JP2008523982A - 水処理制御システム及びその利用方法 - Google Patents
水処理制御システム及びその利用方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008523982A JP2008523982A JP2007546732A JP2007546732A JP2008523982A JP 2008523982 A JP2008523982 A JP 2008523982A JP 2007546732 A JP2007546732 A JP 2007546732A JP 2007546732 A JP2007546732 A JP 2007546732A JP 2008523982 A JP2008523982 A JP 2008523982A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- treatment system
- water treatment
- control
- set value
- input signal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/008—Control or steering systems not provided for elsewhere in subclass C02F
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/72—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2209/00—Controlling or monitoring parameters in water treatment
- C02F2209/005—Processes using a programmable logic controller [PLC]
- C02F2209/006—Processes using a programmable logic controller [PLC] comprising a software program or a logic diagram
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2209/00—Controlling or monitoring parameters in water treatment
- C02F2209/04—Oxidation reduction potential [ORP]
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2209/00—Controlling or monitoring parameters in water treatment
- C02F2209/29—Chlorine compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2209/00—Controlling or monitoring parameters in water treatment
- C02F2209/40—Liquid flow rate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2303/00—Specific treatment goals
- C02F2303/18—Removal of treatment agents after treatment
- C02F2303/185—The treatment agent being halogen or a halogenated compound
Landscapes
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Hydrology & Water Resources (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Water Supply & Treatment (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
- Water Treatment By Electricity Or Magnetism (AREA)
Abstract
Description
本発明の以上の及びその他の実施形態の機能及び利点については、本発明の1つ以上のシステム及び技法の便益及び/または利点を例示するが、本発明の全範囲を例証するものではない、下記の例からさらによく理解することが可能である。
図3には、本発明の1つ以上の実施形態に従って、図1に典型として示された、処理システムの塩素処理及び/または脱塩素処理を制御するために実施可能な制御技法の流れ図の概要が示されている。
図4には、本発明のさらなる実施形態に従って、図1に典型として示された、処理システムの塩素処理及び/または脱塩素処理を制御するために実施可能なもう1つの制御技法に関する流れ図の概要が示されている。例1に記載の制御システムと同様、この例の制御システムも、1つ以上の問い合わせ操作を実施して(314)、制御が一次制御モードで実施されるべきか(316)、あるいは、二次または代替制御モードで制御すべきか(318)を確認することが可能である。前例と同様、制御モードの変更は、例えば、高ORPレベルを認識することによってトリガすることが可能である。しかし、代替制御モード318は、この例のように、約7.1ppmの所定のまたはあらかじめ選択された設定値と共に、電流測定値として典型となるように示された第2の測定パラメータに基づくことが可能である。
図1に概要が示された水処理システム(SWWTP)は、イリノイ州ブラッドリーのUSFilter,Stranco Productsから入手可能なSTRANTROL960を利用して運転された。廃水を消毒するため、酸化剤である塩素が出力装置34から供給された。塩素濃度を規制レベル内に低下させるため、接触室から放出する前に、還元剤である亜硫酸種が出力装置35から処理される廃水に送り込まれた。処理される水の流れは、左上から右下に示されている。
Tf=(Tl・Kf・F%)
ここで、Tlはシステムの固有遅れ時間であり、Kfは流量係数であり、F%は、処理システムの設計流量に対するパーセントで表わした平均流量である。
この例の場合、水処理システムは、やはり、イリノイ州ブラッドリーのUSFilter,Stranco Productsから入手可能なSTRANTROL960を利用して、ほぼ例3に記載のように、一次制御下で運転され、また、高警告条件によってトリガされる二次制御下で運転された。
この例において、先行例に記載の廃水処理システムは、一次制御モード(ORPに基づく)及び二次制御モード(測定塩素残留値に基づく)を利用して制御された。
この例では、先行例に記載の廃水処理プラントは、一次制御モード(ORPに基づく)及び二次制御モード(固定出力レベルに基づく)下において運転された。高ORPレベル(599mV)によって、一次制御モードから代替制御モードへの変更がトリガされた(約06時51分に)。流量916に基づいて流動ペーシングを施された、対応する塩素用量率914と共に、固定MCO出力レベル912に基づく制御が、測定ORP918が許容限界内に減少するまで実施された。
下記の表には、制御モードの変更をトリガまたは開始するために、上記例において利用可能なオーバライドが記載されている。
12 コントローラ
20 入力装置アセンブリ
22 入力装置アセンブリ
24 入力装置アセンブリ
26 センサ
28 センサ
30 センサ
34 出力装置
35 出力装置
Claims (32)
- 水処理システムに対する酸化化合物の添加を制御する方法であって、
前記水処理システムのプロセスパラメータ値を測定するステップと、
前記プロセスパラメータ値が第1の範囲内の場合、第1の制御モードで第1の制御信号を発生するステップと、
前記プロセスパラメータ値が第2の範囲内の場合、第2の制御モードで第2の制御信号を発生するステップが含まれている、
方法。 - 前記プロセスパラメータが、前記水処理システムにおける水の酸化還元電位に相当することを特徴とする請求項1記載の方法。
- 前記第1の制御信号が、前記プロセスパラメータ値と設定値との差に基づくことを特徴とする請求項1記載の方法。
- 前記第1の制御信号が、さらに、前記プロセスパラメータ値の変化率に基づくことを特徴とする請求項3記載の方法。
- 前記第2の制御信号が、前記プロセスパラメータ値と警告限界との差に基づくことを特徴とする請求項1記載の方法。
- 前記第2の制御信号が、さらに、前記プロセスパラメータ値の変化率に基づくことを特徴とする請求項5記載の方法。
- さらに、前記水処理システムの第2のプロセスパラメータを測定するステップが含まれることを特徴とする請求項1記載の方法。
- さらに、前記第2のプロセスパラメータの値と第2の設定値との差の大きさが許容差未満の場合、第3の制御信号を発生するステップが含まれることを特徴とする請求項7記載の方法。
- さらに、前記第2のプロセスパラメータ値と第2の設定値との差の大きさが許容差を超える場合、第4の制御信号を発生するステップが含まれることを特徴とする請求項8記載の方法。
- さらに、弁を作動して、前記第1及び第2の制御信号の少なくともいずれかに基づいて、前記酸化化合物の添加を調節するステップが含まれることを特徴とする請求項2記載の方法。
- 水処理システムに対する酸化化合物の添加を制御する方法であって、
前記水処理システムの第1の所望の運転条件を表わした第1の設定値を指定するステップと、
前記水処理システムの第2の所望の運転条件を表わした第2の設定値及び許容差を指定するステップと、
前記水処理システムの第1の運転パラメータに対応する第1の入力信号を発生するステップと、
前記水処理システムの第2の運転パラメータに対応する第2の入力信号を発生するステップと、
前記第2の入力信号と前記第2の設定値との差が前記許容差未満の場合、前記第1の入力信号と前記第1の設定値との差に基づいて、第1の出力信号を発生するステップと、
前記第2の入力信号と前記第2の設定値との差が前記許容差を超える場合、前記第1の入力信号と第2の設定値とに基づいて、第2の出力信号を発生するステップが含まれている、
方法。 - 前記第1の運転パラメータが酸化還元電位であることを特徴とする請求項11記載の方法。
- 前記第1の運転パラメータが前記水処理システムにおける前記酸化化合物の濃度であることを特徴とする請求項12記載の方法。
- 前記第1の出力信号が前記水処理システム内を流れる水の遅れ時間に基づくことを特徴とする請求項13記載の方法。
- 前記第1の出力信号の発生が、さらに、前記第1の入力信号の変化率に基づくことを特徴とする請求項14記載の方法。
- 前記第1及び第2の出力信号の少なくとも一方の発生に、適応、比例、比例・積分、比例・微分、及び、比例・積分・微分制御アルゴリズムのうちの少なくとも1つが利用されることを特徴とする請求項14記載の方法。
- 水処理システムに対する化合物の添加を制御する方法であって、
前記水処理システムの運転条件を表わした一次設定値を指定するステップと、
前記水処理システムの一次運転パラメータ及び二次運転パラメータを測定するステップと、
前記一次運転パラメータ及び前記一次設定値に基づいて第1の出力信号を発生するステップと、
第1の低運転パラメータ、第1の高運転パラメータ、第2の低運転パラメータ、及び、第2の高運転パラメータから構成されるグループから選択された少なくとも1つの条件が生じると、代替制御モードを確認するステップと、
前記代替制御モードが確認されると、前記一次運転パラメータ及び前記二次運転パラメータの少なくとも一方に基づいて、代替出力信号を発生するステップが含まれている、
方法。 - 前記第1の運転パラメータが、前記水処理システムにおける水の酸化還元電位に相当することと、前記第2の運転パラメータが、前記水処理システムにおける酸化種の濃度に相当することを特徴とする請求項17記載の方法。
- 前記代替出力信号が、前記一次運転パラメータ及び代替設定値に基づくことを特徴とする、請求項18記載の方法。
- 前記代替出力信号が、前記二次運転パラメータ及び代替設定値に基づくことを特徴とする請求項18記載の方法。
- 前記第1の運転パラメータが、前記水処理システムにおける酸化種の濃度に相当することと、前記第2の運転パラメータが、前記水処理システムにおける水の酸化還元電位に相当することを特徴とする請求項17記載の方法。
- 水処理システムであって、
前記水処理システムの運転パラメータを測定し、対応する入力信号を発生するために配置された入力装置と、
前記入力信号を受信して、分析し、前記入力信号と第1の設定値との第1の差に基づいて、第1の制御モードで第1の出力信号を発生し、前記入力信号と第2の設定値との第2の差に基づいて、第2の制御モードで第2の出力信号を発生するために配置されたコントローラと、
前記第1及び第2の出力信号を受信して、前記水処理システムに対する作用物質の添加を調節するために配置された出力装置が含まれている、
水処理システム。 - 水処理システムであって、
水処理システムの第1のパラメータを測定して、第1の入力信号を発生するために配置された第1の測定装置と、
水処理システムの第2のパラメータを測定して、第2の入力信号を発生するために配置された第2の測定装置と、
前記第1及び第2の入力信号を受信して、分析し、前記第2の入力信号と第2の設定値との差が許容差未満の場合には、第1の出力信号を発生し、前記第2の入力信号と前記設定値との差が前記許容差を超える場合には、第2の出力信号を発生するために配置されたコントローラと、
前記第1及び第2の出力信号の少なくともいずれかを受信して、前記水処理システムに対する酸化剤の添加を調節するために配置された出力装置が含まれている、
水処理システム。 - 前記第1のパラメータが前記水処理システムにおける水の酸化還元電位に相当することを特徴とする請求項23記載の水処理システム。
- 前記第2のパラメータが前記水処理システムにおける前記酸化剤の濃度に相当することを特徴とする請求項24記載の水処理システム。
- 前記第1の設定値が約400mVであることを特徴とする請求項25記載の水処理システム。
- 水処理システムであって、
前記水処理システム内に配置されたORPセンサと、
前記水処理システム内に配置された電流測定センサと、
前記ORPセンサ及び前記電流測定センサの少なくとも一方からの信号に応答して、前記水処理システム内の水に対する酸化種の添加を制御するための手段と、
第1の低運転パラメータ、第1の高運転パラメータ、第2の低運転パラメータ、及び、第2の高運転パラメータから構成されるグループから選択された少なくとも1つの条件が生じると、前記ORPセンサ及び前記電流測定センサの少なくとも一方からの信号に応答して、代替制御モードで、前記酸化種の添加を確認して、制御するための手段が含まれている、
水処理システム。 - コンピュータによって実行される結果として、
水処理システムのプロセスパラメータ値が第1の範囲内にある場合、第1の制御モードで第1の制御信号を発生する段階と、
前記プロセスパラメータ値が第2の範囲内にある場合、第2の制御モードで第2の制御信号を発生する段階を含む、
前記水処理システムに対する酸化化合物の添加を制御する方法が実施されるように、前記コンピュータに命じる命令を定義する、コンピュータ可読信号が記憶されたコンピュータ可読媒体。 - 前記第1の制御信号を発生する段階が、前記プロセスパラメータ値と設定値との差に基づくことを特徴とする請求項28記載のコンピュータ可読媒体。
- 前記第1の制御信号を発生する段階が、さらに、前記プロセスパラメータ値の変化率に基づくことを特徴とする請求項29記載のコンピュータ可読媒体。
- 前記プロセスパラメータが前記水処理システムにおける水の酸化還元電位に相当することを特徴とする請求項28記載のコンピュータ可読媒体。
- コンピュータによって実行される結果として、
水処理システムの第1の運転パラメータを測定するために配置された第1の入力装置から第1の入力信号を受信する段階と、
前記水処理システムの第2の運転パラメータを測定するために配置された第2の入力装置から第2の入力信号を受信する段階と、
前記第2の入力信号と第2の設定値との差が許容差未満の場合、前記第1の入力信号及び第1の設定値に基づいて第1の出力信号を発生する段階と、
前記第2の入力信号と前記第2の設定値との差が許容差を超える場合、前記第1の入力信号及び前記第2の設定値に基づいて第2の出力信号を発生する段階を含む、
前記水処理システムに対する酸化化合物の添加を制御する方法が実施されるように、前記コンピュータに命じる命令を定義する、コンピュータ可読信号が記憶されたコンピュータ可読媒体。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11/018,421 | 2004-12-21 | ||
US11/018,421 US7390399B2 (en) | 2004-12-21 | 2004-12-21 | Water treatment control systems and methods of use |
PCT/US2005/043832 WO2006068806A2 (en) | 2004-12-21 | 2005-12-06 | Water treatment control systems and methods of use |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008523982A true JP2008523982A (ja) | 2008-07-10 |
JP2008523982A5 JP2008523982A5 (ja) | 2009-02-12 |
JP4990158B2 JP4990158B2 (ja) | 2012-08-01 |
Family
ID=36594366
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007546732A Expired - Fee Related JP4990158B2 (ja) | 2004-12-21 | 2005-12-06 | 水処理制御システム及びその利用方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US7390399B2 (ja) |
EP (1) | EP1846335A4 (ja) |
JP (1) | JP4990158B2 (ja) |
KR (1) | KR20070092713A (ja) |
WO (1) | WO2006068806A2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014508033A (ja) * | 2011-01-17 | 2014-04-03 | シーメンス ウォーター テクノロジーズ エルエルシー | 超純水を提供するための方法およびシステム |
Families Citing this family (44)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7285217B2 (en) | 2003-12-02 | 2007-10-23 | Siemens Water Technologies Corp. | Removing odoriferous sulfides from wastewater |
US20070241062A9 (en) * | 2004-07-08 | 2007-10-18 | Simpson Gregory D | Synergistic composition and method for odor control |
US7390399B2 (en) * | 2004-12-21 | 2008-06-24 | Siemens Water Technologies Holding Corp. | Water treatment control systems and methods of use |
US7776209B2 (en) * | 2005-11-30 | 2010-08-17 | General Electric Company | Control method and apparatus for a water treatment system |
US10343939B2 (en) | 2006-06-06 | 2019-07-09 | Evoqua Water Technologies Llc | Ultraviolet light activated oxidation process for the reduction of organic carbon in semiconductor process water |
US8652336B2 (en) | 2006-06-06 | 2014-02-18 | Siemens Water Technologies Llc | Ultraviolet light activated oxidation process for the reduction of organic carbon in semiconductor process water |
US9365435B2 (en) | 2007-04-03 | 2016-06-14 | Evoqua Water Technologies Llc | Actinic radiation reactor |
US8741155B2 (en) | 2007-04-03 | 2014-06-03 | Evoqua Water Technologies Llc | Method and system for providing ultrapure water |
US8961798B2 (en) | 2007-04-03 | 2015-02-24 | Evoqua Water Technologies Llc | Method for measuring a concentration of a compound in a liquid stream |
US9725343B2 (en) | 2007-04-03 | 2017-08-08 | Evoqua Water Technologies Llc | System and method for measuring and treating a liquid stream |
US20080245737A1 (en) * | 2007-04-03 | 2008-10-09 | Siemens Water Technologies Corp. | Method and system for providing ultrapure water |
US9365436B2 (en) | 2007-04-03 | 2016-06-14 | Evoqua Water Technologies Llc | Method of irradiating a liquid |
US8753522B2 (en) | 2007-04-03 | 2014-06-17 | Evoqua Water Technologies Llc | System for controlling introduction of a reducing agent to a liquid stream |
CN101827789A (zh) * | 2007-07-31 | 2010-09-08 | 塞尔温社团有限公司 | 带有可更换滤芯的渗滤式过滤系统、用于确定过滤系统中的可更换滤芯的效能耗尽的方法以及结合这种方法的成套装置 |
US7799224B2 (en) * | 2008-01-30 | 2010-09-21 | Siemens Water Technologies Corp. | Wastewater treatment methods |
US20100011062A1 (en) * | 2008-07-14 | 2010-01-14 | St-Infonox, Inc. | Automated bioremediation system |
US20110017671A1 (en) * | 2009-01-20 | 2011-01-27 | Alley Jr Ernest Roberts | Water treatment system and method |
KR101185308B1 (ko) * | 2009-02-09 | 2012-09-21 | 엘지전자 주식회사 | 정수기 |
US8591730B2 (en) | 2009-07-30 | 2013-11-26 | Siemens Pte. Ltd. | Baffle plates for an ultraviolet reactor |
WO2011133634A1 (en) * | 2010-04-22 | 2011-10-27 | Siemens Industry, Inc. | Electrochemical control systems and methods |
US8430112B2 (en) | 2010-07-13 | 2013-04-30 | Siemens Industry, Inc. | Slurry feed system and method |
US8968646B2 (en) | 2011-02-18 | 2015-03-03 | Evoqua Water Technologies Llc | Synergistic methods for odor control |
EP2527301B1 (en) | 2011-05-26 | 2016-04-27 | Evoqua Water Technologies GmbH | Method and arrangement for a water treatment |
EP3865458A1 (en) | 2011-07-29 | 2021-08-18 | Hayward Industries, Inc. | Systems and methods for controlling chlorinators |
EP2737110B1 (en) | 2011-07-29 | 2022-12-28 | Hayward Industries, Inc. | Replaceable cell cartridges for chlorinators |
EP2795295B1 (en) | 2011-12-12 | 2017-10-11 | Step Ahead Innovations, Inc. | Water-quality monitoring system |
CN104205058A (zh) * | 2012-01-30 | 2014-12-10 | 海德罗诺威什公司 | 使用基于互联网的软件和数据库的水系统的远程监测、控制及自动分析 |
ES2900654T3 (es) | 2013-03-15 | 2022-03-17 | Hayward Ind Inc | Sistema de control modular de piscina/hidromasaje |
WO2014205230A1 (en) | 2013-06-19 | 2014-12-24 | Step Ahead Innovations Inc. | Aquatic environment water parameter testing systems and methods |
EP3099635B1 (en) * | 2014-01-28 | 2021-07-28 | Hayward Industries, Inc. | Systems and methods for interrelated control of chlorinators and pumps |
US11161762B2 (en) | 2015-01-21 | 2021-11-02 | Evoqua Water Technologies Llc | Advanced oxidation process for ex-situ groundwater remediation |
US10494281B2 (en) | 2015-01-21 | 2019-12-03 | Evoqua Water Technologies Llc | Advanced oxidation process for ex-situ groundwater remediation |
US10766796B2 (en) | 2015-06-12 | 2020-09-08 | Ugsi Solutions, Inc. | Chemical injection and control system and method for controlling chloramines |
US11122669B2 (en) | 2016-01-22 | 2021-09-14 | Hayward Industries, Inc. | Systems and methods for providing network connectivity and remote monitoring, optimization, and control of pool/spa equipment |
US11720085B2 (en) | 2016-01-22 | 2023-08-08 | Hayward Industries, Inc. | Systems and methods for providing network connectivity and remote monitoring, optimization, and control of pool/spa equipment |
EP3478639B1 (en) | 2016-06-30 | 2022-01-19 | Pax Water Technologies Inc. | Method and system for evaluating and maintaining disinfectant levels in a potable water supply |
WO2018175549A1 (en) | 2017-03-21 | 2018-09-27 | Hayward Industries, Inc. | Systems and methods for sanitizing pool and spa water |
US10836659B2 (en) | 2017-09-19 | 2020-11-17 | Ugsi Solutions, Inc. | Chemical control systems and methods for controlling disinfectants |
US20190194046A1 (en) * | 2017-12-22 | 2019-06-27 | Hayward Industries, Inc. | Systems and methods for dynamic sanitization control |
WO2020031183A1 (en) * | 2018-08-09 | 2020-02-13 | Maytronics Ltd. | A device and sysem for monitoring the quality of water in swimming-pools |
US11365141B2 (en) | 2019-03-19 | 2022-06-21 | Ovivo Inc. | Process aeration balance controller in wastewater treatment |
JP7059989B2 (ja) * | 2019-08-07 | 2022-04-26 | 横河電機株式会社 | 制御システム及び制御方法 |
US20210323838A1 (en) * | 2020-04-21 | 2021-10-21 | Truox, Inc. | Method and system for the remediation of aquatic facilities |
US11999633B2 (en) * | 2020-04-21 | 2024-06-04 | Truox Inc. | Method and system for the remediation of aquatic facilities |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06296973A (ja) * | 1993-04-15 | 1994-10-25 | Toshiba Corp | 水質制御装置 |
JP2000061481A (ja) * | 1998-08-21 | 2000-02-29 | Meidensha Corp | オゾン注入制御方法 |
JP2001009477A (ja) * | 1999-04-23 | 2001-01-16 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 過酸化水素によるNOxガス抑制方法 |
JP2003262612A (ja) * | 2002-03-08 | 2003-09-19 | Kurita Water Ind Ltd | 水中残留酸化剤の検出方法、及びそれを用いた酸化・還元剤の注入量制御方法 |
JP2004223448A (ja) * | 2003-01-24 | 2004-08-12 | Kawasaki Heavy Ind Ltd | 排水への滅菌剤注入量の自動制御方法とその装置 |
JP2004534630A (ja) * | 2000-11-28 | 2004-11-18 | エコクロア、 インコーポレイテッド | バラスト水内の有機体を制御する方法、装置および組成物 |
Family Cites Families (79)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2289589A (en) * | 1939-04-10 | 1942-07-14 | Wallace & Tiernan Co Inc | Treatment of aqueous liquids with halogens |
US3351542A (en) * | 1966-11-14 | 1967-11-07 | Dow Chemical Co | Electrolytic chlorination and ph control of swimming pool water |
US3458414A (en) * | 1967-11-24 | 1969-07-29 | William W T Crane | Swimming pool water conditioner |
US3669857A (en) * | 1970-07-30 | 1972-06-13 | Ionics | ELECTROLYTIC CHLORINATION AND pH CONTROL OF WATER |
US3733266A (en) * | 1971-09-07 | 1973-05-15 | Administrator Of The Environme | Waste water purification by breakpoint chlorination and carbon adsorption |
US3870631A (en) * | 1973-03-29 | 1975-03-11 | Barber Colman Co | Apparatus and method for wet oxidation of organic matter |
DK94476A (da) * | 1975-03-15 | 1976-09-16 | Skirde Aqua Nort | Fremgangsmade til tilberedning og sterilisering af badevand, iser til medicinske kar- og undervandsmassagebade, samt kar til anvendelse ved fremgangsmaden |
US4149952A (en) * | 1975-04-15 | 1979-04-17 | Asahi Glass Co. Ltd. | Electrolytic cell |
DE2529647C3 (de) * | 1975-07-03 | 1979-12-06 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Verfahren zur Reinigung von Abwässern der Hydrazinherstellung |
US4087360A (en) * | 1975-09-24 | 1978-05-02 | Olin Corporation | Method of inhibiting scale formation |
US4033871A (en) * | 1975-11-13 | 1977-07-05 | Paddock Of California, Inc. | Integrated monitor and control system for continuously monitoring and controlling pH and free halogen in swimming pool water |
DE2624256C2 (de) * | 1976-05-29 | 1978-04-06 | Deutsche Gold- Und Silber-Scheideanstalt Vormals Roessler, 6000 Frankfurt | Verfahren zum Reinigen von ammoniak- bzw. ammoniumsalzhaltigen Abwässern |
SE412577B (sv) * | 1976-09-06 | 1980-03-10 | Licento Ag | Apparat for klorering av vatten |
CA1079423A (en) | 1976-11-16 | 1980-06-10 | Raymond J. P. Brouzes | Process for treatment waste waters |
US4129493A (en) * | 1977-06-30 | 1978-12-12 | Diamond Shamrock Corporation | Swimming pool chlorinator system |
DE2821978A1 (de) * | 1978-05-19 | 1979-11-22 | Hooker Chemicals Plastics Corp | Anodenelement fuer monopolare, filterpressenartig angeordnete elektrolysezellen |
DE2930442A1 (de) | 1978-07-29 | 1980-02-07 | Furukawa Electric Co Ltd | Abwasserbehandlungsverfahren |
US4224154A (en) * | 1978-12-20 | 1980-09-23 | Steininger Jacques M | Swimming pool chemical control system |
DE2935124A1 (de) * | 1979-08-30 | 1981-03-12 | Reis, August K., Prof. Dr.med., 8000 München | Verfahren zur entkeimung von wasser. |
US4256552A (en) * | 1979-11-08 | 1981-03-17 | Sweeney Charles T | Chlorine generator |
US4340489A (en) * | 1980-04-07 | 1982-07-20 | International Environmental, Inc. | Wastewater treatment process with pH adjustment |
JPS5729586A (en) * | 1980-07-28 | 1982-02-17 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | Electrolysis of alkali metal chloride |
US4323092A (en) * | 1980-09-19 | 1982-04-06 | Corvinus & Roth Gmbh | Apparatus and process for detecting free chlorine |
US4366064A (en) * | 1980-10-30 | 1982-12-28 | United States Steel Corporation | Treatment of blast furnace wastewater |
US4381240A (en) * | 1981-05-05 | 1983-04-26 | Harry M. Weiss | Swimming pool water conditioning system |
FR2505879B1 (fr) * | 1981-05-15 | 1985-09-27 | Chloe Chemie | Diaphragme, son procede de preparation et le procede d'electrolyse le mettant en oeuvre |
US4446031A (en) * | 1981-06-30 | 1984-05-01 | Tioxide Group Limited | Sewage treatment composition its manufacture and use |
US4393037A (en) * | 1981-12-16 | 1983-07-12 | Union Oil Company Of California | Method for reconditioning bacteria-contaminated hydrogen sulfide removing systems |
US4456512A (en) * | 1982-03-10 | 1984-06-26 | The Dow Chemical Company | Photochemical reactor and method |
US4435291A (en) * | 1982-03-22 | 1984-03-06 | The Babcock & Wilcox Company | Breakpoint chlorination control system |
US4384961A (en) * | 1982-05-18 | 1983-05-24 | Pall Corporation | Process for filtration of aqueous oil-containing brines |
IT1155444B (it) * | 1982-12-23 | 1987-01-28 | Zanussi A Spa Industrie | Dispositivo e procedimento elettrolitico per la produzione di acqua di cloro |
JPS59190379A (ja) * | 1983-04-12 | 1984-10-29 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 縦型電解槽及びそれを用いる電解方法 |
US4550011A (en) * | 1983-07-01 | 1985-10-29 | Mccollum Roy L | Sample flow cell for automatic halogen and pH control for water reservoirs |
US4508697A (en) * | 1983-07-28 | 1985-04-02 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Hypochlorite destruction using urea |
DE3401637A1 (de) * | 1984-01-19 | 1985-07-25 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Verfahren zum elektrolysieren von fluessigen elektrolyten |
JPS60202792A (ja) | 1984-03-28 | 1985-10-14 | Kurita Water Ind Ltd | 酸化、還元処理装置 |
US4599159A (en) * | 1985-05-28 | 1986-07-08 | Hilbig Herbert H | Electrolytic pool chlorinator having distribution chamber for filling anode and cathode chambers |
US4818412A (en) * | 1986-04-01 | 1989-04-04 | Betz Laboratories, Inc. | Apparatus and process for feeding hypochlorite solution |
US4681687A (en) * | 1986-10-20 | 1987-07-21 | Nalco Chemical Company | Use of alkali metal nitrites to inhibit H2 S formation in flue gas desulfurization system sludges |
US4767511A (en) * | 1987-03-18 | 1988-08-30 | Aragon Pedro J | Chlorination and pH control system |
US4990260A (en) * | 1988-01-28 | 1991-02-05 | The Water Group, Inc. | Method and apparatus for removing oxidizable contaminants in water to achieve high purity water for industrial use |
US5045213A (en) * | 1988-06-10 | 1991-09-03 | Southern Water Treatment Company, Inc. | Waste water treatment method and apparatus |
US4952376A (en) * | 1988-09-13 | 1990-08-28 | Peroxidation Systems, Inc. | Oxidation chamber |
US5230822A (en) * | 1989-11-15 | 1993-07-27 | Lever Brothers Company, Division Of Conopco, Inc. | Wax-encapsulated particles |
DE4138421C2 (de) * | 1991-11-22 | 1993-12-02 | Degussa | Verfahren zum Abbau von Schadstoffen in Wasser mittels Wasserstoffperoxid unter UV-Bestrahlung |
US5580578A (en) * | 1992-01-27 | 1996-12-03 | Euro-Celtique, S.A. | Controlled release formulations coated with aqueous dispersions of acrylic polymers |
US5302356A (en) * | 1992-03-04 | 1994-04-12 | Arizona Board Of Reagents Acting On Behalf Of University Of Arizona | Ultrapure water treatment system |
US5200092A (en) * | 1992-06-23 | 1993-04-06 | Carus Corporation | Composition and method for sulfide control |
CN1054116C (zh) * | 1992-10-02 | 2000-07-05 | 生物技术资源两合公司 | 用作硫酸盐还原菌产生硫化物的抑制剂的细分散蒽醌类制剂 |
US5348664A (en) * | 1992-10-28 | 1994-09-20 | Stranco, Inc. | Process for disinfecting water by controlling oxidation/reduction potential |
US5422014A (en) * | 1993-03-18 | 1995-06-06 | Allen; Ross R. | Automatic chemical monitor and control system |
US5518629A (en) * | 1993-07-29 | 1996-05-21 | Betz Laboratories, Inc. | Methods for controlling scale formation in acqueous systems |
US5439595A (en) * | 1993-08-25 | 1995-08-08 | Downey, Jr.; Wayne F. | Water decontamination method using peroxide photolysis ionizer |
GB2281742A (en) | 1993-09-09 | 1995-03-15 | Grace W R & Co | Biocidal composition |
US5470480A (en) * | 1994-05-09 | 1995-11-28 | Eka Nobel, Inc. | Process for treating waste water effluent |
US5516423A (en) * | 1994-08-08 | 1996-05-14 | Concorp, Inc. | Variable residence time treatment system |
US5641410A (en) * | 1996-01-02 | 1997-06-24 | Peltzer; Charles T. | System for treating reclaimed water to provide treated water and corresponding method |
US5779912A (en) * | 1997-01-31 | 1998-07-14 | Lynntech, Inc. | Photocatalytic oxidation of organics using a porous titanium dioxide membrane and an efficient oxidant |
US6309597B1 (en) * | 1997-05-12 | 2001-10-30 | Arkion Life Sciences | Method for reducing hydrogen sulfide level in water containing sulfate-reducing bacteria and hydrogen sulfide-metabolizing bacteria |
JPH1133542A (ja) | 1997-07-25 | 1999-02-09 | Toto Ltd | 水の浄化方法及び水の浄化装置 |
JP3491666B2 (ja) | 1997-08-19 | 2004-01-26 | オルガノ株式会社 | Toc成分除去の制御方法及び装置 |
US5985155A (en) * | 1997-11-14 | 1999-11-16 | Autopilot Systems, Inc. | Method and apparatus for automatic adjustment of halogen production in a water treatment system |
JPH11290878A (ja) | 1998-02-16 | 1999-10-26 | Japan Organo Co Ltd | Toc成分除去の制御方法 |
US6077445A (en) * | 1998-03-03 | 2000-06-20 | Betzdearborn Inc. | Method to minimize corrosion in aqueous systems |
IL125592A (en) * | 1998-07-30 | 2004-06-01 | Argad Eyal Water Treat Technol | Water treatment |
DE19844179B4 (de) * | 1998-09-28 | 2004-08-19 | Usf Wallace & Tiernan Gmbh | Verfahren zum Einstellen der Zugabe von Desinfektionsmittel zu Wasser |
US6409926B1 (en) * | 1999-03-02 | 2002-06-25 | United States Filter Corporation | Air and water purification using continuous breakpoint halogenation and peroxygenation |
US6535795B1 (en) * | 1999-08-09 | 2003-03-18 | Baker Hughes Incorporated | Method for chemical addition utilizing adaptive optimization |
JP2001118818A (ja) * | 1999-08-12 | 2001-04-27 | Uct Kk | 紫外線処理装置及び紫外線処理方法 |
US6716359B1 (en) * | 2000-08-29 | 2004-04-06 | United States Filter Corporation | Enhanced time-based proportional control |
US20040112838A1 (en) * | 2001-02-09 | 2004-06-17 | United States Filter Corporation | System and method for optimized control of multiple oxidizers |
US6620315B2 (en) * | 2001-02-09 | 2003-09-16 | United States Filter Corporation | System for optimized control of multiple oxidizer feedstreams |
US6576144B1 (en) * | 2001-07-12 | 2003-06-10 | Mpr Services, Inc. | Method and apparatus for pretreatment of wastewater streams by chemical oxidation |
US7108781B2 (en) * | 2002-02-26 | 2006-09-19 | Usfilter Corporation | Enhanced air and water purification using continuous breakpoint halogenation with free oxygen radicals |
US6991735B2 (en) * | 2002-02-26 | 2006-01-31 | Usfilter Corporation | Free radical generator and method |
US7087172B2 (en) * | 2003-03-05 | 2006-08-08 | Usfilter Corporation | Methods for reducing nitrate demands in the reduction of dissolved and/or atmospheric sulfides in wastewater |
US7326340B2 (en) * | 2003-03-05 | 2008-02-05 | Siemens Water Technologies Holding Corp. | System for controlling sulfide generation |
US7390399B2 (en) * | 2004-12-21 | 2008-06-24 | Siemens Water Technologies Holding Corp. | Water treatment control systems and methods of use |
-
2004
- 2004-12-21 US US11/018,421 patent/US7390399B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-12-06 JP JP2007546732A patent/JP4990158B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2005-12-06 EP EP05852916A patent/EP1846335A4/en not_active Withdrawn
- 2005-12-06 WO PCT/US2005/043832 patent/WO2006068806A2/en active Application Filing
- 2005-12-06 KR KR1020077014115A patent/KR20070092713A/ko not_active Application Discontinuation
-
2008
- 2008-03-28 US US12/058,177 patent/US7867401B2/en active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06296973A (ja) * | 1993-04-15 | 1994-10-25 | Toshiba Corp | 水質制御装置 |
JP2000061481A (ja) * | 1998-08-21 | 2000-02-29 | Meidensha Corp | オゾン注入制御方法 |
JP2001009477A (ja) * | 1999-04-23 | 2001-01-16 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 過酸化水素によるNOxガス抑制方法 |
JP2004534630A (ja) * | 2000-11-28 | 2004-11-18 | エコクロア、 インコーポレイテッド | バラスト水内の有機体を制御する方法、装置および組成物 |
JP2003262612A (ja) * | 2002-03-08 | 2003-09-19 | Kurita Water Ind Ltd | 水中残留酸化剤の検出方法、及びそれを用いた酸化・還元剤の注入量制御方法 |
JP2004223448A (ja) * | 2003-01-24 | 2004-08-12 | Kawasaki Heavy Ind Ltd | 排水への滅菌剤注入量の自動制御方法とその装置 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014508033A (ja) * | 2011-01-17 | 2014-04-03 | シーメンス ウォーター テクノロジーズ エルエルシー | 超純水を提供するための方法およびシステム |
JP2016196000A (ja) * | 2011-01-17 | 2016-11-24 | エヴォクア ウォーター テクノロジーズ エルエルシーEvoqua Water Technologies LLC | 超純水を提供するための方法およびシステム |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1846335A2 (en) | 2007-10-24 |
JP4990158B2 (ja) | 2012-08-01 |
WO2006068806A3 (en) | 2006-11-09 |
US20080237148A1 (en) | 2008-10-02 |
EP1846335A4 (en) | 2011-08-31 |
WO2006068806A2 (en) | 2006-06-29 |
US20060131245A1 (en) | 2006-06-22 |
KR20070092713A (ko) | 2007-09-13 |
US7390399B2 (en) | 2008-06-24 |
US7867401B2 (en) | 2011-01-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4990158B2 (ja) | 水処理制御システム及びその利用方法 | |
US6143184A (en) | Air and water purification using continuous breakpoint halogenation | |
US20060169646A1 (en) | Method and system for treating water | |
US6149819A (en) | Air and water purification using continuous breakpoint halogenation and peroxygenation | |
JP6103495B2 (ja) | 空気質浄化装置、それを備えた加湿装置及びガス発生装置、空気質浄化装置における次亜塩素酸ガス放出量測定方法 | |
US11964887B2 (en) | Chemical control systems and methods for controlling disinfectants | |
JPH1015343A (ja) | 排煙脱硫処理における酸化制御方法 | |
JP7417526B2 (ja) | 電気化学システムの作動状態を判断するための方法 | |
JP2017202475A (ja) | 水処理システム | |
JP4840229B2 (ja) | 六価クロム含有排水の還元処理後の排水に含まれる還元剤の適正濃度維持方法および装置 | |
JP2009139119A (ja) | Cod自動計測器およびそれを用いたcodの測定方法 | |
JP7284624B2 (ja) | 残留塩素除去方法、残留塩素除去システムの制御装置及び残留塩素除去システム | |
JP5796479B2 (ja) | 冷却水の処理方法 | |
JP2003181461A (ja) | 水処理装置および水処理方法 | |
CN111373250B (zh) | 使用氯作为活性碱测定塔中游离氯浓度的方法 | |
JP7178834B2 (ja) | 過酸化水素含有水の処理方法および処理装置 | |
JP5458551B2 (ja) | 水系処理剤の濃度制御方法及び該制御方法を用いた水系の殺菌方法 | |
US20110264268A1 (en) | Electrochemical Control Systems And Methods | |
JP5700736B1 (ja) | 水処理装置及び水処理装置の制御方法 | |
US20230036931A1 (en) | Method for disinfection and function control of a chlorine sensor | |
WO2023149310A1 (ja) | 水処理方法および水処理装置 | |
JP7178833B2 (ja) | 過酸化水素含有水の処理装置 | |
JPH1080673A (ja) | 灰の処理方法及び処理装置 | |
JP2020192290A (ja) | 血液浄化装置 | |
KR20120104853A (ko) | 염소제 주입량 결정방법과 제어장치 및 그를 이용한 정수처리장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081205 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20081205 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110224 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110308 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20110608 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20110615 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20110708 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20110715 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110802 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120403 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120501 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150511 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150511 Year of fee payment: 3 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150511 Year of fee payment: 3 |
|
R371 | Transfer withdrawn |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150511 Year of fee payment: 3 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150511 Year of fee payment: 3 |
|
R371 | Transfer withdrawn |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150511 Year of fee payment: 3 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150511 Year of fee payment: 3 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |