5.21 (1H, d, J= 9.6 Hz), 7.37 (2H, d, J= 8.8 Hz), 7.75 (2H, d, J= 4.6 Hz); 13C NMR (100 MHz, ppm, CDCl3) δ52.02, 58.98, 67.51, 68.94, 70.34, 70.53, 71.98, 75.90, 81.52, 128.83, 130.58, 134.26, 135.48, 135.63, 135.79, 136.30, 136.83, 139.43, 139.81, 140.04, 140.07, 141.42, 141.55, 141.70, 141.83, 141.88, 141.93, 141.93, 141.98, 142.01, 142.11, 142.42, 142.55, 142.87, 142.87, 143.01, 144.20, 144.26, 144.45, 144.56, 145.01, 145.05, 145.05, 145.10, 145.14, 145.19, 145.29, 145.33, 145.40, 145.56, 145.81, 145.94, 145.99, 146.03, 146.06, 146.12, 146.16, 146.24, 146.39, 147.14, 152.71, 152.94, 153.84, 156.13; IR (KBr, cm-1) 2862, 2803, 1489, 1458, 1420, 1180, 1107, 1090, 1015, 839, 829, 598, 573, 527; MALDI-TOF-MS (matrix: SA) found 975.1024 (calcd for C73H18ClNO2 + Exact Mass: 975.1026 )
電子供与体としてレジオレギュラーポリ3−ヘキシルチオフェン(アルドリッチ社製、ロット番号:01004AH、Mw=43000、Mn=22000)を1%(重量%)の濃度でo−ジクロロベンゼンに溶解させた。その後、表3に示されるフラーレン誘導体を電子供与体の重量に対して等倍重量電子受容体として溶液に混合した。ついで、孔径1.0μmのテフロン(登録商標)フィルターで濾過し、塗布溶液を作製した。
表1から分かるように、フラーレン誘導体A〜Gは、[60]PCBMに比べてキシレンへの溶解性が優れていた。また、フラーレン誘導体A、C、D、E、H、I、J、Kを用いて形成した有機薄膜太陽電池(実施例8〜12、16〜18)は、高い光電変換効率を示した。
Claims (5)
- 下記式(1)で表されるフラーレン誘導体を含む層を有する有機光電変換素子。
(1)
[式中、mは1〜6の整数を、nは1〜4の整数を、pは0〜5の整数を、rは0〜4の整数を表す。Qは下記式(2)または(3)で表される基を表す。mが複数個ある場合、それらは同一でも異なっていてもよい。]
(2) (3)
[式中、R1、R2は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基またはアリール基を表す。これらの基に含まれる水素原子はハロゲン原子で置換されていてもよい。qは0〜7の整数を、vは0〜5の整数を表す。R1が複数個ある場合、それらは同一でも異なっていてもよい。また、R2が複数個ある場合、それらは同一でも異なっていてもよい。] - 下記式(1)で表されるフラーレン誘導体と電子供与性化合物とを含む組成物。
(1)
[式中、mは1〜6の整数を、nは1〜4の整数を、pは0〜5の整数を、rは0〜4の整数を表す。Qは下記式(2)または(3)で表される基を表す。mが複数個ある場合、それらは同一でも異なっていてもよい。]
(2) (3)
[式中、R1、R2は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基またはアリール基を表す。これらの基に含まれる水素原子はハロゲン原子で置換されていてもよい。qは0〜7の整数を、vは0〜5の整数を表す。R1が複数個ある場合、それらは同一でも異なっていてもよい。また、R2が複数個ある場合、それらは同一でも異なっていてもよい。] - 電子供与性化合物が高分子化合物である請求項2に記載の組成物。
- 請求項2または3に記載の組成物を含む層を有する有機光電変換素子。
- 下記式(4)で表されるフラーレン誘導体。
(4)
[式中、cは1〜6の整数を、dは1〜4の整数を、eは0〜5の整数を、fは0〜4の整数を表す。Tは下記式(5)または(6)で表される基を表す。cが複数個ある場合、それらは同一でも異なっていてもよい。]
(5) (6)
[式中、R3、R4は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基またはアリール基を表す。これらの基に含まれる水素原子はハロゲン原子で置換されていてもよい。gは0〜7の整数を、hは0〜5の整数を表す。ただし、hが0の場合は、fは1〜4の整数である。R3が複数個ある場合、それらは同一でも異なっていてもよい。また、R4が複数個ある場合、それらは同一でも異なっていてもよい。]
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Cited By (11)
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---|---|---|---|---|
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JP2011155104A (ja) * | 2010-01-27 | 2011-08-11 | Konica Minolta Holdings Inc | 有機光電変換素子、太陽電池及び光センサアレイ |
WO2011132573A1 (ja) * | 2010-04-22 | 2011-10-27 | 住友化学株式会社 | フラーレン誘導体及びその製造方法 |
JP2013216638A (ja) * | 2012-04-12 | 2013-10-24 | Nissan Chem Ind Ltd | フラーレン誘導体およびこれを用いた有機太陽電池 |
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JP2015013844A (ja) * | 2013-07-08 | 2015-01-22 | 住友化学株式会社 | フラーレン誘導体 |
JP2015113301A (ja) * | 2013-12-11 | 2015-06-22 | 株式会社リコー | フラーレン誘導体およびその製造方法 |
WO2017061543A1 (ja) * | 2015-10-06 | 2017-04-13 | ダイキン工業株式会社 | フラーレン誘導体、及びn型半導体材料 |
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Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009188373A (ja) * | 2008-01-09 | 2009-08-20 | Sumitomo Chemical Co Ltd | フラーレン誘導体を含む組成物およびそれを用いた有機光電変換素子 |
CN101971383B (zh) * | 2008-03-12 | 2013-01-09 | 住友化学株式会社 | 有机光电转换元件 |
JP5425438B2 (ja) * | 2008-10-06 | 2014-02-26 | 住友化学株式会社 | フラーレン誘導体 |
JP5229150B2 (ja) | 2009-07-31 | 2013-07-03 | 住友化学株式会社 | フラーレン誘導体 |
CN102827150B (zh) * | 2012-09-06 | 2014-10-01 | 中国工程物理研究院核物理与化学研究所 | 富勒烯单大环多胺衍生物及其制备方法 |
CN102827149B (zh) * | 2012-09-06 | 2014-10-01 | 中国工程物理研究院核物理与化学研究所 | 富勒烯单大环多胺衍生物中间体及其制备方法 |
CN102911002A (zh) * | 2012-10-23 | 2013-02-06 | 中国科学院化学研究所 | 含萘环富勒烯衍生物及其制备方法与应用 |
KR101573611B1 (ko) | 2013-04-17 | 2015-12-01 | 주식회사 엘지화학 | 플러렌 유도체, 이를 이용한 유기 태양 전지 및 이의 제조 방법 |
US9502658B2 (en) * | 2013-04-22 | 2016-11-22 | Nano-C, Inc. | Fullerene derivatives and related materials, methods, and devices |
CN103589788B (zh) * | 2013-10-18 | 2015-02-25 | 华美生物工程有限公司 | 富勒烯及其衍生物在多重pcr检测中的应用 |
EP2905277A1 (en) * | 2014-02-07 | 2015-08-12 | LANXESS Deutschland GmbH | 1',2',5'-trisubstituted Fulleropyrrolidines |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005116617A (ja) * | 2003-10-03 | 2005-04-28 | Sharp Corp | 光電変換素子及び太陽電池 |
JP2006290788A (ja) * | 2005-04-11 | 2006-10-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | フラーレン誘導体ならびにそれを用いたフラーレン膜の製造方法および電界効果トランジスタの製造方法 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3665955A (en) * | 1970-07-20 | 1972-05-30 | George Eugene Conner Sr | Self-contained valve control system |
US3630640A (en) * | 1970-09-04 | 1971-12-28 | Mcmurry Oil Tools Inc | Method and apparatus for gas-lift operations in oil wells |
US6162926A (en) * | 1995-07-31 | 2000-12-19 | Sphere Biosystems, Inc. | Multi-substituted fullerenes and methods for their preparation and characterization |
US6949660B2 (en) * | 1995-10-26 | 2005-09-27 | Seth Nanotechnology, Incorporated | Chiral (1pyrrolino) fullerene derivatives |
JP2000290278A (ja) * | 1999-04-02 | 2000-10-17 | Fuji Photo Film Co Ltd | 導電性を有する二本鎖dna断片および水溶性フラーレン誘導体 |
US6505684B2 (en) * | 2000-10-20 | 2003-01-14 | Schlumberger Technology Corporation | Hydraulic actuator |
US6644412B2 (en) * | 2001-04-25 | 2003-11-11 | Weatherford/Lamb, Inc. | Flow control apparatus for use in a wellbore |
EP1616075A1 (en) * | 2003-03-28 | 2006-01-18 | Shell Internationale Research Maatschappij B.V. | Surface flow controlled valve and screen |
US6924717B2 (en) * | 2003-06-30 | 2005-08-02 | Intel Corporation | Tapered electrode in an acoustic resonator |
US20050263287A1 (en) * | 2004-05-26 | 2005-12-01 | Schlumberger Technology Corporation | Flow Control in Conduits from Multiple Zones of a Well |
US7387165B2 (en) * | 2004-12-14 | 2008-06-17 | Schlumberger Technology Corporation | System for completing multiple well intervals |
US20060289058A1 (en) * | 2005-06-14 | 2006-12-28 | The University Of Manchester | Photoconductive polymer |
US7467665B2 (en) * | 2005-11-08 | 2008-12-23 | Baker Hughes Incorporated | Autonomous circulation, fill-up, and equalization valve |
JP5121710B2 (ja) * | 2006-07-05 | 2013-01-16 | 独立行政法人物質・材料研究機構 | 液状フラーレン誘導体、その製造方法およびそれを用いた素子 |
JP5425438B2 (ja) * | 2008-10-06 | 2014-02-26 | 住友化学株式会社 | フラーレン誘導体 |
JP5534714B2 (ja) * | 2008-10-06 | 2014-07-02 | 住友化学株式会社 | フラーレン誘導体 |
JP5639753B2 (ja) * | 2009-10-30 | 2014-12-10 | 住友化学株式会社 | フラーレン誘導体 |
-
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Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005116617A (ja) * | 2003-10-03 | 2005-04-28 | Sharp Corp | 光電変換素子及び太陽電池 |
JP2006290788A (ja) * | 2005-04-11 | 2006-10-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | フラーレン誘導体ならびにそれを用いたフラーレン膜の製造方法および電界効果トランジスタの製造方法 |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
JPN6008061112; BOSI,S. et al.: 'Synthesis of novel fullerene derivatives for potential use in optical limiting' MCLC S&T, Section B: Nonlinear Optics Vol.27, No.1-4, 2001, p.367-376 * |
JPN6008061114; WANG,P. et al.: 'Substituents effect on the nonlinear optical properties of C60 derivatives' Optics Communications Vol.192, No.3-6, 2001, p.387-391 * |
Cited By (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011052535A1 (ja) | 2009-10-30 | 2011-05-05 | 住友化学株式会社 | フラーレン誘導体 |
JP2011093848A (ja) * | 2009-10-30 | 2011-05-12 | Sumitomo Chemical Co Ltd | フラーレン誘導体 |
JP2011155104A (ja) * | 2010-01-27 | 2011-08-11 | Konica Minolta Holdings Inc | 有機光電変換素子、太陽電池及び光センサアレイ |
WO2011132573A1 (ja) * | 2010-04-22 | 2011-10-27 | 住友化学株式会社 | フラーレン誘導体及びその製造方法 |
JP2013216638A (ja) * | 2012-04-12 | 2013-10-24 | Nissan Chem Ind Ltd | フラーレン誘導体およびこれを用いた有機太陽電池 |
US10388878B2 (en) | 2013-05-16 | 2019-08-20 | Daikin Industries, Ltd. | Fullerene derivative and N-type semiconductor material |
WO2014185536A1 (ja) | 2013-05-16 | 2014-11-20 | ダイキン工業株式会社 | フラーレン誘導体、及びn型半導体材料 |
WO2014185535A1 (ja) | 2013-05-16 | 2014-11-20 | ダイキン工業株式会社 | フラーレン誘導体、及びn型半導体材料 |
JP2015013844A (ja) * | 2013-07-08 | 2015-01-22 | 住友化学株式会社 | フラーレン誘導体 |
JP2015113301A (ja) * | 2013-12-11 | 2015-06-22 | 株式会社リコー | フラーレン誘導体およびその製造方法 |
JPWO2016158698A1 (ja) * | 2015-03-30 | 2018-03-08 | 住友化学株式会社 | 光電変換素子 |
WO2017061543A1 (ja) * | 2015-10-06 | 2017-04-13 | ダイキン工業株式会社 | フラーレン誘導体、及びn型半導体材料 |
JPWO2017061543A1 (ja) * | 2015-10-06 | 2018-07-12 | ダイキン工業株式会社 | フラーレン誘導体、及びn型半導体材料 |
JP2020109093A (ja) * | 2015-10-06 | 2020-07-16 | ダイキン工業株式会社 | フラーレン誘導体、及びn型半導体材料 |
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JP2019212763A (ja) * | 2018-06-05 | 2019-12-12 | 住友化学株式会社 | 光電変換素子 |
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