JPH1133567A - オゾン分解方法とその装置 - Google Patents

オゾン分解方法とその装置

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JPH1133567A
JPH1133567A JP19954697A JP19954697A JPH1133567A JP H1133567 A JPH1133567 A JP H1133567A JP 19954697 A JP19954697 A JP 19954697A JP 19954697 A JP19954697 A JP 19954697A JP H1133567 A JPH1133567 A JP H1133567A
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JP
Japan
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ozone
water
contact tank
treated
tank
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Application number
JP19954697A
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English (en)
Inventor
Rie Kagami
理恵 加賀美
Hiroshi Noguchi
寛 野口
Shigeo Sato
茂雄 佐藤
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Meidensha Corp
Meidensha Electric Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Meidensha Corp
Meidensha Electric Manufacturing Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 オゾン接触槽での反応でオゾンを完全に消費
することによって水中及び気相中の残留オゾンをなく
し、経済性及び維持管理の面からも有利なオゾン分解方
法とその装置を提供することを目的とする。 【解決手段】 オゾン接触槽1内にランプ保護管5を介
在して紫外線ランプ6を挿入配置し、オゾン接触槽1内
にオゾン用の散気管4a,4bを配置して、被処理水に
オゾンガスを放散するのと同時に紫外線ランプ6から発
する光を照射することにより、光分解反応でオゾン放散
により生じた溶存オゾンを分解してOHラジカルを生成
し、このOHラジカルにより被処理水中の有機物の酸化
除去を行うとともにオゾンを完全分解して残留オゾンが
生じないようにしたオゾン分解方法とその装置を基本構
成とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は上下水道の処理分野
で利用されているオゾンの分解方法とその装置に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】オゾンは強力な酸化力を有しており、水
中の着色成分とか臭気成分の分解及び従来の前塩素処理
を採用した浄水過程で発生する有機塩素化合物であるト
リハロメタン(THM)前駆物質を分解する作用がある
ため、浄水の操作工程中にオゾン処理、又はオゾン処理
と活性炭処理との複合処理を行うなど水処理分野で広く
利用されており、近時は上水のみならず下水処理にも採
用されている。しかしながら処理工程中に投入されるオ
ゾンを100%の効率で使用することは困難であり、オ
ゾン処理が終了した後の水中とか排ガス中にはオゾンが
残留する。
【0003】水中に残留するオゾンは施設を腐食させる
作用があり、排ガス中に残留するオゾンは人体とか動植
物に対して毒性を示すため、これらの残留オゾンを含む
水とか排ガスを水処理施設の外部に放流又は排出する際
には、オゾンを分解処理する等の手段を採ることが必要
である。
【0004】従来から水環境における残留オゾンの水生
生物に与える影響を考慮して、水中の残留オゾンの許容
濃度は少なくとも0.05(ppm)以下に保つ必要が
あると言われている。又、排ガス中のオゾンについては
法的な規制値はないが、オゾンが光化学スモッグの一成
分とされており、大気汚染防止及び生活環境保全の観点
から残留オゾンの許容濃度は0.1(ppm)以下まで
分解処理してから放出する必要がある。
【0005】上記に関して、日本産業衛生協会のオゾン
許容濃度に関する委員会勧告(1972年)と厚生省の
オゾン設計指針(1972年)において、残留オゾンの
許容濃度は0.1(ppm)以下としている。
【0006】現在の水処理施設で採用されている残留オ
ゾンの分解方法として、表1に示す各種の手段が挙げら
れる(参考文献:出口富雄「オゾンを中心とした高度浄
水処理技術」及び「オゾン分解技術」三秀書房,199
0年を参照)。
【0007】
【表1】
【0008】一方、オゾンの酸化力を高める手段として
促進酸化処理法が検討されている。この促進酸化処理法
とは、オゾンの分解速度を促進してヒドロキシラジカル
(以下OHラジカルと略称)の生成速度を増加させ、こ
のOHラジカルの持つ強力な酸化力を利用する手段であ
る。
【0009】オゾンは活性酸素種との反応により分解さ
れてOHラジカルを生じる。もしくはオゾンが直接二酸
化チタン表面上で分解してOHラジカルが生成する可能
性も考えられる。いずれにしても生じたOHラジカルが
有機物等の分解反応の担い手となる。
【0010】水中におけるオゾン反応は、オゾン直接反
応とOHラジカルによる反応とに区分され、このOHラ
ジカル反応の酸化力はオゾン直接反応の酸化力よりも強
く、オゾン直接反応では困難な有機物を水と炭酸ガスに
完全分解することが可能である。
【0011】促進酸化処理法としては、オゾンと紫外線
照射の併用処理、オゾンと過酸化水素水の併用処理等の
外、光触媒を用いた促進酸化処理法としてオゾンと二酸
化チタンと紫外線照射の併用処理がある。オゾンと二酸
化チタン,紫外線の併用処理での反応は、二酸化チタ
ンの紫外線吸収によって起こる光触媒反応、オゾンに
よる紫外線吸収反応の複合反応となる。二酸化チタンの
光触媒としての機能は、半導体における光励起反応の原
理による。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記した
オゾン接触槽における水中及び気相中の残留オゾン分解
工程は、オゾンを完全に反応で消費できていないために
オゾンを製造する工程と反応工程の外に付け加えられる
工程であり、換言すればオゾンを完全に反応で消費でき
れば必要のない工程である。このようなオゾン分解工程
を実施するためには、設置用地の確保とか運転制御、経
済性、維持管理等の各種対策が要求されることになる。
【0013】例えば水中の残留オゾンを分解させるに
は、貯留槽とか空気曝気槽等の容積の大きな付帯設備が
必要であり、限られた敷地内に大きな貯留槽などを設置
することは困難な場合が多々ある。更に気相中にオゾン
を脱気させるためにはブロワ等の動力源が必要であるた
め、これらの設備費用とか維持管理面での負担が大きく
なるという問題点が生じる。
【0014】特に気相中オゾンを分解する装置は、水処
理施設の規模によってはかなり大掛かりな設備が必要と
なり、オゾン発生装置と同レベルの費用を要する場合も
ある。又、メンテナンスにも手間がかかる方法でもある
ため、水処理施設にオゾン処理を導入する上での運営上
の負担が増大してしまうという課題がある。
【0015】前記表1に示した方法の中で、活性炭によ
る気相中残留オゾンの分解方法はランニングコストが比
較的安価でメカニズムも簡便なため多用されているが、
オゾンの分解量に較べて活性炭の必要量が大きいため、
処理施設の設置容積がかなり大きくなり、しかも活性炭
の寿命が短いため該活性炭を定期的に交換するための煩
瑣な作業が不可欠であるという難点がある。
【0016】又、触媒分解とか熱分解による方法は大き
な設置容積は必要としないが、高価な触媒とか加熱状態
を制御する装置等の設備が必要となるためにイニシャル
コストが大きくなり、且つ維持管理上の負担も増大する
難点がある。更に還元剤を用いた薬品分解方法は、薬品
代等のランニングコストと該薬品の維持管理及び廃棄に
も留意しなければならず、多く採用されていないのが現
状である。
【0017】そこで本発明は上記に鑑みてなされたもの
であり、反応でオゾンを完全に消費することによって水
中及び気相中の残留オゾンをなくし、しかも実施に際し
て格別大きな設置用地とか複雑な運転制御手段を用いる
ことなく、経済性及び維持管理の面からも有利で、水処
理施設にオゾン処理を導入する上での運営上の負担を軽
減することができるオゾン分解方法とその装置を提供す
ることを目的とするものである。
【0018】
【課題を解決するための手段】本発明は上記の目的を達
成するために、請求項1,8に記載したように、オゾン
接触槽内にランプ保護管を介在して紫外線ランプを挿入
配置し、該オゾン接触槽内にオゾン用の散気管を配置し
て、オゾン接触槽内に投入された被処理水にオゾンガス
を放散するとともに紫外線ランプから発する光を照射す
ることにより、光分解反応でオゾン放散により生じた溶
存オゾンを分解してOHラジカルを生成し、このOHラ
ジカルにより被処理水中の有機物の酸化除去を行うとと
もにオゾンを完全分解して残留オゾンが生じないように
したオゾン分解方法とその装置を基本とする。
【0019】更に請求項2,9に記載したように、オゾ
ン接触槽内に二酸化チタン薄膜を塗布したランプ保護管
を介在して波長域300〜420nmの光源を挿入配置
し、該オゾン接触槽内にオゾン用の散気管を配置して、
オゾン接触槽内に投入された被処理水にオゾンガスを放
散するとともに光源から発する光を照射することによ
り、二酸化チタンによる光触媒反応により活性酸素種を
生成し、この活性酸素種と溶存オゾンの反応によりOH
ラジカルを生成して、このOHラジカルにより被処理水
中の有機物の酸化除去を行うとともにオゾンを完全分解
して残留オゾンが生じないようにしたオゾン分解方法と
その装置を提供する。
【0020】請求項3,10では上記光源としてブラッ
クライトを用いている。
【0021】請求項4によりオゾン接触槽に過酸化水素
溶液貯留槽を付設して該オゾン接触槽に過酸化水素を被
処理水中に注入するための過酸化水素溶液添加口を設
け、該オゾン接触槽内にオゾン用の散気管を配置して、
オゾン接触槽内に投入された被処理水にオゾンガスを放
散するとともに過酸化水素溶液添加口から過酸化水素を
添加することにより、溶存オゾンを分解してOHラジカ
ルを生成し、このOHラジカルによる被処理水との促進
酸化処理により被処理水中の有機物の酸化除去を行うと
ともにオゾンを完全分解して残留オゾンが生じないよう
にしたオゾン分解方法とその装置構成にしてある。
【0022】以下、オゾン接触槽内に紫外線ランプを挿
入配置するとともに、該オゾン接触槽内の気相空間部に
気相中オゾン分解用紫外線ランプを配置した組み合わせ
方法及び装置と、二酸化チタン薄膜を塗布したランプ保
護管と気相中オゾン分解用紫外線ランプの組み合わせ及
び装置、過酸化水素溶液添加口と気相中オゾン分解用紫
外線ランプの組み合わせにかかる方法と装置を提供す
る。
【0023】かかるオゾン分解方法とその装置、特に請
求項1記載の方法によれば、オゾン接触槽内に被処理水
を流入した後、散気管からオゾンガスを水中に放散する
とともにUVランプを点灯することにより、オゾンガス
中のオゾンが被処理水中に溶解して溶存オゾンが生成
し、且つUVランプから発せられる波長254nmの光
が溶存オゾンと光分解反応を起こし、溶存オゾンが分解
して酸化力の強いOHラジカルを生成する。このOHラ
ジカルと被処理水との促進酸化処理により、脱臭,脱
色,有機物の酸化除去及び殺菌,殺藻及び異臭味の除去
が行われるとともに、上記の反応でオゾンを完全に消費
することによって水中及び気相中に残留オゾンが生じな
いという作用が得られる。以下紫外線ランプと気相中オ
ゾン分解用紫外線ランプの組み合わせと、二酸化チタン
薄膜を塗布したランプ保護管と気相中オゾン分解用紫外
線ランプの組み合わせ及び過酸化水素溶液添加口と気相
中オゾン分解用紫外線ランプの組み合わせによっても同
様なオゾン完全消費の作用が得られる。
【0024】
【発明の実施の形態】以下に本発明にかかるオゾン分解
方法とその装置の各種実施の形態例を説明する。本実施
の形態例は水処理にオゾン促進酸化処理を導入してオゾ
ンの分解性を高めたことが特徴となっている。オゾン促
進酸化処理とは、通常オゾンの酸化力を高めるために採
用される手段であって、オゾンの分解速度を促進してO
Hラジカルを生成し、このOHラジカルの持つ強力な酸
化力を利用する。
【0025】水中におけるオゾン反応は、オゾン直接反
応とOHラジカルによる反応とに区分され、このOHラ
ジカル反応の酸化力はオゾン直接反応の酸化力よりも強
く、オゾン直接反応では困難な有機物を水と炭酸ガスに
完全分解することが可能である。
【0026】このように促進酸化処理により反応の段階
でオゾンを消費,分解させ、後段で別途にオゾン分解工
程を実施する必要がない方法と装置を得ることが本実施
形態例の主眼となっている。
【0027】促進酸化処理法としては、オゾンと紫外線
照射の併用処理、オゾンと過酸化水素水の併用処理等の
外、光触媒を用いた促進酸化処理法としてオゾンと二酸
化チタンと紫外線照射の併用処理がある。オゾンと二酸
化チタン,紫外線の併用処理での反応は、二酸化チタ
ンの紫外線吸収によって起こる光触媒反応、オゾンに
よる紫外線吸収反応の複合反応となる。二酸化チタンの
光触媒としての機能は、半導体における光励起反応の原
理による。
【0028】紫外線の波長域がオゾンの吸収帯から外れ
る場合は、光触媒反応と紫外線吸収反応によって生
成する活性酸素種とオゾンとの反応の相互作用が現れ
る。
【0029】図1は本発明の第1実施形態例を示す概要
図であり、図中の1はオゾン接触槽、2はオゾン発生装
置であって、オゾン接触槽1は第1槽1a,第2槽1
b,第3槽1cに区分されていて、各槽内には流入水の
短絡を防止するために上壁部から隔壁3,3が垂下され
て被処理水に上下流が生じるように構成されている。
【0030】第1槽1aと第2槽1bの底壁近傍にはオ
ゾンガス用の散気管4a,4bが配置されている。
【0031】上記第1槽1a,第2槽1b,第3槽1c
内には、上方から石英ガラス等を用いたランプ保護管5
を介在して、光源として主波長254nmの低圧水銀ラ
ンプを用いた紫外線ランプ6(以下UVランプ6と略
称)が挿入配置されている。
【0032】8はランプ電源、9は被処理水の流入口、
10は同流出口、11は排オゾンガス流出口,12はコ
ントローラである。この排オゾンガス流出口11は図外
の排オゾン処理装置に連接されている。
【0033】第3槽1c内の底壁近傍及び被処理水の流
出口10近傍には溶存オゾンセンサ13,13が配置さ
れていて、この溶存オゾンセンサ13,13の検知した
溶存オゾン濃度信号がコントローラ12に入力されてい
る。そして該コントローラ12の制御出力によってオゾ
ン発生装置2の駆動制御が行われるように構成されてい
る。
【0034】第1実施形態例では、第1槽1aと第2槽
1bはオゾン注入槽としての機能を有し、第3槽1cは
滞留分解槽としての機能を有している。尚、被処理水の
水質とか設置面積の制約条件内で全槽数を増減する場合
も考えられる。
【0035】かかる第1実施形態例の作用は以下の通り
である。先ず流入口9から被処理水を流入し、オゾン発
生装置2を起動してオゾン接触槽1の第1槽1aと第2
槽1bの底壁近傍に配置された散気管4a,4bからオ
ゾンガスを水中に放散する。同時にランプ電源8のスイ
ッチをオンにしてUVランプ6を点灯する。但しオゾン
ガスの放散とUVランプ6の点灯とは必ずしも同時でな
くとも良い。
【0036】すると第1槽1aと第2槽1b内に放散さ
れたオゾンガス中のオゾンが被処理水中に溶解して溶存
オゾンが生成し、且つUVランプ6から発せられる波長
254nmの光はオゾンのHaertly帯と呼ばれる吸収帯
と重なるため、溶存オゾンと光分解反応を起こし、溶存
オゾンが分解して酸化力の強いOHラジカルを生成す
る。生成したOHラジカルと被処理水との促進酸化処理
により、脱臭,脱色,有機物の酸化除去及び殺菌,殺藻
及び異臭味の除去が行われる。
【0037】尚、第3槽1c内に挿入配置されたUVラ
ンプ6は、第2槽1bまでに分解しきれなかった溶存オ
ゾンを分解するためと、殺菌作用を高めるために補助的
に設けてある。
【0038】このような動作時に、第3槽1c内の底壁
近傍及び被処理水の流出口10近傍に配置した溶存オゾ
ンセンサ13,13によって被処理水の溶存オゾン濃度
を測定し、この溶存オゾン濃度が0.05ppm以下に
なるようにコントローラ12からオゾン発生装置2の駆
動制御を行う。特に第3槽1c内の底壁近傍に配置した
溶存オゾンセンサ13は、OHラジカルによる被処理水
の促進酸化処理が十分に行われているか否かを監視する
機能を有している。
【0039】前記OHラジカルは、被処理水中のオゾン
ガスでは分解することができない有害物質も分解し、し
かも反応性がきわめて高いため、その寿命はオゾンに較
べて非常に短く、従ってOHラジカルが水中に残留する
ことはほとんどない。
【0040】尚、気中に残留したオゾンはUVランプ6
でも分解されるが、分解しきれなかったオゾンガス及び
反応に使われなかったオゾンガスは反応槽1の上部の排
オゾンガス流出口11に引き抜かれ、排オゾン処理装置
により0.1ppm以下まで分解されて大気中へ放出す
る。
【0041】ここで排オゾンガス流出口11と図外の排
オゾン処理装置は補助的に設けたものであり、この排オ
ゾンガス流出口11は設けなくとも良い。
【0042】このように第1実施形態例によれば、UV
ランプ6により溶存オゾンを分解しながら促進酸化処理
を行うことにより、オゾンの単独処理よりも短時間で高
度浄水処理が行われ、水中に残留したオゾンを除去する
ための貯留槽とか空気曝気装置等の付帯設備は不要であ
り、オゾンが残留しない処理水を放流することができ
る。
【0043】次に本発明の第2実施形態例を説明する。
第2実施形態例の基本的構成は図1とほぼ同一であるた
め図示は省略したが、この第2実施形態例では、図1の
オゾン接触槽1の第1槽1a,第2槽1b,第3槽1c
内の上方から前記石英ガラス等を用いたランプ保護管5
に代えて、二酸化チタン薄膜を塗布したランプ保護管を
挿入し、このランプ保護管を介在して光源として前記U
Vランプ6に代えて、主波長352nm、波長域300
〜420nmのブラックライトを挿入配置する。その他
の構成は第1実施例と一致している。
【0044】かかる第2実施形態例によれば、流入口9
から被処理水を流入し、オゾン発生装置2を起動してオ
ゾン接触槽1の第1槽1aと第2槽1bの底壁近傍に配
置された散気管4a,4bからオゾンガスを水中に放散
するのと同時にランプ電源8のスイッチをオンにしてブ
ラックライトを点灯する。但しオゾンガスの放散とブラ
ックライトの点灯とは必ずしも同時でなくとも良い。
【0045】すると第1槽1aと第2槽1b内に放散さ
れたオゾンが被処理水中に存在する反応物質により消費
され、溶存オゾンが生成する。そしてブラックライトか
ら発せられる波長300nm〜420nmの光がランプ
保護管5に塗布された二酸化チタン薄膜に吸収されて光
触媒反応を起こし、二酸化チタン表面の近傍部位まで拡
散してきた溶存オゾンと光触媒反応で生じた活性酸素種
が相互作用してオゾンが分解され、OHラジカルを生成
する。生成したOHラジカルが被処理水との促進酸化処
理により反応が進行し、OHラジカルはその酸化力によ
って水中に存在する有害物質を完全分解する。
【0046】第3槽1c内に挿入配置されたランプ保護
管とブラックライトは、第2槽1bまでに分解しきれな
かった溶存オゾンを分解するためと、殺菌作用を高める
ために補助的に設けてある。この第3槽1c内の底壁近
傍及び被処理水の流出口10近傍に配置した溶存オゾン
センサ13,13によって溶存オゾン濃度を測定し、こ
の溶存オゾン濃度が0.05ppm以下になるようにコ
ントローラ12からオゾン発生装置2の駆動制御を行う
ことは第1実施形態例と同様である。
【0047】このように第2実施形態例によれば、UV
ランプ6に代えてブラックライトを採用し、該ブラック
ライトと二酸化チタン薄膜による光触媒反応により溶存
オゾンを分解しながら促進酸化処理を行うことができ
る。
【0048】尚、オゾンの紫外線吸収スペクトルとブラ
ックライトのエネルギー分布及び二酸化チタンの光吸収
特性については、本願出願人の先願である特願平9−5
2652号を参照すればよい。
【0049】次に図2により本発明の第3実施形態例を
説明する。オゾン接触槽1自体の基本的構成は図1とほ
ぼ同一であるため、同一の符号を付して表示してある。
この第3実施形態例ではオゾン接触槽1に過酸化水素溶
液貯留槽15(以下H22貯留槽15と略称)を付設
し、オゾン接触槽1の各第1槽1a,第2槽1b,第3
槽1cの上方から過酸化水素を被処理水中に注入するた
めの過酸化水素溶液添加口16(以下H22添加口16
と略称)を設けてある。その他の構成は第1実施例と一
致している。
【0050】かかる第3実施形態例によれば、流入口9
から被処理水を流入し、オゾン発生装置2を起動してオ
ゾン接触槽1の第1槽1aと第2槽1bの底壁近傍に配
置された散気管4a,4bからオゾンガスを水中に放散
すると、オゾンが被処理水中に存在する反応物質により
消費され、溶存オゾンが生成する。同時にH22添加口
16からH22貯留槽15に充填されている過酸化水素
を各第1槽1a,第2槽1b,第3槽1cの上方から一
定流量で添加すると、この過酸化水素が溶存オゾンと反
応し、オゾンを分解してOHラジカルを生成する。生成
したOHラジカルによる被処理水との促進酸化処理によ
り反応が進行して水中に存在する有害物質を完全分解す
る。
【0051】第3槽1c内の底壁近傍及び被処理水の流
出口10近傍に配置した溶存オゾンセンサ13,13に
よって溶存オゾン濃度を測定し、この溶存オゾン濃度が
0.05ppm以下になるようにコントローラ12から
オゾン発生装置2の駆動制御を行うことは第1,第2実
施例と同様である。又、H22添加口16は各槽の上方
に付設せずに他の場所に付設しても良い。
【0052】この際の促進酸化反応を簡単に説明する
と、過酸化水素H22は水中で水素イオンとHO2 -(ヒ
ドロペルオキシイオン)に解離する。HO2 -はオゾンと
反応してO2-(スーパーオキサイド)とO3-(オゾ
ニドイオン)を生成する。このO3-は酸素を放出して
OHラジカルを生成する。
【0053】次に図3により本発明の第4実施形態例を
説明する。オゾン接触槽1自体の基本的構成は図1とほ
ぼ同一であるため、同一の符号を付して表示してある。
この第4実施形態例では、第1実施形態例と同様にオゾ
ン接触槽1の第1槽1a,第2槽1b,第3槽1c内に
は、上方から石英ガラス等を用いたランプ保護管5を介
在して、光源として主波長254nmの低圧水銀ランプ
を用いたUVランプ6を挿入配置し、更に各第1槽1
a,第2槽1b,第3槽1c内の気相空間部に、気相中
オゾン分解用UVランプ6aを配置してある。8はUV
ランプ6と気相中オゾン分解用UVランプ6aに共通の
電源である。
【0054】上記気相中オゾン分解用UVランプ6a
は、UVランプ6と同様な主波長254nmの低圧水銀
ランプを用いる。又、排オゾンガス流出口11内に排オ
ゾンセンサ17を配備してある。その他の構成は第1実
施形態例と一致している。
【0055】かかる第4実施形態例によれば、流入口9
から被処理水を流入した後、オゾン発生装置2を起動し
てオゾン接触槽1の第1槽1aと第2槽1bの底壁近傍
に配置された散気管4a,4bからオゾンガスを水中に
放散する。同時にランプ電源8のスイッチをオンにし
て、UVランプ6と気相中オゾン分解用UVランプ6a
を点灯する。但しオゾンガスの放散とUVランプ6及び
気相中オゾン分解用UVランプ6aの点灯とは必ずしも
同時でなくとも良い。
【0056】すると第1槽1aと第2槽1b内に放散さ
れたオゾンが被処理水中に溶解して溶存オゾンが生成
し、且つUVランプ6から発せられる波長254nmの
光が溶存オゾンと光分解反応を起こし、溶存オゾンが分
解して酸化力の強いOHラジカルを生成して前記した被
処理水の促進酸化処理が進行する。同時に気相中オゾン
分解用UVランプ6aにより、気相中のオゾンの分解が
進行する。
【0057】又、第3槽1c内の底壁近傍及び被処理水
の流出口10近傍に配置した溶存オゾンセンサ13,1
3と排オゾンガス流出口11内に配置した排オゾンセン
サ17によって被処理水の溶存オゾン濃度と排オゾン濃
度を測定し、この溶存オゾン濃度と排オゾン濃度がそれ
ぞれ0.05ppm以下,0.1ppm以下になるように
コントローラ12からオゾン発生装置2の駆動制御を行
う。
【0058】このように第4実施形態例は、水中だけで
なく、気相中のオゾンをも分解しているため、オゾンの
分解がほぼ完全に行われて後段に排オゾン処理装置等を
設置しなくてもよいという利点が得られる。尚、第3槽
1c内に挿入配置されたUVランプ6と気相中オゾン分
解用UVランプ6aは、第2槽1bまでに分解しきれな
かった溶存オゾンと気相オゾンを分解するために補助的
に設けてある。
【0059】次に図4により本発明の第5実施形態例を
説明する。オゾン接触槽1自体の基本的構成は前記各例
とほぼ同一であるが、この第5実施例では、オゾン接触
槽1の第1槽1a,第2槽1b,第3槽1c内の上方か
ら、二酸化チタン薄膜を塗布したランプ保護管5を挿入
し、このランプ保護管を介在して光源として主波長35
2nm、波長域300〜420nmのブラックライト2
0を挿入配置してあり、更に各第1槽1a,第2槽1
b,第3槽1c内の気相空間部に、気相中オゾン分解用
UVランプ6aを配置してある。8はブラックライト2
0用の電源、8aは気相中オゾン分解用UVランプ6a
用の電源である。その他の構成は第4実施形態例と一致
している。
【0060】かかる第5実施形態例によれば、被処理水
中にオゾン発生装置2で得られるオゾンガスを各散気管
4a,4bから放散するとともにランプ電源8,8aの
スイッチをオンにしてブラックライト20とUVランプ
6aを点灯すると、第1槽1aと第2槽1b内に放散さ
れたオゾンが被処理水中に存在する反応物質により消費
され、溶存オゾンが生成し、ブラックライトから発せら
れる波長300nm〜420nmの光がランプ保護管5
に塗布された二酸化チタン薄膜に吸収されて光触媒反応
を起こし、二酸化チタン表面の近傍部位まで拡散してき
た溶存オゾンと光触媒反応で生じた活性酸素種が相互作
用し、OHラジカルを生成する。生成したOHラジカル
が被処理水との促進酸化処理により反応が進行し、OH
ラジカルはその酸化力によって水中に存在する有害物質
を完全分解する。この動作と同時に気相中オゾン分解用
UVランプ6aの照射により、気相中のオゾンの分解が
進行する。
【0061】第3槽1c内に挿入配置されたランプ保護
管5とブラックライト20は、第2槽1bまでに分解し
きれなかった溶存オゾンを分解するためと、殺菌作用を
高めるために補助的に設けてある。この第3槽1c内の
底壁近傍及び被処理水の流出口10近傍に配置した溶存
オゾンセンサ13,13と排オゾンガス流出口11内に
配置した排オゾンセンサ17によって被処理水の溶存オ
ゾン濃度と排オゾン濃度を測定し、この溶存オゾン濃度
と排オゾン濃度がそれぞれ0.05ppm以下,0.1p
pm以下になるようにコントローラ12からオゾン発生
装置2の駆動制御を行うことは第2実施形態例と同様で
ある。このように第5実施形態例の場合は、第4実施形
態例と同様に水中だけでなく気相中のオゾンをも分解す
ることができる。
【0062】次に図5により本発明の第6実施形態例を
説明する。この第6実施形態例の場合もオゾン接触槽1
自体の基本的構成は前記各実施形態例とほぼ同一である
が、本第6実施形態例ではオゾン接触槽1に前記第3実
施形態例(図2参照)で説明したH22貯留槽15を付
設し、オゾン接触槽1の各第1槽1a,第2槽1b,第
3槽1cの上方から過酸化水素を被処理水中に注入する
ためのH22添加口16を設けてある。更に各第1槽1
a,第2槽1b,第3槽1c内の気相空間部に、気相中
オゾン分解用UVランプ6aを配置してある。8aは気
相中オゾン分解用UVランプ6a用の電源である。その
他の構成は第3実施形態例と一致している。
【0063】かかる第6実施形態例によれば、被処理水
中にオゾン発生装置2で得られるオゾンガスを各散気管
4a,4bから放散するとともにH22添加口16から
22貯留槽15に充填されている過酸化水素を各第1
槽1a,第2槽1b,第3槽1cの上方から一定流量で
添加し、ランプ電源8aのスイッチをオンにしてUVラ
ンプ6aを点灯する。
【0064】するとオゾンが被処理水中に存在する反応
物質により消費され、溶存オゾンが生成し、この溶存オ
ゾンと過酸化水素とが反応してオゾンの分解によるOH
ラジカルを生成する。生成したOHラジカルによる被処
理水との促進酸化処理により反応が進行して水中に存在
する有害物質を完全分解する。この動作と平行して気相
中オゾン分解用UVランプ6aの照射により、気相中の
オゾンの分解が進行する。
【0065】第3槽1c内の底壁近傍及び被処理水の流
出口10近傍に配置した溶存オゾンセンサ13,13と
排オゾンガス流出口11内に配置した排オゾンセンサ1
7によって被処理水の溶存オゾン濃度と排オゾン濃度を
測定し、この溶存オゾン濃度と排オゾン濃度がそれぞれ
0.05ppm以下,0.1ppm以下になるようにコン
トローラ12からオゾン発生装置2の駆動制御を行う。
【0066】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明にか
かるオゾン分解方法とその装置によれば、オゾン接触槽
内の被処理水にオゾンガスを放散するとともにUVラン
プを点灯することにより、オゾンガス中のオゾンが被処
理水中に溶解して溶存オゾンが生成し、且つUVランプ
から発せられる波長254nmの光が溶存オゾンと光分
解反応を起こして溶存オゾンが分解し、酸化力の強いO
Hラジカルを生成して被処理水との促進酸化処理が行わ
れ、これにより有機物の酸化除去等の水処理が行われる
とともに反応でオゾンを完全に消費することができて、
水中及び気相中に残留オゾンが生じないという効果が得
られる。他の実施例である紫外線ランプと気相中オゾン
分解用紫外線ランプの組み合わせ、二酸化チタン薄膜を
塗布したランプ保護管と気相中オゾン分解用紫外線ラン
プの組み合わせ及び過酸化水素溶液添加口と気相中オゾ
ン分解用紫外線ランプの組み合わせによっても同様なオ
ゾン完全消費の効果が得られる。
【0067】従来のように水中及び気相中の残留オゾン
を分解させるための貯留槽とか空気曝気槽等の容積の大
きな付帯設備とそのメンテナンスは不要であり、且つ活
性炭とか還元剤等の薬品による気相中残留オゾンの分解
方法のように多量の活性炭及び薬品は使用せず、触媒分
解とか熱分解のように高価な触媒とか加熱状態を制御す
る装置等の設備も不要となるためにイニシャルコストと
ランニングコストを低廉化することができる。
【0068】特に大きな設置用地とか気相中のオゾンを
脱気させるための大型のブロワ等の動力源も不要である
ため、水処理施設にオゾン処理を導入する場合の設備費
用とか維持管理面での負担を低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明におけるオゾン分解方法の第1実施形態
例を示す概要図。
【図2】本発明の第3実施形態例を示す概要図。
【図3】本発明の第4実施形態例を示す概要図。
【図4】本発明の第5実施形態例を示す概要図。
【図5】本発明の第6実施形態例を示す概要図。
【符号の説明】
1…オゾン接触槽 2…オゾン発生装置 3…隔壁 4a,4b…散気管 5…ランプ保護管 6,6a…UVランプ 8…ランプ電源 9…(被処理水の)流入口 10…(被処理水の)流出口 11…排オゾンガス流出口 12…コントローラ 13…溶存オゾンセンサ 15…過酸化水素溶液貯留槽 16…過酸化水素添加口 17…排オゾンセンサ

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 オゾン接触槽内にランプ保護管を介在し
    て紫外線ランプを挿入配置し、該オゾン接触槽内にオゾ
    ン用の散気管を配置して、オゾン接触槽内に投入された
    被処理水にオゾンガスを放散するとともに紫外線ランプ
    から発する光を照射することにより、光分解反応でオゾ
    ン放散により生じた溶存オゾンを分解してOHラジカル
    を生成し、このOHラジカルにより被処理水中の有機物
    の酸化除去を行うとともにオゾンを完全分解して残留オ
    ゾンが生じないようにしたことを特徴とするオゾン分解
    方法。
  2. 【請求項2】 オゾン接触槽内に二酸化チタン薄膜を塗
    布したランプ保護管を介在して波長域300〜420n
    mの光源を挿入配置し、該オゾン接触槽内にオゾン用の
    散気管を配置して、オゾン接触槽内に投入された被処理
    水にオゾンガスを放散するとともに光源から発する光を
    照射することにより、二酸化チタンによる光触媒反応に
    より活性酸素種を生成し、この活性酸素種と溶存オゾン
    との反応によりOHラジカルを生成して、このOHラジ
    カルにより被処理水中の有機物の酸化除去を行うととも
    にオゾンを完全分解して残留オゾンが生じないようにし
    たことを特徴とするオゾン分解方法。
  3. 【請求項3】 前記光源がブラックライトである請求項
    2に記載のオゾン分解方法。
  4. 【請求項4】 オゾン接触槽に過酸化水素溶液貯留槽を
    付設して該オゾン接触槽に過酸化水素を被処理水中に注
    入するための過酸化水素溶液添加口を設け、該オゾン接
    触槽内にオゾン用の散気管を配置して、オゾン接触槽内
    に投入された被処理水にオゾンガスを放散するとともに
    過酸化水素溶液添加口から過酸化水素を添加することに
    より、溶存オゾンを分解してOHラジカルを生成し、こ
    のOHラジカルによる被処理水との促進酸化処理により
    被処理水中の有機物の酸化除去を行うとともにオゾンを
    完全分解して残留オゾンが生じないようにしたことを特
    徴とするオゾン分解方法。
  5. 【請求項5】 オゾン接触槽内にランプ保護管を介在し
    て紫外線ランプを挿入配置するとともに、該オゾン接触
    槽内の気相空間部に気相中オゾン分解用紫外線ランプを
    配置し、該オゾン接触槽内にオゾン用の散気管を配置し
    て、オゾン接触槽内に投入された被処理水にオゾンガス
    を放散するとともに紫外線ランプから発する光を照射す
    ることにより、光分解反応でオゾン放散により生じた溶
    存オゾンを分解してOHラジカルを生成し、このOHラ
    ジカルにより被処理水中の有機物の酸化除去を行い、且
    つ気相中のオゾンを気相中オゾン分解用紫外線ランプを
    用いて分解して残留オゾンが生じないようにしたことを
    特徴とするオゾン分解方法。
  6. 【請求項6】 オゾン接触槽内に二酸化チタン薄膜を塗
    布したランプ保護管を介在して波長域300〜420n
    mの光源を挿入配置するとともに、該オゾン接触槽内の
    気相空間部に気相中オゾン分解用紫外線ランプを配置
    し、該オゾン接触槽内にオゾン用の散気管を配置して、
    オゾン接触槽内に投入された被処理水にオゾンガスを放
    散するとともに光源から発する光を照射することによ
    り、二酸化チタンによる光触媒反応により活性酸素種を
    生成し、この活性酸素種とオゾンの反応によりOHラジ
    カルを生成して、このOHラジカルにより被処理水中の
    有機物の酸化除去を行い、且つ気相中のオゾンを気相中
    オゾン分解用紫外線ランプを用いて分解して残留オゾン
    が生じないようにしたことを特徴とするオゾン分解方
    法。
  7. 【請求項7】 オゾン接触槽に過酸化水素溶液貯留槽を
    付設して該オゾン接触槽に過酸化水素を被処理水中に注
    入するための過酸化水素溶液添加口を設けるとともに、
    該オゾン接触槽内の気相空間部に気相中オゾン分解用紫
    外線ランプを配置し、該オゾン接触槽内にオゾン用の散
    気管を配置して、オゾン接触槽内に投入された被処理水
    にオゾンガスを放散するとともに過酸化水素溶液添加口
    から過酸化水素を添加することにより、溶存オゾンを分
    解してOHラジカルを生成し、このOHラジカルによる
    被処理水との促進酸化処理により被処理水中の有機物の
    酸化除去を行い、且つ気相中のオゾンを気相中オゾン分
    解用紫外線ランプを用いて分解して残留オゾンが生じな
    いようにしたことを特徴とするオゾン分解方法。
  8. 【請求項8】 オゾン用の散気管を配置したオゾン接触
    槽にランプ保護管を介在して紫外線ランプを挿入配置
    し、槽内に投入された被処理水にオゾンガスを放散する
    とともに紫外線ランプから発する光を照射することによ
    り、光分解反応でオゾン放散により生じた溶存オゾンを
    分解してOHラジカルを生成し、このOHラジカルによ
    り被処理水中の有機物の酸化除去を行うとともにオゾン
    を完全分解して残留オゾンが生じないようにしたことを
    特徴とするオゾン分解装置。
  9. 【請求項9】 前記紫外線ランプに代えて、二酸化チタ
    ン薄膜を塗布したランプ保護管を介在して波長域300
    〜420nmの光源を挿入配置したことを特徴とする請
    求項8記載のオゾン分解装置。
  10. 【請求項10】 前記光源としてブラックライトを用い
    た請求項9記載のオゾン分解装置。
  11. 【請求項11】 オゾン用の散気管を配置したオゾン接
    触槽に過酸化水素溶液貯留槽を付設し、該オゾン接触槽
    に過酸化水素を被処理水中に注入するための過酸化水素
    溶液添加口を設け、オゾン接触槽内に投入された被処理
    水にオゾンガスを放散するとともに過酸化水素溶液添加
    口から過酸化水素を添加するようにしたことを特徴とす
    るオゾン分解装置。
  12. 【請求項12】 オゾン用の散気管を配置したオゾン接
    触槽内にランプ保護管を介在して紫外線ランプを挿入配
    置し、該オゾン接触槽内の気相空間部に気相中オゾン分
    解用紫外線ランプを配置し、オゾン接触槽内に投入され
    た被処理水にオゾンガスを放散するとともに気相中に紫
    外線ランプから発する光を照射するようにしたことを特
    徴とするオゾン分解装置。
  13. 【請求項13】 オゾン用の散気管を配置したオゾン接
    触槽内に二酸化チタン薄膜を塗布したランプ保護管を介
    在して波長域300〜420nmの光源を挿入配置し、
    該オゾン接触槽内の気相空間部に気相中オゾン分解用紫
    外線ランプを配置し、オゾン接触槽内に投入された被処
    理水にオゾンガスを放散するとともに気相中に紫外線ラ
    ンプから発する光を照射するようにしたことを特徴とす
    るオゾン分解装置。
  14. 【請求項14】 オゾン用の散気管を配置したオゾン接
    触槽に過酸化水素溶液貯留槽を付設し、該オゾン接触槽
    に過酸化水素を被処理水中に注入するための過酸化水素
    溶液添加口を設け、該オゾン接触槽内の気相空間部に気
    相中オゾン分解用紫外線ランプを配置し、オゾン接触槽
    内に投入された被処理水にオゾンガスを放散するととも
    に過酸化水素溶液添加口から過酸化水素を添加し、気相
    中に紫外線ランプから発する光を照射するようにしたこ
    とを特徴とするオゾン分解装置。
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