JP2000070971A - オゾン反応システム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 有機物の除去効率が高くコンパクトな構造の
オゾン反応システムを提供する。 【解決手段】 オゾン反応システムは、流入部３ａと流
出部３ｂを有するオゾン反応槽３を有している。オゾン
反応槽３の流入部３ａ側にオゾン散気管４が設けけら
れ、オゾン反応槽３の流出部３ｂ側に紫外線ランプ７が
設けられている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、被処理水に対して
オゾン処理と紫外線処理を施すオゾン反応システムに関
する。

【０００２】

【従来の技術】近年、環境問題へ対する関心の高まりか
ら、上下水道や産業排水の処理にオゾン処理や紫外線
（ＵＶ）処理、活性炭処理等の高度処理が施されてい
る。

【０００３】これらの高度処理は、その処理目的に応じ
て単独で用いられまたは併用されている。例えば、浄水
処理（上水道）では臭気やトリハロメタン前駆物質（ト
リハロメタン生成能）除去のためにオゾンと活性炭処理
が併用され、下水二次処理水では臭気及び色度除去のた
めオゾン処理や塩素代替殺菌としてＵＶ処理が施されて
いる。

【０００４】また有機物負荷が高い産業排水等では、Ｃ
ＯＤMn（化学的酸素要求量）やトリハロメタン前駆物質
等の除去率向上のため、オゾン処理とＵＶ処理が併用さ
れている。

【０００５】図１１は、産業排水や下水二次処理水など
におけるオゾン処理とＵＶ処理を併用した代表的な処理
プロセスフローを示す図である。

【０００６】図１１において、まず最初に被処理水とな
る産業排水や下水二次処理水は砂ろ過槽１にて砂ろ過処
理された後、ポンプ２を介してオゾン反応槽３に導入さ
れる。次に被処理水はオゾン反応槽３の内部に設置され
た散気管４からのオゾンガスによりオゾン処理が行なわ
れ、次いでポンプ５を介してＵＶ反応槽６に導入され
る。被処理水は、次にＵＶランプ７を点灯することによ
りＵＶ処理が実施され、高度処理水が得られる。また、
オゾン反応槽３から排出される排オゾンガスは、排オゾ
ン分解筒８にて無害化処理され大気中に放出される。

【０００７】砂ろ過槽１は、水中に懸濁する浮遊物質
（ＳＳ分）を除去するためのもので、被処理水の特性に
応じて凝集剤の添加も行われることもある。

【０００８】オゾン反応槽３では、オゾンの強力な酸化
力を用いて、ＣＯＤMn、トリハロメタン前駆物質、臭
気、色度等の除去や殺菌を行う。

【０００９】ＵＶ反応槽６では、ＵＶ照射によりオゾン
処理水中に残存するオゾンが分解することによって生じ
る反応性が高い

【００１０】

【化１】 の生成が促進され、さらなる分解効率の向上をめざし、
殺菌を行うものである。排オゾン分解筒８における排オ
ゾン分解剤には、活性炭や加温したマンガン系の触媒が
用いられている。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】ところで従来、オゾン
処理とＵＶ処理は、それぞれ別々の反応槽で行われてい
るため、オゾン反応槽３とＵＶ反応槽６はそれぞれ独立
して設置する必要がある。各槽の滞留時間はそれぞれ５
〜２０分程度必要である。さらに、オゾン反応の熟成の
ため、オゾン反応槽３にオゾン滞留槽（図示せず）を付
加した構造とする場合もあるが、この場合の滞留時間も
５〜１０分程度必要である。

【００１２】このため広い設置面積が必要であり、建設
コスト等のイニシャルコストの上昇を招いていた。

【００１３】また、オゾン反応槽３から排出される排オ
ゾンガスは、有効利用されずに排オゾン分解筒８で分解
されるだけであり、排オゾン分解剤等のランニングコス
トも無視できない。

【００１４】また、ＵＶ反応槽６では、オゾン処理水中
の極僅かに残存する溶存オゾンからヒドロキシラジカル
が生成されるが、ラジカル反応としての効率は不十分で
あった。このため、ＵＶ処理工程ではある程度の溶存オ
ゾンが必要である。

【００１５】溶存オゾンとＵＶによるヒドロキシラジカ
ルの生成反応は、以下の通りである。

【００１６】

【化２】 （２）式の反応で生成したヒドロキシラジカルが有機物
と迅速に反応する。

【００１７】ただし、被処理水とのオゾンとＵＶの同時
接触（同時処理）は、ＵＶによるオゾン分解のため、
（１）式に示すように有機物に対する直接反応（炭素不
飽和結合に対す付加反応など）のオゾン量が減少し、オ
ゾン単独処理よりも反応効率が低下するという現象が発
生する。このため、オゾン反応の過程にＵＶ光が照射さ
れることは好ましくない。

【００１８】下記に、オゾンの直接反応の例を示す。

【００１９】

【化３】 （４）式で生成されたアルデヒドは、オゾンでさらに酸
化されて最終的には有機酸（カルボン酸）に変化する。

【００２０】

【化４】 このように、ＵＶにはオゾンガスを分解する作用と溶存
オゾンを反応性に富むヒドロキシラジカルに生成させる
作用があるため、オゾン処理とＵＶ処理を併用する場合
はその接触の仕方及び構造に十分注意する必要がある。

【００２１】本発明はこのような点を考慮してなされた
ものであり、オゾン処理とＵＶ処理を併用したコンパク
トで排オゾンガスが少なく、ＣＯＤMnやトリハロメタン
前駆物質等の有機物の除去効率が高いオゾン反応システ
ムを提供することを目的とする。

【００２２】

【課題を解決するための手段】本発明は、被処理水が流
入する流入部と処理水が流出する流出部とを有する気液
接触槽と、気液接触槽内の流入部側に配置されたオゾン
散気装置と、気液接触槽内の流出部側に配置された紫外
線ランプとを備えたことを特徴とするオゾン反応システ
ム、被処理水が流入する流入部を有する内筒と、内筒が
挿着され処理水が流出する流出部を有する外筒と、内筒
の流入部に接続され、被処理水とオゾンとが混合するイ
ンジェクタ装置と、外筒内に設けられた紫外線ランプ
と、を備えたことを特徴とするオゾン反応システム、お
よび被処理水が流入する流入部と処理水が流出する流出
部とを有する気液接触槽と、気液接触槽の流入部に接続
され、被処理水とオゾンとが混合するインジェクタ装置
と、気液接触槽内に配置された紫外線ランプと、を備え
たことを特徴とするオゾン反応システムである。

【００２３】

【発明の実施の形態】第１の発明の実施の形態 以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明
する。図１は本発明によるオゾン反応システムの第１の
実施の形態を示す図である。

【００２４】図１に示すように、オゾン反応システムは
被処理水が流入する流入部３ａと処理水が流出する流出
部３ｂとを有する気液接触槽（オゾン反応槽）３と、オ
ゾン反応槽３内の流入部３ａ側に設けられたオゾン散気
管４と、オゾン反応槽３内の流出部３ｂ側に設けられた
紫外線ランプ（ＵＶランプ）７とを備えている。

【００２５】このうち紫外線ランプ７にはＡＣ電源が接
続され、オゾン散気管４にはオゾンガスが供給されるよ
うになっている。

【００２６】また砂ろ過槽１がポンプ２を介してオゾン
反応槽３の流入部３ａに接続されている。この砂ろ過槽
１は被処理水のＳＳ分のろ過を行なうものである。さら
にオゾン反応槽３には、オゾン反応槽３からの排オゾン
ガスを分解して無害化処理する排オゾン分解筒８が接続
されている。

【００２７】次に、このような構成からなる本実施の形
態の作用について示す。被処理水は砂ろ過槽１内に流入
してＳＳ分が除去された後、オゾン反応槽３に流入す
る。被処理水に対して、オゾン散気管４からオゾンガス
が散気され、被処理水とオゾンガスとの接触によりオゾ
ン反応が行われる。図１において、散気管４とＵＶラン
プ７は、オゾン反応に影響を与えない最小限の距離をと
っているため、ＵＶランプ７によるオゾン反応過程での
オゾン分解はほとんど無視できる。

【００２８】次にオゾン接触された被処理水は溶存オゾ
ンを含み、オゾンガスを含んだ気泡（排オゾンガス、未
反応オゾンガス）の一部と共にＵＶランプ７から照射さ
れるＵＶ光に接触する。このとき、被処理水中において
ＵＶによる未吸収オゾンガス分解と、ＵＶと溶存オゾン
との反応によるヒドロキシラジカルの生成が促進され、
有機物との反応がより促進されて浄化効率が向上する。

【００２９】以上説明したように、本実施の形態によれ
ば、ＵＶ反応に不可欠なラジカル生成が促進され、有機
物との反応が促進される。また、本来排オゾンガスの一
部となっていた未吸収オゾンガスをＵＶにより分解する
ことができる。

【００３０】この結果、従来と同等の処理性能を得るた
めのオゾン注入率も低減でき、オゾン分解筒８における
排オゾン分解負荷も低減し、オゾン＋ＵＶ併用処理の処
理コストを低減することができる。

【００３１】第２の実施の形態 次に図２により本発明の第２の実施の形態について説明
する。図２において、図１に示す第１の実施の形態と同
一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。

【００３２】図２において、被処理水は砂ろ過槽１にて
ＳＳ分のろ過が行われ、ポンプ２を介してオゾン反応槽
３に導入される。オゾン反応槽３の内部には、被処理水
の接触順序として、オゾン散気管４とＵＶランプ７が順
次設置されている。また、オゾン反応槽３より排出され
る排オゾンガスの大部分は、送気装置９を介してＵＶラ
ンプ７の直下に設置された追加オゾン散気管１０に送ら
れ、再びオゾン反応槽３内に供給される。送気装置９と
してはファンやブロワが用いられている。オゾン反応槽
３より排出される排オゾンガスは排オゾン分解筒８に
て、無害化処理されて大気に開放される。

【００３３】図２において、送気装置９を用いて排オゾ
ンガスの大部分をリサイクルし、追加オゾン散気管１０
より排オゾンガスを散気し、再び気液接触を行う。これ
により、排オゾンガスが溶解して溶存オゾン濃度が増加
する。さらに溶存オゾン濃度が増加すると、ＵＶランプ
７から照射されるＵＶ光により、ラジカル生成の増大
と、未吸収排オゾンガスの分解が促進され、浄化効率の
向上と排オゾン吸収率の向上が期待できる。

【００３４】本実施の形態によれば、排オゾンガスを再
びオゾン反応槽３に送気する送気装置９を設けることに
より、従来無駄になっていた５〜１０％の排オゾンを再
散気させることができる。このため排オゾンガスの再溶
解とＵＶによる排オゾンガス分解と、反応性に富むヒド
ロキシラジカルの生成が促進され、これにより有機物と
の反応がより促進されて浄化効率が大幅に向上する。ま
た、最終的にオゾン反応槽３より排出されるオゾンガス
がほとんどなくなるため、排オゾン分解筒９の負荷も大
幅に低減し、排オゾン分解筒８のランニングコストも大
幅に低減する。

【００３５】第３の実施の形態 次に図３により本発明の第３の実施の形態について説明
する。図３において、図１に示す第１の実施の形態と同
一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。図
３に示すように、被処理水は砂ろ過槽１にてＳＳ分の濾
過が行われ、ポンプ２を介してオゾン反応槽３に導入さ
れる。オゾン反応槽３の内部にはオゾン散気管４から散
気されるオゾンによってオゾン接触反応を行なうオゾン
接触領域１２と、ＵＶランプ７から照射されるＵＶ光に
よってラジカル生成反応を行なうＵＶ接触領域１３とを
区分するための隔壁１１ａ及び隔壁１１ｂが設置されて
いる。また、オゾン反応槽３のオゾン接触領域１２及び
ＵＶ接触領域１３より排出される排オゾンガスは、排オ
ゾン分解筒８にて無害化処理されて大気に開放される。

【００３６】図３において、オゾン接触領域１２とＵＶ
接触領域１３とが、流通構造を有する隔壁１１ａ及び隔
壁１１ｂによって区切られているので、それぞれ短絡流
を防止し、確実に接触時間を保持されることができる。
また、オゾン散気管４から散気されるオゾンガスと被処
理水との反応途中において、ＵＶランプ７から照射され
るＵＶ光によるオゾン分解を防止し、それぞれの反応を
確実に進行させることができる。

【００３７】第４の実施の形態 次に図４により、本発明の第４の実施の形態について説
明する。第４の実施の形態は、図３に示す第３の実施の
形態において、隔壁１１ａ及び隔壁１１ｂに換えて、オ
ゾン接触領域１２とＵＶ反応領域１３の容積比を任意に
可変できる可動隔壁１４ａ及び可動隔壁１４ｂを設置し
たものである。これによりオゾン接触領域１２とＵＶ接
触領域１３の容積比を、９：１から１：９まで任意に可
変できる。

【００３８】図４は、オゾン接触領域１２とＵＶ接触領
域１３の容積比を、７：３に設定した例である。

【００３９】図４において、オゾン接触領域１２とＵＶ
ランプ接触領域１３の容積比を任意に可変することによ
り、被処理水の性状や処理目的にあわせて、それぞれ最
適な接触時間に設定できる。

【００４０】特に難分解性有機物を処理対象とした場
合、反応時間を多くとる必要があり、一方ラジカル反応
は比較的短時間に進行するため、接触時間の可変は処理
効率向上のために有効である。

【００４１】第５の実施の形態 次に図５により、本発明の第５の実施の形態について説
明する。図５において図１に示す第１の実施の形態と同
一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。図
５においてオゾン反応槽３内に隔壁１１ａ及び隔壁１１
ｂが設置され、オゾン接触領域１２から排出される排オ
ゾンガスの全量を、再びＵＶ接触領域１３に送気するた
めの送気装置９と、追加オゾン散気管１０が設置されて
いる。

【００４２】図５において、送気装置９を用いて排オゾ
ンガスの全量を循環し、追加オゾン散気管１０より排オ
ゾンガスを散気し、再び気液接触を行う。このため、排
オゾンガスの溶解により溶存オゾン濃度の増加がする。
さらに溶存オゾン濃度が増加することにより、ＵＶラン
プ７から照射されるＵＶ光により、ラジカル生成の増大
と、未吸収排オゾンガスの分解が促進され、浄化効率の
向上と排オゾン吸収率の向上が期待できる。

【００４３】さらに、オゾン接触領域１２とＵＶ接触領
域１３とを、流通構造を有する隔壁１１ａ及び隔壁１１
ｂで区切ることにより、それぞれの短絡流を防止し、確
実に接触時間を保持させることができる。また、オゾン
ガスと被処理水との反応途中でＵＶランプ７から照射さ
れるＵＶ光によりオゾン分解することはなく、それぞれ
の反応を独立して確実に進行させることができる。

【００４４】第６の実施の形態 次に図６により本発明の第６の実施の形態について説明
する。図６において図１に示す第１の実施の形態と同一
部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。

【００４５】図６において、被処理水は砂ろ過槽１にて
ＳＳ分のろ過が行われ、ポンプ２を経てインジェクター
装置１４にて注入オゾンガスを吸い込む。次に被処理水
は二重円筒型のオゾン反応槽３の内側に設置された内筒
１６内に流入部３ａから流入して下向流で気液接触す
る。次に被処理水は、オゾン反応槽３の下部でＵＶ接触
槽に相当する外筒１７内に入り、オゾンガスを含んだ気
泡と共に放出される。

【００４６】そして、気液混合水は、上向流で外筒１７
内を滞留し、外筒１７内に設けられたＵＶランプ７から
照射されるＵＶ光と接触し、処理水となってオゾン反応
槽３の系外に流出部３ｂから流出する。

【００４７】また、オゾン反応槽３より排出される排オ
ゾンガスは、排オゾン分解筒８にて無害化処理されて大
気に開放される。

【００４８】このように、二重円筒型のオゾン反応槽３
は内筒１６と、外筒１７とからなっており、またインジ
ェクター装置１４は内筒１６の流入部３ａに設けられて
いる。

【００４９】図６において、インジェクター装置１４に
より流入された注入オゾンガスは微細化され、砂ろ過さ
れた被処理水はオゾンガスとの接触によりオゾン反応が
行われる。次に被処理水は内筒１６の内部を下向流で流
れ、オゾンガスと接触しながらオゾン反応を進行させ
る。注入オゾンガスは、微細化されているため、オゾン
接触効率は散気管方式と略同一となる。

【００５０】次にオゾン接触された被処理水は、溶存オ
ゾンを含むことになり、外筒１７内にてオゾンガスを含
んだ気泡（排オゾンガス、未反応オゾンガス）の一部と
共にＵＶランプ７から照射されるＵＶ光に接触する。こ
のときＵＶによる未吸収オゾンガス分解と、ＵＶと溶存
オゾンとの反応による酸化ラジカル及びヒドロキシラジ
カルの生成が促進される。このため、有機物との反応が
より促進されて浄化効率が向上する。

【００５１】本実施の形態によれば、オゾン反応槽３の
構造を二重円筒管式とし、内筒１６をオゾン接触部、外
筒部１７を紫外線ランプ接触部とすることにより、排オ
ゾンが少なく設置面積の小さい極めてコンパクトなオゾ
ン反応槽が実現できる。また、排オゾン処理のランニン
グコストが大幅に低減すると共に、オゾン注入率も低減
し、オゾン＋ＵＶ併用処理の処理コストが低減できる。

【００５２】第７の実施の形態 次に図７により本発明の第７の実施の形態について説明
する。図７において図６に示す第６の実施の形態と同一
部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。

【００５３】図７において、内筒１６は、遮光材質で構
成されており、遮光材質としてステンレス材、コンクリ
ート、透明塩化ビニール管や透明アクリル管にＵＶカッ
トフィルムを貼り付けたものが利用できる。その他の構
成は図６に示す第６の実施の形態と略同一である。図７
において、内筒１６が遮光材質となっているので、ＵＶ
ランプ７から照射されるＵＶ光による外筒１７内のオゾ
ン接触部のオゾン分解を防止し、遮光内筒１８の内部に
おける有機物とオゾン反応を確実に行うことができる。
また、外筒１７内へ放出される被処理水中の溶存オゾン
濃度が増加するため、ヒドロキシラジカルの生成が増大
し、反応がより活性化される。

【００５４】本実施の形態によれば、オゾン反応をより
確実に進行させ、ラジカル反応を向上させることができ
るため、極めて浄化効率の高いオゾン反応槽が実現でき
る。

【００５５】第８の実施の形態 次に図８により本発明の第８の実施の形態について説明
する。図８において図１に示す第１の実施の形態と同一
部分には同一符号を付して詳細な説明を省略する。

【００５６】図８において、被処理水は砂ろ過槽１にて
ＳＳ分のろ過が行われ、ポンプ２を経てインジェクター
装置１４にて注入オゾンガスを吸い込み、オゾン反応槽
３の下部において気液放出部（流入部）２０からオゾン
ガスを含んだ気泡と共に放出される。

【００５７】被処理水はオゾン反応槽３の内部を上向流
でオゾンガスと気液接触しながら滞留し、オゾン反応槽
３内に設置されたＵＶランプ７から照射されるＵＶ光と
接触し、処理水となってオゾン反応槽３の系外に流出部
３ｂから流出する。

【００５８】また、オゾン反応槽３より排出される排オ
ゾンガスは、排オゾン分解筒８にて無害化処理されて大
気に開放される。

【００５９】図８において、インジェクター装置１４に
より気液混合された被処理水は、オゾン反応槽３内を上
向流で滞留しオゾンで反応が進行する。この後、ＵＶラ
ンプ５により被処理水に対してＵＶによる排オゾンガス
分解と、酸素ラジカル及びヒドロキシラジカルの生成が
促進され、有機物との反応がより促進されて浄化効率が
大幅に向上する。また、最終的にオゾン反応槽３より排
出されるオゾンガスがほとんどなくなるため、排オゾン
分解筒の負荷も大幅に低減し、排オゾン分解剤のランニ
ングコストも大幅に低減する。

【００６０】本実施の形態によれば、比較的簡単な構造
で浄化効率が向上し、排オゾン処理のランニングコスト
が大幅に低減したオゾン反応槽が得られる。

【００６１】第９の実施の形態 次に図９により、本発明の第９の実施の形態について説
明する。図９において図８に示す第８の実施の形態と同
一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。

【００６２】図９において、被処理水は砂ろ過槽１にて
ＳＳ分のろ過が行われ、ポンプ２を経て、インジェクタ
ー装置１４にて注入オゾンガスを吸い込み、オゾン反応
槽１９の下部において気液放出部（流入部）２０からオ
ゾンガスを含んだ気泡と共に放出される。

【００６３】被処理水は、オゾン反応槽３の内部を上向
流で気液接触しながら滞留する。オゾン反応槽３内には
ＵＶランプ７が設置されている。ＵＶランプ７の直下
（オゾン反応槽３の下方部）には、遮光板２１が設置さ
れており、ＵＶ光と気液放出部２０から放出された直後
の気液混合水との接触を遮断している。つまり、遮光板
２１により、オゾン反応槽３内がオゾン反応部とＵＶ接
触部が区分された構造になっている。

【００６４】気液混合水は、遮光板２１を通過後、ＵＶ
ランプ７から照射されるＵＶ光と接触し、処理水となっ
てオゾン反応槽３の系外に流出部３ｂから流出する。

【００６５】また、オゾン反応槽３より排出される排オ
ゾンガスは、排オゾン分解筒８にて無害化処理されて大
気に開放される。

【００６６】図９において、オゾン反応槽３内に遮光板
２１を設置することにより、遮光板２１下方においてオ
ゾン反応過程中に紫外線ランプ７によるオゾン分解を防
止し、オゾン反応を確実に進行させることができる。

【００６７】一方、遮光板２１上方では、ＵＶ光により
溶存オゾンからの酸素ラジカル及びヒドロキシラジカル
の生成と、排オゾンガスの分解が生成され、浄化効率の
高く排オゾンガスの排出が高いオゾン反応槽が実現でき
る。

【００６８】本発明の実施の形態によれば、遮光板２１
にてオゾン反応槽３内をオゾン反応部とＵＶ接触部に明
確に区分することができる。このためそれぞれの反応を
独立して確実に行うことができ、浄化効率が高く排オゾ
ン処理のランニングコストが大幅に低減する。

【００６９】第１０の実施の形態 次に第１０により本発明の第１０の実施の形態について
説明する。図１０において、図３に示す第３の実施の形
態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略す
る。図１０に示す第１０の実施の形態は、図３において
ＵＶランプ７により照射されるＵＶ光が到達する可能性
がある液相部の隔壁や遮光部（板）に、光酸化触媒をコ
ーティングして光触媒コーティング部２２を形成したも
のであり、他は図３に示す第３の実施の形態と略同一で
ある。光触媒としては、二酸化チタン（ＴｉＯ₂ ）を使
用している。

【００７０】図１０において、ＵＶランプ７のＵＶ光が
到達するオゾン反応槽３の底部や隔壁１１ｂに光触媒コ
ーティング部２２が設けられている。

【００７１】図１０において光触媒コーティング部２２
を設けることにより、溶存オゾンからのラジカル生成速
度の向上と生成量が増大し、ＵＶ反応をより活性化させ
ることができる。

【００７２】本実施の形態によれば、ラジカル生成が促
進され、ＵＶ反応がより活性化されて浄化効率の高いオ
ゾン反応槽が実現できる。

【００７３】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、コンパク
トで排オゾンガスが少なく、有機物の除去効率が高いオ
ゾン反応システムを提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明によるオゾン反応システムの第１の実施
形態を示す構成図。

【図２】本発明によるオゾン反応システムの第２の実施
形態を示す構成図。

【図３】本発明によるオゾン反応システムの第３の実施
形態を示す構成図。

【図４】本発明によるオゾン反応システムの第４の実施
形態を示す構成図。

【図５】本発明によるオゾン反応システムの第５の実施
形態を示す構成図。

【図６】本発明によるオゾン反応システムの第６の実施
形態を示す構成図。

【図７】本発明によるオゾン反応システムの第７の実施
形態を示す構成図。

【図８】本発明によるオゾン反応システムの第８の実施
形態を示す構成図。

【図９】本発明によるオゾン反応システムの第９の実施
形態を示す構成図。

【図１０】本発明によるオゾン反応システムの第１０の
実施形態を示す構成図。

【図１１】従来のオゾン処理とＵＶ処理を併用した代表
的なプロセスフローを示す図。

【符号の説明】

１ 砂ろ過槽 ２ ポンプ ３ オゾン反応槽 ４ オゾン散気管 ７ ＵＶランプ ８ 排オゾン分解筒 ９ 送気装置 １０ 追加オゾン散気管 １１ａ，１１ｂ 隔壁 １２ オゾン接触領域 １３ ＵＶ接触領域 １４ａ，１４ｂ 可動隔壁 １６ 内筒 １７ 外筒 ２０ 気液放出部 ２１ 遮光板 ２２ 光触媒コーティング部

フロントページの続き (72)発明者 田 村 博 東京都府中市東芝町１番地 株式会社東芝 府中工場内 Ｆターム(参考） 4D037 AA11 AB01 AB14 BA18 BB03 BB04 CA12 4D050 AA13 AA15 AB07 AB19 BB02 BC09 BD02 BD03 BD06 CA15

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】被処理水が流入する流入部と処理水が流出
   する流出部とを有する気液接触槽と、 気液接触槽内の流入部側に配置されたオゾン散気装置
   と、 気液接触槽内の流出部側に配置された紫外線ランプと、
   を備えたことを特徴とするオゾン反応システム。
2. 【請求項２】紫外線ランプの下方に追加オゾン散気装置
   を設け、 気液接触槽の上部に排オゾンを追加オゾン散気装置へ送
   る送気装置を設けたことを特徴とする請求項１記載のオ
   ゾン反応システム。
3. 【請求項３】気液接触槽内に、気液接触槽内をオゾン散
   気装置を含む領域と、紫外線ランプを含む領域に区画す
   る隔壁を設けたことを特徴とする請求項１記載のオゾン
   反応システム。
4. 【請求項４】被処理水が流入する流入部を有する内筒
   と、 内筒が挿着され処理水が流出する流出部を有する外筒
   と、 内筒の流入部に接続され、被処理水とオゾンとが混合す
   るインジェクタ装置と、 外筒内に設けられた紫外線ランプと、を備えたことを特
   徴とするオゾン反応システム。
5. 【請求項５】被処理水が流入する流入部と処理水が流出
   する流出部とを有する気液接触槽と、 気液接触槽の流入部に接続され、被処理水とオゾンとが
   混合するインジェクタ装置と、 気液接触槽内に配置された紫外線ランプと、を備えたこ
   とを特徴とするオゾン反応システム。
6. 【請求項６】気液接触槽内の流入部と、紫外線ランプと
   の間に遮へい板を設けたことを特徴とする請求項５記載
   のオゾン反応システム。