JPS60202792A - 酸化、還元処理装置 - Google Patents
酸化、還元処理装置Info
- Publication number
- JPS60202792A JPS60202792A JP5847584A JP5847584A JPS60202792A JP S60202792 A JPS60202792 A JP S60202792A JP 5847584 A JP5847584 A JP 5847584A JP 5847584 A JP5847584 A JP 5847584A JP S60202792 A JPS60202792 A JP S60202792A
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- Japan
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- oxidation
- meter
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- Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
この発明は廃水、例えばメッキ工場から排出されるシア
ンやり四ムを含有するメッキ廃水、その他酸化剤又は還
元剤で処理する必要がある廃水をバッチ式に処理する酸
化、還元処理における前段の工程でのｉ）Ｈ調整、次の
酸化又は還元での薬注制御システムに関する。
ンやり四ムを含有するメッキ廃水、その他酸化剤又は還
元剤で処理する必要がある廃水をバッチ式に処理する酸
化、還元処理における前段の工程でのｉ）Ｈ調整、次の
酸化又は還元での薬注制御システムに関する。
従来は中和剤や、酸化剤又は還元剤の薬注はセンサー直
接又はセンサーとタイマー制御の組合せによって薬注量
を制御するため、短時間で処理しようとすると注入オー
バーになり、例えばアルカリ性の廃水番所定の声に調整
しようとして酸を過量に注入してしまい、攪拌してセン
サーで確認したら酸性になっているので今度はアルカリ
剤の注入を行うと言ったハンチングを１０回〜数１０回
繰返し、却って処理時間が長男いたり、ハンチングを防
ごうとすると、微量宛注入し２・攪拌してはセンサーで
確認するので処理時間が長くか−る。これは声を調整す
る中和以外に酸化剤又は還元剤の薬注に付いても同じで
ある。そして、ハンチングによって処理薬剤は無駄に費
消される。
接又はセンサーとタイマー制御の組合せによって薬注量
を制御するため、短時間で処理しようとすると注入オー
バーになり、例えばアルカリ性の廃水番所定の声に調整
しようとして酸を過量に注入してしまい、攪拌してセン
サーで確認したら酸性になっているので今度はアルカリ
剤の注入を行うと言ったハンチングを１０回〜数１０回
繰返し、却って処理時間が長男いたり、ハンチングを防
ごうとすると、微量宛注入し２・攪拌してはセンサーで
確認するので処理時間が長くか−る。これは声を調整す
る中和以外に酸化剤又は還元剤の薬注に付いても同じで
ある。そして、ハンチングによって処理薬剤は無駄に費
消される。
そこで本発明は被処理水の水量と′比値、又はＯＲＰ値
に基いて演算器で薬注量を演算して決定し、この決定に
従った量の薬液の薬注を制御器により制御して行い、こ
れにより過不足のない薬品量を注入して反応を進行させ
、薬品の使用量の節減を図ると共に、処理時間を短縮し
、処理装置の単′位時間当りの処理効率を向上すること
を目的とするもので、処理装置が被処理水の所定量を受
入れて酸化、還元処理を行う反応槽と、この反応槽内に
設けられた攪拌器と、反応槽内の声を検出するための直
針及びＯＲＰを検出するＯＲＰ計と、反応槽内に中和剤
及び酸化、還元剤を注入する薬注手段と、反応槽内の水
量と、反応槽内のｐＨ計又はＯＲＰ計の値と、予め入力
設定された声調整滴定曲線又は酸化還元電位滴定曲線か
ら反応槽内に注入する中和剤又は所化、還元剤量を演算
するための演算部と、該演算部の結果に従って前記薬注
手段を制御するための制御部とからなることを特徴とす
る。
に基いて演算器で薬注量を演算して決定し、この決定に
従った量の薬液の薬注を制御器により制御して行い、こ
れにより過不足のない薬品量を注入して反応を進行させ
、薬品の使用量の節減を図ると共に、処理時間を短縮し
、処理装置の単′位時間当りの処理効率を向上すること
を目的とするもので、処理装置が被処理水の所定量を受
入れて酸化、還元処理を行う反応槽と、この反応槽内に
設けられた攪拌器と、反応槽内の声を検出するための直
針及びＯＲＰを検出するＯＲＰ計と、反応槽内に中和剤
及び酸化、還元剤を注入する薬注手段と、反応槽内の水
量と、反応槽内のｐＨ計又はＯＲＰ計の値と、予め入力
設定された声調整滴定曲線又は酸化還元電位滴定曲線か
ら反応槽内に注入する中和剤又は所化、還元剤量を演算
するための演算部と、該演算部の結果に従って前記薬注
手段を制御するための制御部とからなることを特徴とす
る。
以下、本発明の図示の一実施例を説明する。
／は反応槽で、槽内には給水管−で処理すべき廃水が供
給され、反応を終った処理水は排水管３で槽内から排出
される両管コ、３には夫々自動弁ｖ！ｙ ｖ！が接続し
、廃水を給水管で供給して槽内の廃水が所定のレベルに
達すると槽内に設けたレベル計弘の上限スイッチグαが
これを検出して給水管２の自動弁Ｖ、を閉じて給水を停
止し、反応が終って排水管３の自動弁Ｖ、を開き、処理
水が槽内から全部排出されるとレベル計の下限スイッチ
ａｂが自動弁Ｖ、を閉じ、次に自動弁ｖ１を開いて給水
を開始する。従って、処理時、槽内には一定量の廃水が
ある。
給され、反応を終った処理水は排水管３で槽内から排出
される両管コ、３には夫々自動弁ｖ！ｙ ｖ！が接続し
、廃水を給水管で供給して槽内の廃水が所定のレベルに
達すると槽内に設けたレベル計弘の上限スイッチグαが
これを検出して給水管２の自動弁Ｖ、を閉じて給水を停
止し、反応が終って排水管３の自動弁Ｖ、を開き、処理
水が槽内から全部排出されるとレベル計の下限スイッチ
ａｂが自動弁Ｖ、を閉じ、次に自動弁ｖ１を開いて給水
を開始する。従って、処理時、槽内には一定量の廃水が
ある。
又、槽内には薬注した薬液を廃液に均一に混合する攪拌
器５があると共に、中和時に廃水の声を検出する声計６
及び酸化又は還元処理時に廃水の酸化、還元電位（ＯＲ
Ｐ ）を検出するＯａＦ計７が設けであるほか、画を調
整するための酸とアルカリを薬注する自動弁ｖ３１ ｖ
、を有する薬注装置ｆ、９と、酸化剤又は還元剤を選択
的に切換えて薬注する自動弁Ｖ、を備えた薬注量ＮＩＯ
が槽に付属する。そして、これらの爪針６、ＯＲＰ計７
は測定値をマイクルコンピュータなどの演算部と制御部
を備えた演算制御器／／の演算部／／αに入力し、各薬
注装置の自動弁ｖ、 ｔ Ｖ４ ｔＶ、の開閉は上記制
御器／ｌｂからの出力によって制御される。
器５があると共に、中和時に廃水の声を検出する声計６
及び酸化又は還元処理時に廃水の酸化、還元電位（ＯＲ
Ｐ ）を検出するＯａＦ計７が設けであるほか、画を調
整するための酸とアルカリを薬注する自動弁ｖ３１ ｖ
、を有する薬注装置ｆ、９と、酸化剤又は還元剤を選択
的に切換えて薬注する自動弁Ｖ、を備えた薬注量ＮＩＯ
が槽に付属する。そして、これらの爪針６、ＯＲＰ計７
は測定値をマイクルコンピュータなどの演算部と制御部
を備えた演算制御器／／の演算部／／αに入力し、各薬
注装置の自動弁ｖ、 ｔ Ｖ４ ｔＶ、の開閉は上記制
御器／ｌｂからの出力によって制御される。
演算制御器／ｌの演算部ｌｌαには反応槽／内の廃水量
と、使用する酸やアルカリ剤、酸化剤や還元剤に基いた
声調整滴定曲線と、酸化、還元電位滴定曲線とが入力し
である。
と、使用する酸やアルカリ剤、酸化剤や還元剤に基いた
声調整滴定曲線と、酸化、還元電位滴定曲線とが入力し
である。
声調整を行うには直針６で測定した廃水の声値を演算部
／／ａに入力し、入力済みの声調整滴定曲線から槽内廃
水のｐ’Ｈを所定値にするための酸又ハアルカリ剤の量
を演算してめ、その決定値より僅かに少ない量の酸又は
アルカリを薬注するために制御部／／ｂから薬注装置を
又は９の自動弁に出力し、自動弁Ｖ、又はｖ４を必要時
間間にする。それから再びｐＨ値を検出して上述の操作
を１〜２回繰返し、その操作中にＰＨ値が所定の値にな
ったら弁Ｖ、又はＶ４を閉じ、ｐＨ調整を終る。
／／ａに入力し、入力済みの声調整滴定曲線から槽内廃
水のｐ’Ｈを所定値にするための酸又ハアルカリ剤の量
を演算してめ、その決定値より僅かに少ない量の酸又は
アルカリを薬注するために制御部／／ｂから薬注装置を
又は９の自動弁に出力し、自動弁Ｖ、又はｖ４を必要時
間間にする。それから再びｐＨ値を検出して上述の操作
を１〜２回繰返し、その操作中にＰＨ値が所定の値にな
ったら弁Ｖ、又はＶ４を閉じ、ｐＨ調整を終る。
次に酸化又は還元反応を行う。それにはＯ”ｆＬＰ計７
から廃水の現在の酸化、還元電位を演算部／ｌαに入力
し、その電位に基いて薬注するのを酸化剤にするか、還
元剤するかを決定し且つ所定の電位にするための薬剤の
使用量をその薬剤の滴定曲線から決定し、その決定量よ
り僅かに少ない量の酸化剤又は還元剤を薬注するために
制御部７１ｂから自動弁Ｖ、に出力し、自動弁Ｖ、を必
要時間開にする。そして、再び廃水の電位をＯＲＰ計で
検出して上述の操作を１〜２回繰返し、操作中に電位が
所定の値になったら自動弁Ｖ、を閉じ反応を終る。
から廃水の現在の酸化、還元電位を演算部／ｌαに入力
し、その電位に基いて薬注するのを酸化剤にするか、還
元剤するかを決定し且つ所定の電位にするための薬剤の
使用量をその薬剤の滴定曲線から決定し、その決定量よ
り僅かに少ない量の酸化剤又は還元剤を薬注するために
制御部７１ｂから自動弁Ｖ、に出力し、自動弁Ｖ、を必
要時間開にする。そして、再び廃水の電位をＯＲＰ計で
検出して上述の操作を１〜２回繰返し、操作中に電位が
所定の値になったら自動弁Ｖ、を閉じ反応を終る。
上述した様に声調整、酸化又は還元反応を数回繰返して
行うと、最初が粗調整、次が微調整、最後が極微調整と
なり、精度よく反応は進行し、ハンチングの起る余地が
ない。
行うと、最初が粗調整、次が微調整、最後が極微調整と
なり、精度よく反応は進行し、ハンチングの起る余地が
ない。
尚、声調整及び反応の終了はμ値、酸化、還元電位値が
目的の所定値に達したときだけに頼って定めず、それら
の値と、それらの値に到達する迄の値の変化率によって
演算制御器／／で判断を行い、その上で終了を決定する
のが好ましい。そして、処理水を排出するための自動弁
Ｖ。
目的の所定値に達したときだけに頼って定めず、それら
の値と、それらの値に到達する迄の値の変化率によって
演算制御器／／で判断を行い、その上で終了を決定する
のが好ましい。そして、処理水を排出するための自動弁
Ｖ。
の開は演算制御器／／が反応の終了を決定して発信する
信号により自動で行い、これによってレベル計りと連携
で全工程を自動化することも可能である。
信号により自動で行い、これによってレベル計りと連携
で全工程を自動化することも可能である。
又、薬注を自動弁Ｖ８．Ｖ４．Ｖ、の開閉でなく、ポン
プを駆動して行うときは演算制御器の制御部／／ｂの出
力でポンプ駆動用のモータの駆動時間を制御すればよい
。
プを駆動して行うときは演算制御器の制御部／／ｂの出
力でポンプ駆動用のモータの駆動時間を制御すればよい
。
図面は本発明の一実施例の７０−シートで、図中、ｌは
反応槽、Ｓは攪拌器、乙は直針、７はＯＲＰ計、ｆ、９
は中和剤の薬注装置、ｉｏは酸化剤、還元剤の薬注装置
、／／は演算制御器、／／αはその演算部、／ｌｂは同
じく制御部である。
反応槽、Ｓは攪拌器、乙は直針、７はＯＲＰ計、ｆ、９
は中和剤の薬注装置、ｉｏは酸化剤、還元剤の薬注装置
、／／は演算制御器、／／αはその演算部、／ｌｂは同
じく制御部である。
Claims (1)
- 被処理水の所定量を受入れて酸化、還元処理を行う反応
槽と、この反応槽内に設けられた攪拌器と、反応槽内の
声を検出するための声計及びＯＲＰを検出するＯＲＰ計
と、反応槽内に中和剤及び酸化剤、還元剤を注入する薬
注手段と、反応槽内の水量と、反応槽内のμ計又はＯＲ
Ｐ計の値と、予め入力設定されたｐＨ調整滴定曲線又は
酸化還元電位滴定曲線から反応槽内に注入する中和剤又
は酸化、還元剤量を演算するための演算部と、該演算部
の結果に従って前記薬注手段を制御するための制御部と
からなることを特徴とする酸化、還元処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5847584A JPS60202792A (ja) | 1984-03-28 | 1984-03-28 | 酸化、還元処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5847584A JPS60202792A (ja) | 1984-03-28 | 1984-03-28 | 酸化、還元処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60202792A true JPS60202792A (ja) | 1985-10-14 |
Family
ID=13085456
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5847584A Pending JPS60202792A (ja) | 1984-03-28 | 1984-03-28 | 酸化、還元処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60202792A (ja) |
Cited By (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4818412A (en) * | 1986-04-01 | 1989-04-04 | Betz Laboratories, Inc. | Apparatus and process for feeding hypochlorite solution |
| FR2629446A3 (fr) * | 1988-03-31 | 1989-10-06 | Crouzet Sa | Procede d'epuration d'effluents contenant des ions metalliques |
| US5348664A (en) * | 1992-10-28 | 1994-09-20 | Stranco, Inc. | Process for disinfecting water by controlling oxidation/reduction potential |
| JPH10128347A (ja) * | 1996-11-05 | 1998-05-19 | Kansai Electric Power Co Inc:The | 硝酸性窒素含有水の処理方法 |
| US7390399B2 (en) | 2004-12-21 | 2008-06-24 | Siemens Water Technologies Holding Corp. | Water treatment control systems and methods of use |
| US7820024B2 (en) | 2006-06-23 | 2010-10-26 | Siemens Water Technologies Corp. | Electrically-driven separation apparatus |
| US7905245B2 (en) | 2005-09-30 | 2011-03-15 | Siemens Water Technologies Corp. | Dosing control system and method |
| US8877067B2 (en) | 2011-05-26 | 2014-11-04 | Evoqua Water Technologies Llc | Method and arrangement for a water treatment |
| US8961798B2 (en) | 2007-04-03 | 2015-02-24 | Evoqua Water Technologies Llc | Method for measuring a concentration of a compound in a liquid stream |
| JP2016059473A (ja) * | 2014-09-16 | 2016-04-25 | 株式会社神戸製鋼所 | 六価クロム溶出抑制方法 |
| US9365436B2 (en) | 2007-04-03 | 2016-06-14 | Evoqua Water Technologies Llc | Method of irradiating a liquid |
| US9365435B2 (en) | 2007-04-03 | 2016-06-14 | Evoqua Water Technologies Llc | Actinic radiation reactor |
| US9725343B2 (en) | 2007-04-03 | 2017-08-08 | Evoqua Water Technologies Llc | System and method for measuring and treating a liquid stream |
| US9764968B2 (en) | 2007-04-03 | 2017-09-19 | Evoqua Water Technologies Llc | Method and system for providing ultrapure water |
| US10343939B2 (en) | 2006-06-06 | 2019-07-09 | Evoqua Water Technologies Llc | Ultraviolet light activated oxidation process for the reduction of organic carbon in semiconductor process water |
| US10494281B2 (en) | 2015-01-21 | 2019-12-03 | Evoqua Water Technologies Llc | Advanced oxidation process for ex-situ groundwater remediation |
| US11161762B2 (en) | 2015-01-21 | 2021-11-02 | Evoqua Water Technologies Llc | Advanced oxidation process for ex-situ groundwater remediation |
-
1984
- 1984-03-28 JP JP5847584A patent/JPS60202792A/ja active Pending
Cited By (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4818412A (en) * | 1986-04-01 | 1989-04-04 | Betz Laboratories, Inc. | Apparatus and process for feeding hypochlorite solution |
| FR2629446A3 (fr) * | 1988-03-31 | 1989-10-06 | Crouzet Sa | Procede d'epuration d'effluents contenant des ions metalliques |
| US5348664A (en) * | 1992-10-28 | 1994-09-20 | Stranco, Inc. | Process for disinfecting water by controlling oxidation/reduction potential |
| JPH10128347A (ja) * | 1996-11-05 | 1998-05-19 | Kansai Electric Power Co Inc:The | 硝酸性窒素含有水の処理方法 |
| US7390399B2 (en) | 2004-12-21 | 2008-06-24 | Siemens Water Technologies Holding Corp. | Water treatment control systems and methods of use |
| US7867401B2 (en) | 2004-12-21 | 2011-01-11 | Siemens Water Technologies Holding Corp. | Water treatment control systems and methods of use |
| US7905245B2 (en) | 2005-09-30 | 2011-03-15 | Siemens Water Technologies Corp. | Dosing control system and method |
| US10550020B2 (en) | 2006-06-06 | 2020-02-04 | Evoqua Water Technologies Llc | Ultraviolet light activated oxidation process for the reduction of organic carbon in semiconductor process water |
| US10343939B2 (en) | 2006-06-06 | 2019-07-09 | Evoqua Water Technologies Llc | Ultraviolet light activated oxidation process for the reduction of organic carbon in semiconductor process water |
| US7820024B2 (en) | 2006-06-23 | 2010-10-26 | Siemens Water Technologies Corp. | Electrically-driven separation apparatus |
| US9365435B2 (en) | 2007-04-03 | 2016-06-14 | Evoqua Water Technologies Llc | Actinic radiation reactor |
| US9365436B2 (en) | 2007-04-03 | 2016-06-14 | Evoqua Water Technologies Llc | Method of irradiating a liquid |
| US9725343B2 (en) | 2007-04-03 | 2017-08-08 | Evoqua Water Technologies Llc | System and method for measuring and treating a liquid stream |
| US9764968B2 (en) | 2007-04-03 | 2017-09-19 | Evoqua Water Technologies Llc | Method and system for providing ultrapure water |
| US8961798B2 (en) | 2007-04-03 | 2015-02-24 | Evoqua Water Technologies Llc | Method for measuring a concentration of a compound in a liquid stream |
| US8877067B2 (en) | 2011-05-26 | 2014-11-04 | Evoqua Water Technologies Llc | Method and arrangement for a water treatment |
| JP2016059473A (ja) * | 2014-09-16 | 2016-04-25 | 株式会社神戸製鋼所 | 六価クロム溶出抑制方法 |
| US10494281B2 (en) | 2015-01-21 | 2019-12-03 | Evoqua Water Technologies Llc | Advanced oxidation process for ex-situ groundwater remediation |
| US11161762B2 (en) | 2015-01-21 | 2021-11-02 | Evoqua Water Technologies Llc | Advanced oxidation process for ex-situ groundwater remediation |
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