JP2009032673A - 有機el表示装置及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板(ガラス基板101)の上に、第1電極300と、少なくとも発光層を含む有機層310と、第2電極320とを有する有機EL素子を複数備え、隣接して配置される第1電極300の間に絶縁性の画素分離膜330を備え、画素分離膜330の上に導電性材料からなる補助配線340を備えた有機EL表示装置において、補助配線340の上には、逆テーパー状の絶縁体又は導電体からなる隔壁350が形成されており、隔壁350の逆テーパー部の直下位置で補助配線340と第2電極320とが電気的に接続されていることを特徴とする有機EL表示装置。
【選択図】図1
Description
基板の上に、第1電極と、少なくとも発光層を含む有機層と、第2電極とを有する有機EL素子を複数備え、隣接して配置される前記第1電極の間に絶縁性の画素分離膜を備え、前記画素分離膜の上に導電性材料からなる補助配線を備えた有機EL表示装置において、
前記補助配線の上には、逆テーパー状の絶縁体又は導電体からなる隔壁が形成されており、前記隔壁の逆テーパー部の直下位置で前記補助配線と第2電極とが電気的に接続されていることを特徴とする。
(L6×tanθ3+L4/2)≦L5/2 <式1>
102 ソース領域
103 ドレイン領域
104 poly−Si
105 ゲート電極
106 ゲート絶縁膜
107 層間絶縁膜
108 ドレイン電極
109 無機絶縁膜
110 平坦化膜
200 TFT
300 反射電極(第1電極)
310 有機層
320 透明電極(第2電極)
330 画素分離膜
340 補助配線
341 偏光板
350 隔壁
401 封止ガラス
402 ドライ窒素
500 ガラス基板
501 TFT
510 ソース領域
511 poly−Si
512 ドレイン領域
514 ゲート電極
513 ゲート絶縁膜
515 層間絶縁膜
516 ドレイン電極
517 無機絶縁膜
518 有機平坦化膜
520 反射電極(第1電極)
521 透明電極
522 発光層
523 正孔輸送層
524 電子輸送層
525 有機層
530 画素分離膜
540 封止ガラス
541 不活性ガス
601 画素(表示領域)
602 補助配線
603 透明電極(第2電極)
604 隔壁
Claims (9)
- 基板の上に、第1電極と、少なくとも発光層を含む有機層と、第2電極とを有する有機EL素子を複数備え、隣接して配置される前記第1電極の間に絶縁性の画素分離膜を備え、前記画素分離膜の上に導電性材料からなる補助配線を備えた有機EL表示装置において、
前記補助配線の上には、逆テーパー状の絶縁体又は導電体からなる隔壁が形成されており、前記隔壁の逆テーパー部の直下位置で前記補助配線と第2電極とが電気的に接続されていることを特徴とする有機EL表示装置。 - 有機層は、第1電極、画素分離膜及び隔壁を含む表示領域全面を覆うように形成されていることを特徴とする請求項1に記載の有機EL表示装置。
- 第2電極は透明導電性材料からなり、有機EL発光が第2電極を介して取り出されることを特徴とする請求項1又は2に記載の有機EL表示装置。
- 前記隔壁が複数の層からなることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の有機EL表示装置。
- 前記補助配線のうち少なくとも2本が表示領域内に並行して設けられており、
前記隔壁が、前記補助配線が設けられている方向に、間隔を空けて断続的に設けられていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の有機EL表示装置。 - 前記第2電極の膜厚は、20nm以上45nm以下であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の有機EL表示装置。
- 基板の上に、第1電極と、少なくとも発光層を含む有機層と、第2電極とを有する有機EL素子を複数備え、隣接して配置される前記第1電極の間に絶縁性の画素分離膜を備え、前記画素分離膜の上に導電性材料からなる補助配線を備える有機EL表示装置の製造方法において、
基板の上に第1電極を形成する工程と、
第1電極の周縁部を覆い、各第1電極を区画するように画素分離膜を形成する工程と、画素分離膜の上に補助配線を形成する工程と、
補助配線の上に逆テーパー状の絶縁体又は導電体からなる隔壁を形成する工程と、
第1電極、画素分離膜及び隔壁を含む表示領域全面を覆うように、有機層を形成する工程と、
有機層の上に第2電極を形成し、隔壁の逆テーパー部の直下位置で補助配線と第2電極とを電気的に接続する工程とを有することを特徴とする有機EL表示装置の製造方法。 - 有機層を形成する工程では、前記有機層を真空蒸着法で形成することを特徴とする請求項7に記載の有機EL表示装置の製造方法。
- 第2電極を形成する工程では、前記第2電極をスパッタ法で形成することを特徴とする請求項7又は8に記載の有機EL表示装置の製造方法。
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