JPH1133542A - 水の浄化方法及び水の浄化装置 - Google Patents
水の浄化方法及び水の浄化装置Info
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- JPH1133542A JPH1133542A JP19989797A JP19989797A JPH1133542A JP H1133542 A JPH1133542 A JP H1133542A JP 19989797 A JP19989797 A JP 19989797A JP 19989797 A JP19989797 A JP 19989797A JP H1133542 A JPH1133542 A JP H1133542A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 浄化槽を設けることなしに或いは浄化槽の容
量を小さくしても十分に水の浄化と殺菌ができるように
する。 【解決手段】 貯水部１に水の導出管１１と導入管１２
を接続し、導出管１１と導入管１２との間に光照射部２
を配置し、更に導出管１１の途中に循環ポンプ１３を設
け、導出管１１、導入管１２及び光照射部２にて通水経
路１０を構成している。光照射部２は、石英ガラスから
なる保護管３内にキャップ４を介してエキシマランプ５
が配置され、このエキシマランプ５内にはキセノンガス
が５００toor程度の圧力で封入され、また、保護管３と
エキシマランプ５との間の空間には窒素ガスなどのエキ
シマ光を吸収しないガスを封入している。
量を小さくしても十分に水の浄化と殺菌ができるように
する。 【解決手段】 貯水部１に水の導出管１１と導入管１２
を接続し、導出管１１と導入管１２との間に光照射部２
を配置し、更に導出管１１の途中に循環ポンプ１３を設
け、導出管１１、導入管１２及び光照射部２にて通水経
路１０を構成している。光照射部２は、石英ガラスから
なる保護管３内にキャップ４を介してエキシマランプ５
が配置され、このエキシマランプ５内にはキセノンガス
が５００toor程度の圧力で封入され、また、保護管３と
エキシマランプ５との間の空間には窒素ガスなどのエキ
シマ光を吸収しないガスを封入している。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は浴槽や水槽内の水を
浄化する方法とその装置に関する。
浄化する方法とその装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】浴槽や水槽内の水に含まれる汚れ成分
（有機物）を物理的或いは生物的に除去する浄化槽を備
えた浄化装置が従来から知られている。しかしながら、
浄化槽による浄化では水中の細菌を効率よく死滅させる
ことができない。そこで、従来から水中の汚れ成分を除
去する浄化とは別に殺菌を行なうようにした装置が提案
されている。
（有機物）を物理的或いは生物的に除去する浄化槽を備
えた浄化装置が従来から知られている。しかしながら、
浄化槽による浄化では水中の細菌を効率よく死滅させる
ことができない。そこで、従来から水中の汚れ成分を除
去する浄化とは別に殺菌を行なうようにした装置が提案
されている。
【０００３】例えば、特開昭６３−２９１６８６号公報
に開示される装置にあっては、筒状をなす濾材の内側に
同じく筒状をなす水遮断体を配置し、この水遮断体で囲
まれる空間内に波長２５３．７ｎｍの紫外線を発するラ
ンプを設けている。また、特公平６−８７８７７号公報
に開示される装置にあっては、循環経路に浴槽水中の汚
れ成分を吸着して分解する機能を有する浄化槽を配置す
るとともに、加熱装置と電解槽を設け、浴槽水を常時適
温に保持するとともに電解槽において生成したイオン水
にて浴槽水に含まれる雑菌を死滅せしめるようにしてい
る。
に開示される装置にあっては、筒状をなす濾材の内側に
同じく筒状をなす水遮断体を配置し、この水遮断体で囲
まれる空間内に波長２５３．７ｎｍの紫外線を発するラ
ンプを設けている。また、特公平６−８７８７７号公報
に開示される装置にあっては、循環経路に浴槽水中の汚
れ成分を吸着して分解する機能を有する浄化槽を配置す
るとともに、加熱装置と電解槽を設け、浴槽水を常時適
温に保持するとともに電解槽において生成したイオン水
にて浴槽水に含まれる雑菌を死滅せしめるようにしてい
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記したように、従来
装置において、浄化と殺菌を行なうには、浄化槽とは別
に殺菌のみを行なうランプや電解槽を設けており、その
分、装置の全体構成が大掛りとなり、また浄化と殺菌の
運転シーケンスが複雑になる等の問題がある。
装置において、浄化と殺菌を行なうには、浄化槽とは別
に殺菌のみを行なうランプや電解槽を設けており、その
分、装置の全体構成が大掛りとなり、また浄化と殺菌の
運転シーケンスが複雑になる等の問題がある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決すべく本
発明に係る水の浄化方法は、波長１５０ｎｍ以上２００
ｎｍ以下の紫外線を含む光を、有機物を含む水に照射す
ることで、水分子からヒドロキシラジカルを生成し、こ
のヒドロキシラジカルにより水中の有機物を酸化せし
め、当該有機物を更に分子量の小さな有機物或いは炭酸
ガスと水に分解するようにした。
発明に係る水の浄化方法は、波長１５０ｎｍ以上２００
ｎｍ以下の紫外線を含む光を、有機物を含む水に照射す
ることで、水分子からヒドロキシラジカルを生成し、こ
のヒドロキシラジカルにより水中の有機物を酸化せし
め、当該有機物を更に分子量の小さな有機物或いは炭酸
ガスと水に分解するようにした。
【０００６】図１はヒドロキシラジカルの発生原理を説
明する図であり、電極間に電圧を印加するとキセノン原
子（Ｘe）から電子（ｅ-）とキセノンラジカル（Ｘe*）
が発生し、更に励起状態のキセノンラジカル（Ｘe*）は
キセノン原子（Ｘe）と結合し、波長１５０ｎｍ以上２
００ｎｍ以下の紫外線としてエネルギーを放出する。そ
して、この波長１５０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の紫外線
が水分子に作用して、強力な酸化作用をなすヒドロキシ
ラジカルを発生させ、このヒドロキシラジカルが水中の
有機物を酸化・分解せしめる。
明する図であり、電極間に電圧を印加するとキセノン原
子（Ｘe）から電子（ｅ-）とキセノンラジカル（Ｘe*）
が発生し、更に励起状態のキセノンラジカル（Ｘe*）は
キセノン原子（Ｘe）と結合し、波長１５０ｎｍ以上２
００ｎｍ以下の紫外線としてエネルギーを放出する。そ
して、この波長１５０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の紫外線
が水分子に作用して、強力な酸化作用をなすヒドロキシ
ラジカルを発生させ、このヒドロキシラジカルが水中の
有機物を酸化・分解せしめる。
【０００７】図２は紫外線の波長と紫外線強度との関係
を示すグラフ、図３は紫外線の照射量と有機物の分解量
との関係をエキシマランプ（波長１５０ｎｍ以上２００
ｎｍ以下）と低圧水銀灯（波長２５３．７ｎｍ）とで比
較したグラフである。図２からエキシマランプから発せ
られる波長１５０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の紫外線強度
は、低圧水銀灯から発せられる波長２５３．７ｎｍの紫
外線強度の倍以上であることが分かる。また、図３か
ら、エキシマランプから発せられる波長１５０ｎｍ以上
２００ｎｍ以下の紫外線を有機物に照射すると有機物の
分解が生じるが、低圧水銀灯から発せられる波長２６
３．７ｎｍの紫外線によっては有機物の分解は行われな
いことが分かる。以上から、図１で説明したような、水
分子から酸化力に富むヒドロキシラジカルを発生させる
には波長１５０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の紫外線を照射
することが必要であると言える。因みに、波長１５０ｎ
ｍ未満の紫外線は石英を透過しないので実用化すること
は難しい。
を示すグラフ、図３は紫外線の照射量と有機物の分解量
との関係をエキシマランプ（波長１５０ｎｍ以上２００
ｎｍ以下）と低圧水銀灯（波長２５３．７ｎｍ）とで比
較したグラフである。図２からエキシマランプから発せ
られる波長１５０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の紫外線強度
は、低圧水銀灯から発せられる波長２５３．７ｎｍの紫
外線強度の倍以上であることが分かる。また、図３か
ら、エキシマランプから発せられる波長１５０ｎｍ以上
２００ｎｍ以下の紫外線を有機物に照射すると有機物の
分解が生じるが、低圧水銀灯から発せられる波長２６
３．７ｎｍの紫外線によっては有機物の分解は行われな
いことが分かる。以上から、図１で説明したような、水
分子から酸化力に富むヒドロキシラジカルを発生させる
には波長１５０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の紫外線を照射
することが必要であると言える。因みに、波長１５０ｎ
ｍ未満の紫外線は石英を透過しないので実用化すること
は難しい。
【０００８】また、本発明に係る他の水の浄化方法は、
波長１５０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の紫外線によって有
機物を分子量の小さな有機物に分解した後、この分子量
の小さな有機物を浄化槽において微生物によって分解す
るようにした。
波長１５０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の紫外線によって有
機物を分子量の小さな有機物に分解した後、この分子量
の小さな有機物を浄化槽において微生物によって分解す
るようにした。
【０００９】図４は有機物を微生物のみで分解した場合
と、微生物と波長１５０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の紫外
線とを併用して分解した場合の分解量を比較したグラフ
であり、このグラフから、波長１５０ｎｍ以上２００ｎ
ｍ以下の紫外線を併用することで、有機物の分解が飛躍
的に向上することが分かる。
と、微生物と波長１５０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の紫外
線とを併用して分解した場合の分解量を比較したグラフ
であり、このグラフから、波長１５０ｎｍ以上２００ｎ
ｍ以下の紫外線を併用することで、有機物の分解が飛躍
的に向上することが分かる。
【００１０】また、本発明に係る他の水の浄化方法は、
浄化槽内で微生物によって有機物を分子量の小さな有機
物に分解した後、この分子量の小さな有機物を波長１５
０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の紫外線によって分解するよ
うにした。このようにしても前記同様に有機物の分解が
促進される。
浄化槽内で微生物によって有機物を分子量の小さな有機
物に分解した後、この分子量の小さな有機物を波長１５
０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の紫外線によって分解するよ
うにした。このようにしても前記同様に有機物の分解が
促進される。
【００１１】また、本発明に係る水の浄化装置は、貯水
部と、この貯水部の壁面に設けられ貯水部内の水に波長
１５０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の紫外線を含む光を照射
するエキシマランプを備えた光照射部とを有する構成と
した。
部と、この貯水部の壁面に設けられ貯水部内の水に波長
１５０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の紫外線を含む光を照射
するエキシマランプを備えた光照射部とを有する構成と
した。
【００１２】前記浄化装置において、貯水部には貯水部
内の水を貯水部内で循環せしめるヒータ等の循環手段を
備えることが可能であり、また、光照射部の前方に反射
板を配置することも可能であり、更に、反射板としてヒ
ータを内蔵するなどの構成とすることで反射板が貯水部
内の水を貯水部内で循環せしめる循環手段を兼ねるよう
にすることも可能である。
内の水を貯水部内で循環せしめるヒータ等の循環手段を
備えることが可能であり、また、光照射部の前方に反射
板を配置することも可能であり、更に、反射板としてヒ
ータを内蔵するなどの構成とすることで反射板が貯水部
内の水を貯水部内で循環せしめる循環手段を兼ねるよう
にすることも可能である。
【００１３】また、本発明に係る他の水の浄化装置は、
貯水部と、この貯水部から導出した水を再び貯水部に戻
す循環ポンプを備えた通水経路と、この通水経路の途中
に設けられ通水経路を流れる水に波長１５０ｎｍ以上２
００ｎｍ以下の紫外線を含む光を照射するエキシマラン
プを備えた光照射部とを有する構成とした。この構成に
よる有機物の分解の効果は前述した通りであるが、同様
に貯水部に存する微生物に対しても殺菌作用があり、そ
の結果を図１２に示す。図１２から、循環経路におい
て、その流水中へエキシマランプによる波長１５０ｎｍ
以上２００ｎｍ以下の紫外線を含む光を照射すること
で、殺菌効果は非常に大きいことが分る。
貯水部と、この貯水部から導出した水を再び貯水部に戻
す循環ポンプを備えた通水経路と、この通水経路の途中
に設けられ通水経路を流れる水に波長１５０ｎｍ以上２
００ｎｍ以下の紫外線を含む光を照射するエキシマラン
プを備えた光照射部とを有する構成とした。この構成に
よる有機物の分解の効果は前述した通りであるが、同様
に貯水部に存する微生物に対しても殺菌作用があり、そ
の結果を図１２に示す。図１２から、循環経路におい
て、その流水中へエキシマランプによる波長１５０ｎｍ
以上２００ｎｍ以下の紫外線を含む光を照射すること
で、殺菌効果は非常に大きいことが分る。
【００１４】前記浄化装置において、エキシマランプを
紫外線が透過可能な保護管内に収納し、この保護管内を
３００Torr以下とするか波長１５０ｎｍ以上２００ｎｍ
以下の紫外線を吸収しないガスを主成分とした雰囲気と
することが可能である。
紫外線が透過可能な保護管内に収納し、この保護管内を
３００Torr以下とするか波長１５０ｎｍ以上２００ｎｍ
以下の紫外線を吸収しないガスを主成分とした雰囲気と
することが可能である。
【００１５】また、前記浄化装置の通水経路の途中に浄
化槽を設けてもよい。この浄化槽は通水経路の通水方向
を基準として、前記光照射部の上流側または下流側に設
けるか、或いは浄化槽内に前記光照射部を設ける。
化槽を設けてもよい。この浄化槽は通水経路の通水方向
を基準として、前記光照射部の上流側または下流側に設
けるか、或いは浄化槽内に前記光照射部を設ける。
【００１６】また、本発明に係る他の水の浄化装置は、
貯水部と、この貯水部内の水を循環せしめるポンプ部
と、前記ポンプ部の一部として組込まれる光照射部とを
有し、この光照射部には波長１５０ｎｍ以上２００ｎｍ
以下の紫外線を含む光を照射するエキシマランプが設け
らる構成とした。尚、前記光照射部は例えば循環ポンプ
の吐水口に設ける。
貯水部と、この貯水部内の水を循環せしめるポンプ部
と、前記ポンプ部の一部として組込まれる光照射部とを
有し、この光照射部には波長１５０ｎｍ以上２００ｎｍ
以下の紫外線を含む光を照射するエキシマランプが設け
らる構成とした。尚、前記光照射部は例えば循環ポンプ
の吐水口に設ける。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を添付
図面に基づいて説明する。ここで、図５は第１実施例に
係る水の浄化装置の断面図、図６は図５の要部拡大図で
あり、水の浄化装置は貯水部１の壁面に光照射部２を設
けている。
図面に基づいて説明する。ここで、図５は第１実施例に
係る水の浄化装置の断面図、図６は図５の要部拡大図で
あり、水の浄化装置は貯水部１の壁面に光照射部２を設
けている。
【００１８】光照射部２は、ステンレス、ＰＰＳ等の樹
脂等、温水にて腐食しない材料にて形成されたカバー３
と、このカバー３に組付けられ石英硝子等の材料で形成
された保護硝子４と、カバー３の内部に組込まれその表
面がＡl等の紫外線反射率が高い材料にて覆われた反射
板６１と、カバー３の内部に配置され、保護硝子４にて
貯水部１から隔離され反射板６１によって仕切られた空
間６２に配置されたエキシマランプ５とから構成されて
いる。このエキシマランプ５内には、通常キセノンガス
が５００Torr程度の圧力で封入されるが、キセノンガス
以外にクリプトンフッ素、アルゴン臭素、クリプトンヨ
ウ素、アルゴンフッ素、クリプトン臭素等を封入するこ
とができる。
脂等、温水にて腐食しない材料にて形成されたカバー３
と、このカバー３に組付けられ石英硝子等の材料で形成
された保護硝子４と、カバー３の内部に組込まれその表
面がＡl等の紫外線反射率が高い材料にて覆われた反射
板６１と、カバー３の内部に配置され、保護硝子４にて
貯水部１から隔離され反射板６１によって仕切られた空
間６２に配置されたエキシマランプ５とから構成されて
いる。このエキシマランプ５内には、通常キセノンガス
が５００Torr程度の圧力で封入されるが、キセノンガス
以外にクリプトンフッ素、アルゴン臭素、クリプトンヨ
ウ素、アルゴンフッ素、クリプトン臭素等を封入するこ
とができる。
【００１９】また、キャップ４にて封止された保護管３
とエキシマランプ５との間の空間には窒素ガスなどのエ
キシマ光を吸収しないガスを封入している。この空間に
封入ガスとしてはアルゴンやクリプトンでもよい。
とエキシマランプ５との間の空間には窒素ガスなどのエ
キシマ光を吸収しないガスを封入している。この空間に
封入ガスとしてはアルゴンやクリプトンでもよい。
【００２０】また、光照射部２の前方には反射板６が配
置され、更にこの実施例にあっては反射板６はヒータ７
と、ヒータ７に絶縁材を介して接触し、熱伝導率が高い
材料で基材が構成され、少なくとも水に接する表面は、
温水による腐食を受けない材料にて覆われている伝導体
６７と、ヒータ７と、温度検知器６５と、そこへ接続さ
れる電線等を封止する反射板のカバー６８によって構成
される。ヒータ７により、伝導体６７を介して貯水部１
の水を暖め、その水が対流運動を起こすことで、貯水部
１の水が循環することになる。更に、本実施例にあって
は、伝導体６７と接しながら、反射板６の上方に配置さ
れたサーミスタ、熱電対、半導体或いはバイメタル等に
より構成された温度検知器６５を付設しており、通常、
温度検知器６５は循環する水の温度を測定し、ヒータ７
の発熱量を制御するように働くが、貯水部１の水がない
場合、伝導体６７がヒータ７により熱せられ、しかも水
がないと瞬間的に温度が上昇することになるが、温度検
知器６５が伝導体６７と接していることで、瞬時に温度
上昇を検知し、ヒータへ即座にフィードバックをかける
ことにより装置全体に重大な悪影響を及ぼすことを防止
できる。
置され、更にこの実施例にあっては反射板６はヒータ７
と、ヒータ７に絶縁材を介して接触し、熱伝導率が高い
材料で基材が構成され、少なくとも水に接する表面は、
温水による腐食を受けない材料にて覆われている伝導体
６７と、ヒータ７と、温度検知器６５と、そこへ接続さ
れる電線等を封止する反射板のカバー６８によって構成
される。ヒータ７により、伝導体６７を介して貯水部１
の水を暖め、その水が対流運動を起こすことで、貯水部
１の水が循環することになる。更に、本実施例にあって
は、伝導体６７と接しながら、反射板６の上方に配置さ
れたサーミスタ、熱電対、半導体或いはバイメタル等に
より構成された温度検知器６５を付設しており、通常、
温度検知器６５は循環する水の温度を測定し、ヒータ７
の発熱量を制御するように働くが、貯水部１の水がない
場合、伝導体６７がヒータ７により熱せられ、しかも水
がないと瞬間的に温度が上昇することになるが、温度検
知器６５が伝導体６７と接していることで、瞬時に温度
上昇を検知し、ヒータへ即座にフィードバックをかける
ことにより装置全体に重大な悪影響を及ぼすことを防止
できる。
【００２１】尚、反射板６にヒータ７を付設せずに、貯
水部１内にヒータ８を設け、このヒータにて貯水部１内
の水を循環せしめて、同時に、エキシマランプ５の電極
間に交流電圧（４４ＫＨz・８０００Ｖ）をかけて放電
せしめることで、水分子からヒドロキシラジカルを生成
し、このヒドロキシラジカルによって水中の汚れ成分を
構成する有機物を酸化・分解するようにしてもよい。
水部１内にヒータ８を設け、このヒータにて貯水部１内
の水を循環せしめて、同時に、エキシマランプ５の電極
間に交流電圧（４４ＫＨz・８０００Ｖ）をかけて放電
せしめることで、水分子からヒドロキシラジカルを生成
し、このヒドロキシラジカルによって水中の汚れ成分を
構成する有機物を酸化・分解するようにしてもよい。
【００２２】図７は第２実施例に係る水の浄化装置の断
面図、図８は図７の要部拡大図であり、第２実施例にあ
っては、貯水部１に水の導出管１１と導入管１２を接続
し、導出管１１と導入管１２との間に光照射部２を配置
し、更に導出管１１の途中に循環ポンプ１３を設け、導
出管１１、導入管１２及び光照射部２にて通水経路１０
を構成している。
面図、図８は図７の要部拡大図であり、第２実施例にあ
っては、貯水部１に水の導出管１１と導入管１２を接続
し、導出管１１と導入管１２との間に光照射部２を配置
し、更に導出管１１の途中に循環ポンプ１３を設け、導
出管１１、導入管１２及び光照射部２にて通水経路１０
を構成している。
【００２３】光照射部２は第１実施例と同様に、石英ガ
ラスからなる保護管３内にキャップ４を介してエキシマ
ランプ５が配置され、このエキシマランプ５内にはキセ
ノンガスが５００toor程度の圧力で封入され、また、保
護管３とエキシマランプ５との間の空間には窒素ガスな
どのエキシマ光を吸収しないガスを封入している。
ラスからなる保護管３内にキャップ４を介してエキシマ
ランプ５が配置され、このエキシマランプ５内にはキセ
ノンガスが５００toor程度の圧力で封入され、また、保
護管３とエキシマランプ５との間の空間には窒素ガスな
どのエキシマ光を吸収しないガスを封入している。
【００２４】図９は第３実施例に係る水の浄化装置の断
面図であり、第３実施例にあっては、通水経路１０を構
成する導入管１２の途中に微生物によって有機物を分解
する浄化槽１４を設け、光照射部２においてある程度有
機物を分解し、この分解されて分子量が小さくなった有
機物を浄化槽１４で炭酸ガスと水に分解するようにして
いる。尚、図示例にあっては光照射部２の下流側に浄化
槽１４を設けたが、光照射部２の上流側、即ち導出管１
１の途中に設けてもよい。
面図であり、第３実施例にあっては、通水経路１０を構
成する導入管１２の途中に微生物によって有機物を分解
する浄化槽１４を設け、光照射部２においてある程度有
機物を分解し、この分解されて分子量が小さくなった有
機物を浄化槽１４で炭酸ガスと水に分解するようにして
いる。尚、図示例にあっては光照射部２の下流側に浄化
槽１４を設けたが、光照射部２の上流側、即ち導出管１
１の途中に設けてもよい。
【００２５】図１０は第４実施例に係る水の浄化装置の
断面図、図１１は図１０の部分拡大図であり、第４実施
例にあっては、貯水部１の壁面にポンプ部１５を設け、
このポンプ部１５に貯水部１内の水を循環せしめるポン
プ１３を設けている。そしてこの実施例にあっては、ポ
ンプ１３の吐水口に光照射部２を配置している。
断面図、図１１は図１０の部分拡大図であり、第４実施
例にあっては、貯水部１の壁面にポンプ部１５を設け、
このポンプ部１５に貯水部１内の水を循環せしめるポン
プ１３を設けている。そしてこの実施例にあっては、ポ
ンプ１３の吐水口に光照射部２を配置している。
【００２６】
【発明の効果】以上に説明した如く本発明によれば、エ
キシマランプ等から発せられる波長１５０ｎｍ以上２０
０ｎｍ以下を汚れ成分（有機物）を含む水に照射するこ
とで、有機物を分解するようにしたので、従来の微生物
による分解を行う浄化槽を省略することができ、装置全
体をコンパクト且つ低価格なものにすることができる。
キシマランプ等から発せられる波長１５０ｎｍ以上２０
０ｎｍ以下を汚れ成分（有機物）を含む水に照射するこ
とで、有機物を分解するようにしたので、従来の微生物
による分解を行う浄化槽を省略することができ、装置全
体をコンパクト且つ低価格なものにすることができる。
【００２７】また、浄化槽を省略せずに併用する場合で
も、有機物の分解を２段階で効率よく行えるので、浄化
槽の容積を従来よりも小さくすることができる。浄化槽
が省略でき或いは浄化槽を小さくできると、浄化槽の定
期的な清掃が不要若しくは簡単になる。
も、有機物の分解を２段階で効率よく行えるので、浄化
槽の容積を従来よりも小さくすることができる。浄化槽
が省略でき或いは浄化槽を小さくできると、浄化槽の定
期的な清掃が不要若しくは簡単になる。
【００２８】また、紫外線の照射で発生するヒドロキシ
ラジカルは反応性は高いが、寿命が短く残留性がない。
したがって半導体製造等に必要な酸化力のない純粋な水
を供給できる。
ラジカルは反応性は高いが、寿命が短く残留性がない。
したがって半導体製造等に必要な酸化力のない純粋な水
を供給できる。
【００２９】また、貯水部の壁面に照射部を設けるよう
にすれば、レジオネラ菌等の細菌の温床となる接続部が
省略でき、貯水部の水質を高く維持できる。また、貯水
部の壁面にポンプ部を設け、このポンプの吐水口等に照
射部を設けるようにすれば、貯水部の水を循環すること
ができ且つレジオネラ菌等の細菌の温床となる接続部が
省略できる。
にすれば、レジオネラ菌等の細菌の温床となる接続部が
省略でき、貯水部の水質を高く維持できる。また、貯水
部の壁面にポンプ部を設け、このポンプの吐水口等に照
射部を設けるようにすれば、貯水部の水を循環すること
ができ且つレジオネラ菌等の細菌の温床となる接続部が
省略できる。
【図１】ヒドロキシラジカルの発生原理を説明する図
【図２】紫外線の波長と紫外線強度との関係を示すグラ
フ
フ
【図３】紫外線の照射量と有機物の分解量との関係をエ
キシマランプ（波長１５０ｎｍ以上２００ｎｍ以下）と
低圧水銀灯（波長２５３．７ｎｍ）とで比較したグラフ
キシマランプ（波長１５０ｎｍ以上２００ｎｍ以下）と
低圧水銀灯（波長２５３．７ｎｍ）とで比較したグラフ
【図４】有機物を微生物のみで分解した場合と、微生物
と波長１５０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の紫外線とを併用
して分解した場合の分解量を比較したグラフ
と波長１５０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の紫外線とを併用
して分解した場合の分解量を比較したグラフ
【図５】第１実施例に係る水の浄化装置の断面図
【図６】図５の要部拡大図
【図７】第２実施例に係る水の浄化装置の断面図
【図８】図７の要部拡大図
【図９】第３実施例に係る水の浄化装置の断面図
【図１０】第４実施例に係る水の浄化装置の断面図
【図１１】図１０の部分拡大図
【図１２】貯水部に存する微生物に対する殺菌作用の結
果を示すグラフ
果を示すグラフ
１…貯水部、２…光照射部、３…保護管、４…キャップ
４、５…エキシマランプ、６…反射板、７，８…ヒー
タ、１０…通水経路、１１…導出管、１２…導入管、１
３…循環ポンプ、１４…浄化槽、１５…ポンプ部。
４、５…エキシマランプ、６…反射板、７，８…ヒー
タ、１０…通水経路、１１…導出管、１２…導入管、１
３…循環ポンプ、１４…浄化槽、１５…ポンプ部。
フロントページの続き (72)発明者 福田 幸弘 福岡県北九州市小倉北区中島２丁目１番１ 号 東陶機器株式会社内 (72)発明者 今坂 卓男 福岡県北九州市小倉北区中島２丁目１番１ 号 東陶機器株式会社内
Claims (12)
- 【請求項１】 波長１５０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の紫
外線を含む光を、有機物を含む水に照射することで、水
分子からヒドロキシラジカルを生成し、このヒドロキシ
ラジカルにより水中の有機物を酸化せしめ、当該有機物
を更に分子量の小さな有機物或いは炭酸ガスと水に分解
することを特徴とする水の浄化方法。 - 【請求項２】 波長１５０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の紫
外線を含む光を、有機物を含む水に照射することで、水
分子からヒドロキシラジカルを生成し、このヒドロキシ
ラジカルにより水中の有機物を酸化せしめ、当該有機物
を更に分子量の小さな有機物に分解した後、浄化槽にお
いて前記有機物を微生物によって分解することを特徴と
する水の浄化方法。 - 【請求項３】 微生物によって水中の有機物を分子量の
小さな有機物に分解せしめた後、波長１５０ｎｍ以上２
００ｎｍ以下の紫外線を含む光を、前記有機物を含む水
に照射することで、水分子からヒドロキシラジカルを生
成し、このヒドロキシラジカルにより水中の有機物を酸
化せしめ、当該有機物を更に分子量の小さな有機物或い
は炭酸ガスと水に分解することを特徴とする水の浄化方
法。 - 【請求項４】 貯水部と、この貯水部の壁面に設けられ
貯水部内の水に波長１５０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の紫
外線を含む光を照射するエキシマランプを備えた光照射
部とを有することを特徴とする水の浄化装置。 - 【請求項５】 請求項４に記載の水の浄化装置におい
て、前記貯水部は貯水部内の水を貯水部内で循環せしめ
るヒータ等の循環手段を備えることを特徴とする水の浄
化装置。 - 【請求項６】 請求項４に記載の水の浄化装置におい
て、前記光照射部の前方には反射板が配置されているこ
とを特徴とする水の浄化装置。 - 【請求項７】 請求項６に記載の水の浄化装置におい
て、前記反射板が貯水部内の水を貯水部内で循環せしめ
る循環手段を兼ねることを特徴とする水の浄化装置。 - 【請求項８】 貯水部と、この貯水部から導出した水を
再び貯水部に戻す循環ポンプを備えた通水経路と、この
通水経路の途中に設けられ通水経路を流れる水に波長１
５０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の紫外線を含む光を照射す
るエキシマランプを備えた光照射部とを有することを特
徴とする水の浄化装置。 - 【請求項９】 請求項８に記載の水の浄化装置におい
て、前記エキシマランプは紫外線が透過可能な保護管内
に収納され、この保護管内は３００Torr以下とされるか
波長１５０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の紫外線を吸収しな
いガスを主成分とした雰囲気であることを特徴とする水
の浄化装置。 - 【請求項１０】 請求項８に記載の水の浄化装置におい
て、前記通水経路の途中には浄化槽が設けられ、この浄
化槽は通水経路の通水方向を基準として、前記光照射部
の上流側または下流側に設けられるか、或いは浄化槽内
に前記光照射部を設けるようにしたことを特徴とする水
の浄化装置。 - 【請求項１１】 貯水部と、この貯水部の壁面に設けら
れ貯水部内の水を循環させるポンプ部とを備え、このポ
ンプ部に波長１５０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の紫外線を
含む光を照射するエキシマランプを備えた光照射部が設
けられていることを特徴とする水の浄化装置。 - 【請求項１２】 請求項１１に記載の水の浄化装置にお
いて、前記光照射部は循環ポンプの吐水口に設けられる
ことを特徴とする水の浄化装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19989797A JPH1133542A (ja) | 1997-07-25 | 1997-07-25 | 水の浄化方法及び水の浄化装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19989797A JPH1133542A (ja) | 1997-07-25 | 1997-07-25 | 水の浄化方法及び水の浄化装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1133542A true JPH1133542A (ja) | 1999-02-09 |
Family
ID=16415431
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19989797A Pending JPH1133542A (ja) | 1997-07-25 | 1997-07-25 | 水の浄化方法及び水の浄化装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1133542A (ja) |
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6991735B2 (en) * | 2002-02-26 | 2006-01-31 | Usfilter Corporation | Free radical generator and method |
| JP2008142594A (ja) * | 2006-12-07 | 2008-06-26 | Toshiba Corp | 紫外線消毒装置 |
| CN101913679A (zh) * | 2010-07-16 | 2010-12-15 | 中国科学院生态环境研究中心 | 一种高效紫外消毒器 |
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| US8961798B2 (en) | 2007-04-03 | 2015-02-24 | Evoqua Water Technologies Llc | Method for measuring a concentration of a compound in a liquid stream |
| US9365436B2 (en) | 2007-04-03 | 2016-06-14 | Evoqua Water Technologies Llc | Method of irradiating a liquid |
| US9365435B2 (en) | 2007-04-03 | 2016-06-14 | Evoqua Water Technologies Llc | Actinic radiation reactor |
| US9725343B2 (en) | 2007-04-03 | 2017-08-08 | Evoqua Water Technologies Llc | System and method for measuring and treating a liquid stream |
| US9764968B2 (en) | 2007-04-03 | 2017-09-19 | Evoqua Water Technologies Llc | Method and system for providing ultrapure water |
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| US10343939B2 (en) | 2006-06-06 | 2019-07-09 | Evoqua Water Technologies Llc | Ultraviolet light activated oxidation process for the reduction of organic carbon in semiconductor process water |
| US10494281B2 (en) | 2015-01-21 | 2019-12-03 | Evoqua Water Technologies Llc | Advanced oxidation process for ex-situ groundwater remediation |
| US11161762B2 (en) | 2015-01-21 | 2021-11-02 | Evoqua Water Technologies Llc | Advanced oxidation process for ex-situ groundwater remediation |
| US12103874B2 (en) | 2006-06-06 | 2024-10-01 | Evoqua Water Technologies Llc | Ultraviolet light activated oxidation process for the reduction of organic carbon in semiconductor process water |
-
1997
- 1997-07-25 JP JP19989797A patent/JPH1133542A/ja active Pending
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