JP2000061481A - オゾン注入制御方法 - Google Patents
オゾン注入制御方法Info
- Publication number
- JP2000061481A JP2000061481A JP10235131A JP23513198A JP2000061481A JP 2000061481 A JP2000061481 A JP 2000061481A JP 10235131 A JP10235131 A JP 10235131A JP 23513198 A JP23513198 A JP 23513198A JP 2000061481 A JP2000061481 A JP 2000061481A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ozone
- treated water
- water
- concentration
- activated carbon
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Treatment Of Sludge (AREA)
- Water Treatment By Sorption (AREA)
- Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 オゾン処理と活性炭処理による除去目的物質
の除去効果を把握してオゾンを注入する「最適オゾン量
注入制御」を確立することを目的とする。 【解決手段】 被処理水１をオゾン接触池２で注入オゾ
ン濃度制御装置４によるオゾン処理を行った後に活性炭
処理池８で活性炭処理を行うことにより、水中の溶存性
の微量有機物質を除去した処理水を得るようにしたオゾ
ン注入処理において、オゾン処理水６の溶存オゾン濃度
を溶存オゾン濃度計７により測定するとともに活性炭処
理水９のＵＶ値を低濃度ＵＶ計１０により測定し、演算
装置５により、溶存オゾン濃度値とＵＶ値からトリハロ
メタン生成能ＴＨＭＦＰが一定になるように注入オゾン
濃度制御装置４のフィードバック制御を行い、求めたオ
ゾン濃度に基づいてオゾンガスを注入するようにしたオ
ゾン注入制御方法を基本手段とする。
の除去効果を把握してオゾンを注入する「最適オゾン量
注入制御」を確立することを目的とする。 【解決手段】 被処理水１をオゾン接触池２で注入オゾ
ン濃度制御装置４によるオゾン処理を行った後に活性炭
処理池８で活性炭処理を行うことにより、水中の溶存性
の微量有機物質を除去した処理水を得るようにしたオゾ
ン注入処理において、オゾン処理水６の溶存オゾン濃度
を溶存オゾン濃度計７により測定するとともに活性炭処
理水９のＵＶ値を低濃度ＵＶ計１０により測定し、演算
装置５により、溶存オゾン濃度値とＵＶ値からトリハロ
メタン生成能ＴＨＭＦＰが一定になるように注入オゾン
濃度制御装置４のフィードバック制御を行い、求めたオ
ゾン濃度に基づいてオゾンガスを注入するようにしたオ
ゾン注入制御方法を基本手段とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は上水，中水及び下水
の高度処理において、低濃度ＵＶ計と溶存オゾン濃度計
を用いたオゾン注入制御方法に関するものである。
の高度処理において、低濃度ＵＶ計と溶存オゾン濃度計
を用いたオゾン注入制御方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】河川などから取水した原水を浄化するプ
ロセスには、殺藻処理や鉄，マンガンなどの色度成分の
除去を目的とした塩素処理が組み込まれている。しかし
近時の大都市近郊においては、河川の汚濁が著しいた
め、アンモニアや発ガン性物質のトリハロメタンの前駆
物質であるフミン質を含む色度成分の含有率が高く、塩
素処理により塩素とアンモニアが反応してクロラミンを
生成し、必要以上の塩素を消費してしまう結果、塩素注
入率が高くなってＴＨＭが増大するなどの問題がある。
ロセスには、殺藻処理や鉄，マンガンなどの色度成分の
除去を目的とした塩素処理が組み込まれている。しかし
近時の大都市近郊においては、河川の汚濁が著しいた
め、アンモニアや発ガン性物質のトリハロメタンの前駆
物質であるフミン質を含む色度成分の含有率が高く、塩
素処理により塩素とアンモニアが反応してクロラミンを
生成し、必要以上の塩素を消費してしまう結果、塩素注
入率が高くなってＴＨＭが増大するなどの問題がある。
【０００３】近年上述した物質の除去を目的として高度
浄水処理システムを浄水プロセスに組み込む方式が行わ
れるようになってきた。この高度浄水処理方法には、オ
ゾン処理や生物活性炭処理があり、例えば塩素処理の代
替としてオゾン接触池によりオゾン処理を行い、更に活
性炭処理による吸着、生物濾過効果によりアンモニア，
色度成分などを除去し、砂濾過池等で濾過した後に塩素
処理を行って浄水池に送水する。特に生物活性炭処理の
前にオゾン処理を行うことにより、負荷変動に対する許
容度や活性炭の寿命の向上をはかることができる。
浄水処理システムを浄水プロセスに組み込む方式が行わ
れるようになってきた。この高度浄水処理方法には、オ
ゾン処理や生物活性炭処理があり、例えば塩素処理の代
替としてオゾン接触池によりオゾン処理を行い、更に活
性炭処理による吸着、生物濾過効果によりアンモニア，
色度成分などを除去し、砂濾過池等で濾過した後に塩素
処理を行って浄水池に送水する。特に生物活性炭処理の
前にオゾン処理を行うことにより、負荷変動に対する許
容度や活性炭の寿命の向上をはかることができる。
【０００４】オゾン処理の目的として、下水道の場合に
はかび臭などの臭気物質とか、フミン質などからなる色
度成分の分解と除去、有機塩素化合物の低減、鉄とかマ
ンガンの酸化、有機物の分解、ＣＯＤ除去が挙げられ
る。又、中水道でのオゾン処理では、脱臭，脱色，殺菌
が主な目的とされている。
はかび臭などの臭気物質とか、フミン質などからなる色
度成分の分解と除去、有機塩素化合物の低減、鉄とかマ
ンガンの酸化、有機物の分解、ＣＯＤ除去が挙げられ
る。又、中水道でのオゾン処理では、脱臭，脱色，殺菌
が主な目的とされている。
【０００５】オゾン処理の制御方法には、オゾン注入
率一定制御、排オゾン濃度一定制御、溶存オゾン濃
度一定制御、ＵＶ値（紫外線吸光度）制御等が知られ
ているが、実際に行われているのは上記のであ
る。しかしの方法は、処理水質を直接把握して行
う方法ではなく、オゾン指標から間接的に処理効果を把
握して行う制御となっている。
率一定制御、排オゾン濃度一定制御、溶存オゾン濃
度一定制御、ＵＶ値（紫外線吸光度）制御等が知られ
ているが、実際に行われているのは上記のであ
る。しかしの方法は、処理水質を直接把握して行
う方法ではなく、オゾン指標から間接的に処理効果を把
握して行う制御となっている。
【０００６】本願出願人は先に特願平１０−１２１９１
号により、被処理水の紫外線吸光度をＵＶ計により測定
するとともに、オゾン処理水の溶存オゾン濃度を紫外線
吸光度測定機能付き溶存オゾン濃度計（以下ＤＯ3計と
略称する）により測定し、演算装置により被処理水のＵ
Ｖ値に対するオゾン処理水のＵＶ残存率が一定になるよ
うに注入オゾン濃度制御装置のフィードバック制御を行
い、求めたオゾン濃度に基づいてオゾン接触池内にオゾ
ンを注入するオゾン注入制御方法を提案している。
号により、被処理水の紫外線吸光度をＵＶ計により測定
するとともに、オゾン処理水の溶存オゾン濃度を紫外線
吸光度測定機能付き溶存オゾン濃度計（以下ＤＯ3計と
略称する）により測定し、演算装置により被処理水のＵ
Ｖ値に対するオゾン処理水のＵＶ残存率が一定になるよ
うに注入オゾン濃度制御装置のフィードバック制御を行
い、求めたオゾン濃度に基づいてオゾン接触池内にオゾ
ンを注入するオゾン注入制御方法を提案している。
【０００７】更に特願平１０−１２１９２号により、オ
ゾン処理水の溶存オゾン濃度を紫外線吸光度測定機能付
きＤＯ3計により測定し、演算装置によりＣＯＤが除去
されるように前記注入オゾン濃度制御装置のフィードバ
ック制御を行い、求めたオゾン濃度に基づいてオゾン接
触池内にオゾンガスを注入することを特徴とするオゾン
注入制御方法を提案している。
ゾン処理水の溶存オゾン濃度を紫外線吸光度測定機能付
きＤＯ3計により測定し、演算装置によりＣＯＤが除去
されるように前記注入オゾン濃度制御装置のフィードバ
ック制御を行い、求めたオゾン濃度に基づいてオゾン接
触池内にオゾンガスを注入することを特徴とするオゾン
注入制御方法を提案している。
【０００８】上記の提案を含めて、通常のオゾン注入制
御はオゾン処理設備における各種計測情報、例えば注入
オゾン濃度、排オゾン濃度、溶存オゾン濃度、オゾン処
理水のＵＶ値と流入流量、水温などを制御因子としてい
る。
御はオゾン処理設備における各種計測情報、例えば注入
オゾン濃度、排オゾン濃度、溶存オゾン濃度、オゾン処
理水のＵＶ値と流入流量、水温などを制御因子としてい
る。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】現在、地球温暖化を防
止する上で省エネルギーとＣＯ2ガス放出量の削減が求
められており、オゾン処理においても目的とする処理効
果を維持し、且つ電力消費量をできる限り節約した方法
を採用する手段が希求されている。そのためには、オゾ
ン処理による除去目的物質の除去効果を把握してオゾン
注入量を制御する方法、つまり最適なオゾン量だけを注
入する「最適オゾン量注入制御」を確立することが必要
であるものと思慮される。
止する上で省エネルギーとＣＯ2ガス放出量の削減が求
められており、オゾン処理においても目的とする処理効
果を維持し、且つ電力消費量をできる限り節約した方法
を採用する手段が希求されている。そのためには、オゾ
ン処理による除去目的物質の除去効果を把握してオゾン
注入量を制御する方法、つまり最適なオゾン量だけを注
入する「最適オゾン量注入制御」を確立することが必要
であるものと思慮される。
【００１０】このような考え方に立つと、前記のオゾ
ン注入率一定制御はオゾン処理効果が完全に把握できな
いため、最適オゾン量注入制御を行うことができない。
又、の排オゾン濃度一定制御との溶存オゾン濃度一
定制御は、オゾン処理効果を処理水質から直接把握して
おらず、正確な意味での最適オゾン量注入制御は行うこ
とができない。
ン注入率一定制御はオゾン処理効果が完全に把握できな
いため、最適オゾン量注入制御を行うことができない。
又、の排オゾン濃度一定制御との溶存オゾン濃度一
定制御は、オゾン処理効果を処理水質から直接把握して
おらず、正確な意味での最適オゾン量注入制御は行うこ
とができない。
【００１１】又、オゾン処理による副生成物を除去する
ため、高度処理におけるオゾン処理の後段に通常活性炭
処理が行われている。この活性炭処理の目的は、前記し
たオゾン処理による副生成物の除去の外、オゾン処理で
除去する物質をさらに吸着除去すること、及びアンモニ
ア性窒素を除去することにある。活性炭処理だけでもオ
ゾン処理の除去目的物質を除去することが可能である
が、オゾン処理を前段におくことで除去目的物質の低減
効果が高められ、活性炭の寿命が長くなるという利点が
ある。
ため、高度処理におけるオゾン処理の後段に通常活性炭
処理が行われている。この活性炭処理の目的は、前記し
たオゾン処理による副生成物の除去の外、オゾン処理で
除去する物質をさらに吸着除去すること、及びアンモニ
ア性窒素を除去することにある。活性炭処理だけでもオ
ゾン処理の除去目的物質を除去することが可能である
が、オゾン処理を前段におくことで除去目的物質の低減
効果が高められ、活性炭の寿命が長くなるという利点が
ある。
【００１２】このように高度処理におけるオゾン処理
は、活性炭処理の前処理という位置付けがされているケ
ースが多い。このケースではオゾン処理で得られる水質
結果よりも後段の活性炭処理後の水質結果が重要視され
る。しかし前記のオゾン注入制御はオゾン処理設備のみ
における各種計測情報、例えば注入オゾン濃度とか排オ
ゾン濃度、溶存オゾン濃度等を制御因子としており、そ
の結果より重要視される活性炭処理による処理効果を反
映していない制御方法であると言える。
は、活性炭処理の前処理という位置付けがされているケ
ースが多い。このケースではオゾン処理で得られる水質
結果よりも後段の活性炭処理後の水質結果が重要視され
る。しかし前記のオゾン注入制御はオゾン処理設備のみ
における各種計測情報、例えば注入オゾン濃度とか排オ
ゾン濃度、溶存オゾン濃度等を制御因子としており、そ
の結果より重要視される活性炭処理による処理効果を反
映していない制御方法であると言える。
【００１３】本発明は上記の問題点に鑑み、オゾン・活
性炭処理による高度処理において、オゾン処理設備にお
ける各種計測情報だけでなく、活性炭処理設備の計測情
報をも活用して、オゾン・活性炭処理の各工程における
処理効果を把握し、より効果的で省エネルギーの面から
も有用な「最適オゾン量注入制御」を確立することを目
的とするものである。
性炭処理による高度処理において、オゾン処理設備にお
ける各種計測情報だけでなく、活性炭処理設備の計測情
報をも活用して、オゾン・活性炭処理の各工程における
処理効果を把握し、より効果的で省エネルギーの面から
も有用な「最適オゾン量注入制御」を確立することを目
的とするものである。
【００１４】
【課題を解決するための手段】本発明は上記の目的を達
成するために、請求項１により、被処理水をオゾン接触
池で注入オゾン濃度制御装置によるオゾン処理を行った
後に活性炭処理池で活性炭処理を行うことにより、水中
の溶存性の微量有機物質を除去した処理水を得るように
したオゾン注入処理において、オゾン処理水の溶存オゾ
ン濃度をＤＯ3計により測定するとともに活性炭処理水
の紫外線吸光度を低濃度ＵＶ計により測定し、演算装置
により、上記ＤＯ3値とＵＶ値から除去物質の１つであ
るトリハロメタン生成能ＴＨＭＦＰが一定になるように
注入オゾン濃度制御装置のフィードバック制御を行い、
求めたオゾン濃度に基づいてオゾン接触池内にオゾンガ
スを注入するようにしたオゾン注入制御方法を提供す
る。
成するために、請求項１により、被処理水をオゾン接触
池で注入オゾン濃度制御装置によるオゾン処理を行った
後に活性炭処理池で活性炭処理を行うことにより、水中
の溶存性の微量有機物質を除去した処理水を得るように
したオゾン注入処理において、オゾン処理水の溶存オゾ
ン濃度をＤＯ3計により測定するとともに活性炭処理水
の紫外線吸光度を低濃度ＵＶ計により測定し、演算装置
により、上記ＤＯ3値とＵＶ値から除去物質の１つであ
るトリハロメタン生成能ＴＨＭＦＰが一定になるように
注入オゾン濃度制御装置のフィードバック制御を行い、
求めたオゾン濃度に基づいてオゾン接触池内にオゾンガ
スを注入するようにしたオゾン注入制御方法を提供す
る。
【００１５】上記演算装置には、活性炭処理水のＴＨＭ
ＦＰ設定機能と、オゾン処理水のＤＯ3の上限設定機能
を付与してある。
ＦＰ設定機能と、オゾン処理水のＤＯ3の上限設定機能
を付与してある。
【００１６】請求項３により、オゾン処理水の溶存オゾ
ン濃度をＤＯ3計により測定するとともに被処理水と活
性炭処理水の紫外線吸光度をＵＶ計により測定し、演算
装置により、上記ＤＯ3値とＵＶ値から除去物質の１つ
であるＴＨＭＦＰ目標除去率が一定になるように注入オ
ゾン濃度制御装置のフィードバック制御を行い、求めた
オゾン濃度に基づいてオゾン接触池内にオゾンガスを注
入するオゾン注入制御方法を提供する。この演算装置
に、活性炭処理水のＴＨＭＦＰ目標除去率と、オゾン処
理水のＤＯ3の上限設定機能を付与してある。
ン濃度をＤＯ3計により測定するとともに被処理水と活
性炭処理水の紫外線吸光度をＵＶ計により測定し、演算
装置により、上記ＤＯ3値とＵＶ値から除去物質の１つ
であるＴＨＭＦＰ目標除去率が一定になるように注入オ
ゾン濃度制御装置のフィードバック制御を行い、求めた
オゾン濃度に基づいてオゾン接触池内にオゾンガスを注
入するオゾン注入制御方法を提供する。この演算装置
に、活性炭処理水のＴＨＭＦＰ目標除去率と、オゾン処
理水のＤＯ3の上限設定機能を付与してある。
【００１７】請求項５により、オゾン処理水の溶存オゾ
ン濃度をＤＯ3計により測定するとともに被処理水と活
性炭処理水の紫外線吸光度をＵＶ計により測定し、演算
装置により、上記ＤＯ3値とＵＶ値から除去物質の１つ
であるＫＭｎＯ4消費量が一定になるように注入オゾン
濃度制御装置のフィードバック制御を行い、求めたオゾ
ン濃度に基づいてオゾン接触池内にオゾンガスを注入す
るようにしたオゾン注入制御方法を提供する。この演算
装置に、活性炭処理水のＫＭｎＯ4消費量設定機能と、
オゾン処理水のＤＯ3の上限設定機能を付与してある。
ン濃度をＤＯ3計により測定するとともに被処理水と活
性炭処理水の紫外線吸光度をＵＶ計により測定し、演算
装置により、上記ＤＯ3値とＵＶ値から除去物質の１つ
であるＫＭｎＯ4消費量が一定になるように注入オゾン
濃度制御装置のフィードバック制御を行い、求めたオゾ
ン濃度に基づいてオゾン接触池内にオゾンガスを注入す
るようにしたオゾン注入制御方法を提供する。この演算
装置に、活性炭処理水のＫＭｎＯ4消費量設定機能と、
オゾン処理水のＤＯ3の上限設定機能を付与してある。
【００１８】請求項７により、オゾン処理水の溶存オゾ
ン濃度をＤＯ3計により測定するとともに被処理水と活
性炭処理水の紫外線吸光度を低濃度ＵＶ計により測定
し、演算装置により、上記ＤＯ3値とＵＶ値から活性炭
処理水のＫＭｎＯ4除去率が一定になるように注入オゾ
ン濃度制御装置のフィードバック制御を行い、求めたオ
ゾン濃度に基づいてオゾン接触池内にオゾンガスを注入
するようにしたオゾン注入制御方法を提供する。この演
算装置に、活性炭処理水のＫＭｎＯ4消費量目標除去率
設定機能とオゾン処理水のＤＯ3の上限設定機能を付与
してある。
ン濃度をＤＯ3計により測定するとともに被処理水と活
性炭処理水の紫外線吸光度を低濃度ＵＶ計により測定
し、演算装置により、上記ＤＯ3値とＵＶ値から活性炭
処理水のＫＭｎＯ4除去率が一定になるように注入オゾ
ン濃度制御装置のフィードバック制御を行い、求めたオ
ゾン濃度に基づいてオゾン接触池内にオゾンガスを注入
するようにしたオゾン注入制御方法を提供する。この演
算装置に、活性炭処理水のＫＭｎＯ4消費量目標除去率
設定機能とオゾン処理水のＤＯ3の上限設定機能を付与
してある。
【００１９】請求項９により、オゾン処理水の溶存オゾ
ン濃度をＤＯ3計により測定するとともに被処理水と活
性炭処理水の紫外線吸光度を低濃度ＵＶ計により測定
し、演算装置により、上記ＤＯ3値とＵＶ値から活性炭
処理水のＵＶ残存率が一定になるように注入オゾン濃度
制御装置のフィードバック制御を行い、求めたオゾン濃
度に基づいてオゾン接触池内にオゾンガスを注入するよ
うにしたオゾン注入制御方法を提供する。この演算装置
に、活性炭処理水のＵＶ残存率設定機能とオゾン処理水
のＤＯ3の上限設定機能を付与してある。
ン濃度をＤＯ3計により測定するとともに被処理水と活
性炭処理水の紫外線吸光度を低濃度ＵＶ計により測定
し、演算装置により、上記ＤＯ3値とＵＶ値から活性炭
処理水のＵＶ残存率が一定になるように注入オゾン濃度
制御装置のフィードバック制御を行い、求めたオゾン濃
度に基づいてオゾン接触池内にオゾンガスを注入するよ
うにしたオゾン注入制御方法を提供する。この演算装置
に、活性炭処理水のＵＶ残存率設定機能とオゾン処理水
のＤＯ3の上限設定機能を付与してある。
【００２０】更に請求項１１により、オゾン処理水の溶
存オゾン濃度をＤＯ3計により測定するとともに被処理
水と活性炭処理水の紫外線吸光度を低濃度ＵＶ計により
測定し、演算装置により、上記ＤＯ3値とＵＶ値から活
性炭処理水のＵＶ値が一定になるように注入オゾン濃度
制御装置のフィードバック制御を行い、求めたオゾン濃
度に基づいてオゾン接触池内にオゾンガスを注入するよ
うにしたオゾン注入制御方法を提供する。この演算装置
に、活性炭処理水のＵＶ一定制御機能とオゾン処理水の
ＤＯ3の上限設定機能を付与してある。
存オゾン濃度をＤＯ3計により測定するとともに被処理
水と活性炭処理水の紫外線吸光度を低濃度ＵＶ計により
測定し、演算装置により、上記ＤＯ3値とＵＶ値から活
性炭処理水のＵＶ値が一定になるように注入オゾン濃度
制御装置のフィードバック制御を行い、求めたオゾン濃
度に基づいてオゾン接触池内にオゾンガスを注入するよ
うにしたオゾン注入制御方法を提供する。この演算装置
に、活性炭処理水のＵＶ一定制御機能とオゾン処理水の
ＤＯ3の上限設定機能を付与してある。
【００２１】かかるオゾン注入制御方法によれば、請求
項１に記載したように、オゾン処理水のＤＯ3値の上限
設定条件下で、ＤＯ3値と活性炭処理水のＵＶ値から除
去物質の１つであるトリハロメタン生成能ＴＨＭＦＰが
一定になるように注入オゾン濃度制御装置のフィードバ
ック制御を行い、請求項３に記載したように、ＤＯ3値
とＵＶ値から除去物質の１つであるＴＨＭＦＰ目標除去
率が一定になるように注入オゾン濃度制御装置のフィー
ドバック制御を行い、請求項５に記載したように、ＤＯ
3値とＵＶ値から除去物質の１つであるＫＭｎＯ4消費量
が一定になるように注入オゾン濃度制御装置のフィード
バック制御を行い、請求項７に記載したように、ＤＯ3
値とＵＶ値から活性炭処理水のＫＭｎＯ4除去率が一定
になるように注入オゾン濃度制御装置のフィードバック
制御を行い、請求項９に記載したように、ＤＯ3値とＵ
Ｖ値から活性炭処理水のＵＶ残存率が一定になるように
注入オゾン濃度制御装置のフィードバック制御を行い、
更に請求項１１に記載したように、ＤＯ3値とＵＶ値か
ら活性炭処理水のＵＶ値が一定になるように注入オゾン
濃度制御装置のフィードバック制御を行い、夫々求めた
オゾン濃度に基づいてオゾン接触池内にオゾンガスを注
入することにより、オゾン・活性炭処理の各工程におけ
る処理効果を把握し、より効果的で省エネルギーの面か
らも有用な「最適オゾン量注入制御」方法を確立するこ
とができる。
項１に記載したように、オゾン処理水のＤＯ3値の上限
設定条件下で、ＤＯ3値と活性炭処理水のＵＶ値から除
去物質の１つであるトリハロメタン生成能ＴＨＭＦＰが
一定になるように注入オゾン濃度制御装置のフィードバ
ック制御を行い、請求項３に記載したように、ＤＯ3値
とＵＶ値から除去物質の１つであるＴＨＭＦＰ目標除去
率が一定になるように注入オゾン濃度制御装置のフィー
ドバック制御を行い、請求項５に記載したように、ＤＯ
3値とＵＶ値から除去物質の１つであるＫＭｎＯ4消費量
が一定になるように注入オゾン濃度制御装置のフィード
バック制御を行い、請求項７に記載したように、ＤＯ3
値とＵＶ値から活性炭処理水のＫＭｎＯ4除去率が一定
になるように注入オゾン濃度制御装置のフィードバック
制御を行い、請求項９に記載したように、ＤＯ3値とＵ
Ｖ値から活性炭処理水のＵＶ残存率が一定になるように
注入オゾン濃度制御装置のフィードバック制御を行い、
更に請求項１１に記載したように、ＤＯ3値とＵＶ値か
ら活性炭処理水のＵＶ値が一定になるように注入オゾン
濃度制御装置のフィードバック制御を行い、夫々求めた
オゾン濃度に基づいてオゾン接触池内にオゾンガスを注
入することにより、オゾン・活性炭処理の各工程におけ
る処理効果を把握し、より効果的で省エネルギーの面か
らも有用な「最適オゾン量注入制御」方法を確立するこ
とができる。
【００２２】
【発明の実施の形態】以下、図面に基づいて本発明にか
かるオゾン注入制御方法の具体的な各種実施形態を説明
する。以下に記す各種の実施形態では、低濃度紫外線吸
光度計（以下低濃度ＵＶ計と略称する）と溶存オゾン濃
度計を用いて、オゾン発生器によるオゾン注入を制御す
る方法を基本手段としている。
かるオゾン注入制御方法の具体的な各種実施形態を説明
する。以下に記す各種の実施形態では、低濃度紫外線吸
光度計（以下低濃度ＵＶ計と略称する）と溶存オゾン濃
度計を用いて、オゾン発生器によるオゾン注入を制御す
る方法を基本手段としている。
【００２３】低濃度ＵＶ計は可視光吸光度による濁質補
正機能を有しており、濁質が多い試料に対してはＵＶ値
よりも濁質補正したＵＶ値を用いる方がよい場合があ
り、試料の性質により通常のＵＶ計と濁質補正機能を有
す低濃度ＵＶ計とを使い分ける必要がある。
正機能を有しており、濁質が多い試料に対してはＵＶ値
よりも濁質補正したＵＶ値を用いる方がよい場合があ
り、試料の性質により通常のＵＶ計と濁質補正機能を有
す低濃度ＵＶ計とを使い分ける必要がある。
【００２４】本発明の基本理念は、オゾン・活性炭処理
において、オゾン処理設備における各種計測情報だけで
なく、活性炭処理設備の計測情報をも活用して最適オゾ
ン量注入制御を確立する方法にある。
において、オゾン処理設備における各種計測情報だけで
なく、活性炭処理設備の計測情報をも活用して最適オゾ
ン量注入制御を確立する方法にある。
【００２５】図１はオゾン注入率とオゾン処理水、活性
炭処理水の有機物項目残存率の関係例を示すグラフであ
り、横軸はオゾン注入率（ｍｇ／ｌ）、縦軸は各水質指
標の残存率である。図中の過マンガン酸カリウム（ＫＭ
ｎＯ4）消費量をみると、オゾン処理ではオゾン注入率
が２（ｍｇ／ｌ）以上では残存率が変化しないのに対し
て、活性炭処理ではオゾン注入率が２〜３（ｍｇ／ｌ）
でも残存率が低下している。Ｅ２６０（紫外光２６０ｎ
ｍの吸光度）でも同様な変化が見られる。図示は省略し
たが、ＴＨＭＦＰでも同様な変化があることが確認され
ている。
炭処理水の有機物項目残存率の関係例を示すグラフであ
り、横軸はオゾン注入率（ｍｇ／ｌ）、縦軸は各水質指
標の残存率である。図中の過マンガン酸カリウム（ＫＭ
ｎＯ4）消費量をみると、オゾン処理ではオゾン注入率
が２（ｍｇ／ｌ）以上では残存率が変化しないのに対し
て、活性炭処理ではオゾン注入率が２〜３（ｍｇ／ｌ）
でも残存率が低下している。Ｅ２６０（紫外光２６０ｎ
ｍの吸光度）でも同様な変化が見られる。図示は省略し
たが、ＴＨＭＦＰでも同様な変化があることが確認され
ている。
【００２６】図１から理解されるように、オゾン処理水
のＫＭｎＯ4消費量，Ｅ２６０の水質指標からみてオゾ
ン注入率を２（ｍｇ／ｌ）以上にしても残存率は低下せ
ず、２（ｍｇ／ｌ）以上のオゾン注入効果はないものと
判断される。活性炭処理水の水質からみると、オゾン注
入率２（ｍｇ／ｌ）以上でも残存率の低減効果があり、
３（ｍｇ／ｌ）程度までのオゾン注入の効果があるもの
と判断される。
のＫＭｎＯ4消費量，Ｅ２６０の水質指標からみてオゾ
ン注入率を２（ｍｇ／ｌ）以上にしても残存率は低下せ
ず、２（ｍｇ／ｌ）以上のオゾン注入効果はないものと
判断される。活性炭処理水の水質からみると、オゾン注
入率２（ｍｇ／ｌ）以上でも残存率の低減効果があり、
３（ｍｇ／ｌ）程度までのオゾン注入の効果があるもの
と判断される。
【００２７】このように最終的な処理水として活性炭処
理水の水質を考えた場合、オゾン処理水の水質信号では
なく、活性炭処理水の水質信号を用いてオゾン注入制御
を行うことが重要となることが分かる。
理水の水質を考えた場合、オゾン処理水の水質信号では
なく、活性炭処理水の水質信号を用いてオゾン注入制御
を行うことが重要となることが分かる。
【００２８】図２は本発明の第１の実施形態を示す概要
図であり、この例は活性炭処理水のトリハロメタン生成
能（ＴＨＭＦＰ）一定制御を行うことが基本となってい
る。図中の１は被処理水、２はオゾン接触池、３はオゾ
ン発生器、４は注入オゾン濃度制御装置、５は演算装
置、６はオゾン処理水、７は溶存オゾン濃度計（以下Ｄ
Ｏ3計５と略称）、８は活性炭処理池、９は活性炭処理
水、１０は低濃度ＵＶ計である。ＤＯ3計７は紫外線吸
光度測定機能が付与されている。又、演算装置５には活
性炭処理水のＴＨＭＦＰ設定（ＴＨＭＦＰset）機能と
オゾン処理水のＤＯ3の上限設定（ＤＯ3set）機能が付
与されている。
図であり、この例は活性炭処理水のトリハロメタン生成
能（ＴＨＭＦＰ）一定制御を行うことが基本となってい
る。図中の１は被処理水、２はオゾン接触池、３はオゾ
ン発生器、４は注入オゾン濃度制御装置、５は演算装
置、６はオゾン処理水、７は溶存オゾン濃度計（以下Ｄ
Ｏ3計５と略称）、８は活性炭処理池、９は活性炭処理
水、１０は低濃度ＵＶ計である。ＤＯ3計７は紫外線吸
光度測定機能が付与されている。又、演算装置５には活
性炭処理水のＴＨＭＦＰ設定（ＴＨＭＦＰset）機能と
オゾン処理水のＤＯ3の上限設定（ＤＯ3set）機能が付
与されている。
【００２９】第１の実施形態の基本的動作は以下の通り
である。通常の動作態様によれば、被処理水１がオゾン
接触池２に流入して、オゾン発生器３で得られるオゾン
ガスが注入されて所定のオゾン処理が行われ、オゾン処
理水６として流出する。この過程でオゾン処理水６の溶
存オゾン濃度をＤＯ3計７により測定し、演算装置５に
入力する。オゾン処理水６は活性炭処理池８に流入して
活性炭による処理が行われ、活性炭処理水９として流出
する。この過程で活性炭処理水９のＵＶ値を低濃度ＵＶ
計１０により測定し、演算装置５に入力する。
である。通常の動作態様によれば、被処理水１がオゾン
接触池２に流入して、オゾン発生器３で得られるオゾン
ガスが注入されて所定のオゾン処理が行われ、オゾン処
理水６として流出する。この過程でオゾン処理水６の溶
存オゾン濃度をＤＯ3計７により測定し、演算装置５に
入力する。オゾン処理水６は活性炭処理池８に流入して
活性炭による処理が行われ、活性炭処理水９として流出
する。この過程で活性炭処理水９のＵＶ値を低濃度ＵＶ
計１０により測定し、演算装置５に入力する。
【００３０】演算装置５はオゾン処理水６のＤＯ3値の
上限設定条件下で、ＤＯ3値と活性炭処理水９のＵＶ値
から除去物質の１つであるトリハロメタン生成能ＴＨＭ
ＦＰが一定になるように注入オゾン濃度制御装置４のフ
ィードバック制御を行い、求めたオゾン濃度に基づいて
オゾン発生器３からオゾン接触池２内にオゾンガスを注
入する。
上限設定条件下で、ＤＯ3値と活性炭処理水９のＵＶ値
から除去物質の１つであるトリハロメタン生成能ＴＨＭ
ＦＰが一定になるように注入オゾン濃度制御装置４のフ
ィードバック制御を行い、求めたオゾン濃度に基づいて
オゾン発生器３からオゾン接触池２内にオゾンガスを注
入する。
【００３１】図３はＵＶ値とＴＨＭＦＰの相関関係を示
している。このようなＵＶ値とＴＨＭＦＰの相関性に基
づいて、 ＴＨＭＦＰ＝ａ・ＵＶ＋ｂ ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・（１） と表わすことができる。ここでａ，ｂは係数である。
（１）式を用いて活性炭処理水のＵＶ値からＴＨＭＦＰ
の存在量を高精度に推定することができる。
している。このようなＵＶ値とＴＨＭＦＰの相関性に基
づいて、 ＴＨＭＦＰ＝ａ・ＵＶ＋ｂ ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・（１） と表わすことができる。ここでａ，ｂは係数である。
（１）式を用いて活性炭処理水のＵＶ値からＴＨＭＦＰ
の存在量を高精度に推定することができる。
【００３２】本例では先ず高度浄水処理での除去対象物
質の１つであるＴＨＭＦＰの活性炭処理水の濃度設定値
（ＴＨＭＦＰset）を決定する。
質の１つであるＴＨＭＦＰの活性炭処理水の濃度設定値
（ＴＨＭＦＰset）を決定する。
【００３３】次に下記の（２）式により、ＴＨＭＦＰse
tに見合う活性炭処理水８のＵＶ設定値（ＵＶset）を求
める。
tに見合う活性炭処理水８のＵＶ設定値（ＵＶset）を求
める。
【００３４】
ＵＶset＝（ＴＨＭＦＰset−ｂ）／ａ ・・・・・・・・・・（２）
そして活性炭処理水８のＵＶ値がＵＶsetになるように
注入オゾン濃度制御装置４のフィードバック制御を行
う。
注入オゾン濃度制御装置４のフィードバック制御を行
う。
【００３５】前記したように演算装置５にオゾン処理水
６のＤＯ3の上限設定機能が付与されているため、オゾ
ンの注入は現在のオゾン処理水６のＤＯ3がＤＯ3setを
超えない範囲で制御される。
６のＤＯ3の上限設定機能が付与されているため、オゾ
ンの注入は現在のオゾン処理水６のＤＯ3がＤＯ3setを
超えない範囲で制御される。
【００３６】オゾン処理水６のＤＯ3の上限制御を行っ
た理由は、被処理水１のＵＶ値が上昇した場合にＵＶse
tまでＵＶ値が低下しないケースがあり、オゾン過剰注
入の防止と後段の活性炭処理への悪影響を及ぼさないＤ
Ｏ3の維持、及び臭素酸イオン生成抑制のためのＤＯ3の
維持が主たる目的である。このＤＯ3の上限設定（ＤＯ3
set）に臭素酸イオン生成抑制の目的がある場合には、
図４に示したようにオゾンの接触・滞留時間とＣＴ値と
の関係からＤＯ3の上限設定値を決定する。
た理由は、被処理水１のＵＶ値が上昇した場合にＵＶse
tまでＵＶ値が低下しないケースがあり、オゾン過剰注
入の防止と後段の活性炭処理への悪影響を及ぼさないＤ
Ｏ3の維持、及び臭素酸イオン生成抑制のためのＤＯ3の
維持が主たる目的である。このＤＯ3の上限設定（ＤＯ3
set）に臭素酸イオン生成抑制の目的がある場合には、
図４に示したようにオゾンの接触・滞留時間とＣＴ値と
の関係からＤＯ3の上限設定値を決定する。
【００３７】ＣＴ値は、
ＤＯ3の濃度（ｍｇ／ｌ）×接触時間（分）
で表される。予め制御を適用するオゾン接触池で図４の
グラフを作成する。ここで臭素酸イオン濃度上限設定値
をａとすると、臭素酸イオン濃度をａ以下にするために
は、ＣＴ値をｂ以下にすればよい。オゾン接触池の滞留
時間をｔ（分）とすると、ＤＯ3の上限設定値はｂ／ｔ
で決定されるので、この値を制御設定値とする。
グラフを作成する。ここで臭素酸イオン濃度上限設定値
をａとすると、臭素酸イオン濃度をａ以下にするために
は、ＣＴ値をｂ以下にすればよい。オゾン接触池の滞留
時間をｔ（分）とすると、ＤＯ3の上限設定値はｂ／ｔ
で決定されるので、この値を制御設定値とする。
【００３８】図５は本発明の第２の実施形態を示す概要
図であり、この例は活性炭処理水のトリハロメタン除去
率一定制御を行うことが基本となっている。基本的な構
成は前記第１の実施形態と一致しており、同一の構成部
分に同一の符号を付して表示してある。尚、図２の構成
に加えて被処理水１のＵＶ値を測定するための低濃度Ｕ
Ｖ計１０ａを設けてあり、測定値は演算装置５に入力す
る。この演算装置５には、活性炭処理水９のＴＨＭＦＰ
目標除去率設定（ＴＨＭＦＰ除去率set）機能とオゾン
処理水のＤＯ3の上限設定（ＤＯ3set）機能が付与され
ている。
図であり、この例は活性炭処理水のトリハロメタン除去
率一定制御を行うことが基本となっている。基本的な構
成は前記第１の実施形態と一致しており、同一の構成部
分に同一の符号を付して表示してある。尚、図２の構成
に加えて被処理水１のＵＶ値を測定するための低濃度Ｕ
Ｖ計１０ａを設けてあり、測定値は演算装置５に入力す
る。この演算装置５には、活性炭処理水９のＴＨＭＦＰ
目標除去率設定（ＴＨＭＦＰ除去率set）機能とオゾン
処理水のＤＯ3の上限設定（ＤＯ3set）機能が付与され
ている。
【００３９】第２の実施形態の基本的動作としては、先
ず被処理水１がオゾン接触池２に流入し、オゾン発生器
３で得られるオゾンガスが注入されて所定のオゾン処理
が行われ、オゾン処理水６として流出する。この過程で
被処理水１のＵＶ値を低濃度ＵＶ計１０ａによって測定
し、演算装置５に入力する。更にオゾン処理水６の溶存
オゾン濃度をＤＯ3計７により測定し、活性炭処理水９
のＵＶ値を低濃度ＵＶ計１０により測定して同様に演算
装置５に入力する。
ず被処理水１がオゾン接触池２に流入し、オゾン発生器
３で得られるオゾンガスが注入されて所定のオゾン処理
が行われ、オゾン処理水６として流出する。この過程で
被処理水１のＵＶ値を低濃度ＵＶ計１０ａによって測定
し、演算装置５に入力する。更にオゾン処理水６の溶存
オゾン濃度をＤＯ3計７により測定し、活性炭処理水９
のＵＶ値を低濃度ＵＶ計１０により測定して同様に演算
装置５に入力する。
【００４０】第２の実施形態によれば、被処理水１のＴ
ＨＭＦＰ変動に対しても安定した活性炭処理水のＴＨＭ
ＦＰ除去率を得ることができる。
ＨＭＦＰ変動に対しても安定した活性炭処理水のＴＨＭ
ＦＰ除去率を得ることができる。
【００４１】ＵＶ値とＴＨＭＦＰの相関性に基づいて、
前記（１）式が得られるが、両者の関係から以下の
（３）式が得られる。
前記（１）式が得られるが、両者の関係から以下の
（３）式が得られる。
【００４２】
ＴＨＭＦＰ除去率＝１−ＴＨＭＦＰ２／ＴＨＭＦＰ１ ・・・・（３）
この式を用いて被処理水１のＵＶ値、活性炭処理水９の
ＵＶ値からＴＨＭＦＰ除去率の高精度な推定が可能とな
る。
ＵＶ値からＴＨＭＦＰ除去率の高精度な推定が可能とな
る。
【００４３】実施に際して、ＴＨＭＦＰ目標除去率（Ｔ
ＨＭＦＰ除去率set）を設定し、式（１）から現在の被
処理水１のＵＶ値（ＵＶ１）、活性炭処理水９のＵＶ値
（ＵＶ２）を使用してＴＨＭＦＰ推定値（それぞれＴＨ
ＭＦＰ１，ＴＨＭＦＰ２）を算出し、それらを用いて現
在のＴＨＭＦＰ除去率を式（３）により算出する。そし
て現在のＴＨＭＦＰ除去率がＴＨＭＦＰ目標除去率（Ｔ
ＨＭＦＰ除去率set）になるようにオゾン注入制御を行
う。
ＨＭＦＰ除去率set）を設定し、式（１）から現在の被
処理水１のＵＶ値（ＵＶ１）、活性炭処理水９のＵＶ値
（ＵＶ２）を使用してＴＨＭＦＰ推定値（それぞれＴＨ
ＭＦＰ１，ＴＨＭＦＰ２）を算出し、それらを用いて現
在のＴＨＭＦＰ除去率を式（３）により算出する。そし
て現在のＴＨＭＦＰ除去率がＴＨＭＦＰ目標除去率（Ｔ
ＨＭＦＰ除去率set）になるようにオゾン注入制御を行
う。
【００４４】オゾン処理水６のＤＯ3の上限制御を行っ
た理由は第１の実施形態で説明した理由と同一であり、
ＤＯ3の上限設定（ＤＯ3set）に臭素酸イオン生成抑制
の目的がある場合には、図４に示したようにオゾンの接
触・滞留時間とＣＴ値との関係からＤＯ3の上限設定値
を決定する。
た理由は第１の実施形態で説明した理由と同一であり、
ＤＯ3の上限設定（ＤＯ3set）に臭素酸イオン生成抑制
の目的がある場合には、図４に示したようにオゾンの接
触・滞留時間とＣＴ値との関係からＤＯ3の上限設定値
を決定する。
【００４５】図６の制御フロー図を用いて第２の実施形
態の具体的な制御例を説明すると、先ずＵＶ値とＴＨＭ
ＦＰの相関式（Ｙ＝ａＸ＋ｂ）を作成する。次にステッ
プ101によりオゾン処理水６のとＤＯ3と被処理水１のＵ
Ｖ値及び活性炭処理水９のＵＶ値を測定し、ステップ10
2でＵＶ値とＴＨＭＦＰの相関試験により式（１）の係
数ａ，ｂを決定する。そしてステップ103で式（１）を
用いて活性炭処理水９と被処理水１中のＴＨＭＦＰを推
定する。
態の具体的な制御例を説明すると、先ずＵＶ値とＴＨＭ
ＦＰの相関式（Ｙ＝ａＸ＋ｂ）を作成する。次にステッ
プ101によりオゾン処理水６のとＤＯ3と被処理水１のＵ
Ｖ値及び活性炭処理水９のＵＶ値を測定し、ステップ10
2でＵＶ値とＴＨＭＦＰの相関試験により式（１）の係
数ａ，ｂを決定する。そしてステップ103で式（１）を
用いて活性炭処理水９と被処理水１中のＴＨＭＦＰを推
定する。
【００４６】ステップ104では式（３）を用いてＴＨＭ
ＦＰ除去率を演算により求め、ステップ105ではＴＨＭ
ＦＰ目標除去率（ＴＨＭＦＰ除去率set）とＤＯ3の上限
設定を行い、ステップ106でＴＨＭＦＰの設定値から前
記（２）式によりＵＶsetが一定になるように注入オゾ
ン濃度を演算し、ＤＯ3上限設定値を超えないようにし
て注入オゾン濃度制御装置４のフィードバック制御を実
施する。
ＦＰ除去率を演算により求め、ステップ105ではＴＨＭ
ＦＰ目標除去率（ＴＨＭＦＰ除去率set）とＤＯ3の上限
設定を行い、ステップ106でＴＨＭＦＰの設定値から前
記（２）式によりＵＶsetが一定になるように注入オゾ
ン濃度を演算し、ＤＯ3上限設定値を超えないようにし
て注入オゾン濃度制御装置４のフィードバック制御を実
施する。
【００４７】一方、オゾン処理で有機物は質的変化を伴
うため、ＵＶ値とＴＨＭＦＰの関係はオゾン処理前後で
相関式の傾きが異なることが考えられる。その場合はオ
ゾン処理の前後に分けてＵＶ値とＴＨＭＦＰの相関式を
作成する。
うため、ＵＶ値とＴＨＭＦＰの関係はオゾン処理前後で
相関式の傾きが異なることが考えられる。その場合はオ
ゾン処理の前後に分けてＵＶ値とＴＨＭＦＰの相関式を
作成する。
【００４８】
オゾン処理前：ＴＨＭＦＰ１＝ａ１・ＵＶ１＋ｂ１ ・・・・・・・・・・・・・（４）
オゾン処理後：ＴＨＭＦＰ２＝ａ２・ＵＶ２＋ｂ２ ・・・・・・・・・・・・・（５）
ここでａ１，ａ２，ｂ１，ｂ２は係数である。
【００４９】演算装置５は、ＴＨＭＦＰ目標除去率（Ｔ
ＨＭＦＰ除去率set）を設定し、式（４）（５）から現
在の被処理水１のＵＶ値（ＵＶ１）、活性炭処理水９の
ＵＶ値（ＵＶ２）からＴＨＭＦＰ推定値（それぞれＴＨ
ＭＦＰ１，ＴＨＭＦＰ２）を算出し、それらを用いて現
在のＴＨＭＦＰ除去率を式（３）により算出する。そし
て現在のＴＨＭＦＰ除去率がＴＨＭＦＰ目標除去率（Ｔ
ＨＭＦＰ除去率set）になるように注入オゾン濃度制御
装置４の制御を行う。
ＨＭＦＰ除去率set）を設定し、式（４）（５）から現
在の被処理水１のＵＶ値（ＵＶ１）、活性炭処理水９の
ＵＶ値（ＵＶ２）からＴＨＭＦＰ推定値（それぞれＴＨ
ＭＦＰ１，ＴＨＭＦＰ２）を算出し、それらを用いて現
在のＴＨＭＦＰ除去率を式（３）により算出する。そし
て現在のＴＨＭＦＰ除去率がＴＨＭＦＰ目標除去率（Ｔ
ＨＭＦＰ除去率set）になるように注入オゾン濃度制御
装置４の制御を行う。
【００５０】図７の制御フロー図を用いて制御例を説明
すると、先ずオゾン処理前のＵＶ値とＴＨＭＦＰの相関
式（Ｙ＝ａ１Ｘ＋ｂ１）とオゾン処理後のＵＶ値とＴＨ
ＭＦＰの相関式（Ｙ＝ａ２Ｘ＋ｂ２）を作成する。次に
ステップ201によりオゾン処理水６のとＤＯ3と被処理水
１のＵＶ値及び活性炭処理水９のＵＶ値を測定し、ステ
ップ202でＵＶ値とＴＨＭＦＰの相関試験により式
（４）（５）の係数ａ１，ｂ１，ａ２，ｂ２を決定す
る。そしてステップ203で式（４）（５）を用いて活性
炭処理水９と被処理水１中のＴＨＭＦＰ１，２を推定す
る。
すると、先ずオゾン処理前のＵＶ値とＴＨＭＦＰの相関
式（Ｙ＝ａ１Ｘ＋ｂ１）とオゾン処理後のＵＶ値とＴＨ
ＭＦＰの相関式（Ｙ＝ａ２Ｘ＋ｂ２）を作成する。次に
ステップ201によりオゾン処理水６のとＤＯ3と被処理水
１のＵＶ値及び活性炭処理水９のＵＶ値を測定し、ステ
ップ202でＵＶ値とＴＨＭＦＰの相関試験により式
（４）（５）の係数ａ１，ｂ１，ａ２，ｂ２を決定す
る。そしてステップ203で式（４）（５）を用いて活性
炭処理水９と被処理水１中のＴＨＭＦＰ１，２を推定す
る。
【００５１】ステップ204では式（３）を用いてＴＨＭ
ＦＰ除去率を演算により求め、ステップ205ではＴＨＭ
ＦＰ目標除去率（ＴＨＭＦＰ除去率set）とＤＯ3の上限
設定を行い、ステップ206でＴＨＭＦＰの設定値から前
記（２）式によりＵＶsetが一定になるように注入オゾ
ン濃度を演算し、ＤＯ3上限設定値を超えないようにし
て注入オゾン濃度制御装置４のフィードバック制御を実
施する。
ＦＰ除去率を演算により求め、ステップ205ではＴＨＭ
ＦＰ目標除去率（ＴＨＭＦＰ除去率set）とＤＯ3の上限
設定を行い、ステップ206でＴＨＭＦＰの設定値から前
記（２）式によりＵＶsetが一定になるように注入オゾ
ン濃度を演算し、ＤＯ3上限設定値を超えないようにし
て注入オゾン濃度制御装置４のフィードバック制御を実
施する。
【００５２】次に本発明の第３の実施形態を説明する。
この例は活性炭処理水の過マンガン酸カリウム（ＫＭｎ
Ｏ4）消費量一定制御を行うことが基本となっている。
装置自体の構成は図２に示した第１の実施形態と一致し
ている。但し演算装置５には活性炭処理水の過マンガン
酸カリウム消費量設定（ＫＭｎＯ4消費量set）機能とオ
ゾン処理水のＤＯ3の上限設定（ＤＯ3set）機能が付与
されている。
この例は活性炭処理水の過マンガン酸カリウム（ＫＭｎ
Ｏ4）消費量一定制御を行うことが基本となっている。
装置自体の構成は図２に示した第１の実施形態と一致し
ている。但し演算装置５には活性炭処理水の過マンガン
酸カリウム消費量設定（ＫＭｎＯ4消費量set）機能とオ
ゾン処理水のＤＯ3の上限設定（ＤＯ3set）機能が付与
されている。
【００５３】かかる第３の実施形態によれば、演算装置
５はオゾン処理水６のＤＯ3値の上限設定条件下で、Ｄ
Ｏ3値と活性炭処理水９のＵＶ値から高度浄水処理にお
ける除去対象物質の１つであるＫＭｎＯ4消費量が一定
になるように注入オゾン濃度制御装置４のフィードバッ
ク制御を行い、求めたオゾン濃度に基づいてオゾン発生
器３からオゾン接触池２内にオゾンガスを注入する。
５はオゾン処理水６のＤＯ3値の上限設定条件下で、Ｄ
Ｏ3値と活性炭処理水９のＵＶ値から高度浄水処理にお
ける除去対象物質の１つであるＫＭｎＯ4消費量が一定
になるように注入オゾン濃度制御装置４のフィードバッ
ク制御を行い、求めたオゾン濃度に基づいてオゾン発生
器３からオゾン接触池２内にオゾンガスを注入する。
【００５４】図８はＵＶ値とＫＭｎＯ4消費量の相関関
係を示している。このような相関性に基づいて、 ＫＭｎＯ4消費量＝ａ・ＵＶ＋ｂ ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・（６） と表わすことができる。ここでａ，ｂは係数である。
（６）式を用いて活性炭処理水のＵＶ値からＫＭｎＯ4
消費量の存在量を高精度に推定し、ＫＭｎＯ4消費量に
見合う活性炭処理水８のＵＶ設定値（ＵＶset）を求め
る。
係を示している。このような相関性に基づいて、 ＫＭｎＯ4消費量＝ａ・ＵＶ＋ｂ ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・（６） と表わすことができる。ここでａ，ｂは係数である。
（６）式を用いて活性炭処理水のＵＶ値からＫＭｎＯ4
消費量の存在量を高精度に推定し、ＫＭｎＯ4消費量に
見合う活性炭処理水８のＵＶ設定値（ＵＶset）を求め
る。
【００５５】
ＵＶset＝（ＫＭｎＯ4消費量set−ｂ）／ａ ・・・・・・・・・・（７）
そして活性炭処理水８のＵＶ値がＵＶsetになるように
注入オゾン濃度制御装置４のフィードバック制御を行
う。
注入オゾン濃度制御装置４のフィードバック制御を行
う。
【００５６】オゾン処理水６のＤＯ3の上限制御を行っ
た理由は第１の実施形態で説明した理由と同一であり、
ＤＯ3の上限設定（ＤＯ3set）に臭素酸イオン生成抑制
の目的がある場合には、図４に示したようにオゾンの接
触・滞留時間とＣＴ値との関係からＤＯ3の上限設定値
を決定する。
た理由は第１の実施形態で説明した理由と同一であり、
ＤＯ3の上限設定（ＤＯ3set）に臭素酸イオン生成抑制
の目的がある場合には、図４に示したようにオゾンの接
触・滞留時間とＣＴ値との関係からＤＯ3の上限設定値
を決定する。
【００５７】次に本発明の第４の実施形態を説明する。
この例は活性炭処理水のＫＭｎＯ4消費量除去率一定制
御を行うことが基本となっている。装置自体の構成は図
５に示した第２の実施形態と一致している。但し演算装
置５には、活性炭処理水９のＫＭｎＯ4消費量目標除去
率設定（ＫＭｎＯ4消費量除去率set）機能とオゾン処理
水のＤＯ3の上限設定（ＤＯ3set）機能が付与されてい
る。
この例は活性炭処理水のＫＭｎＯ4消費量除去率一定制
御を行うことが基本となっている。装置自体の構成は図
５に示した第２の実施形態と一致している。但し演算装
置５には、活性炭処理水９のＫＭｎＯ4消費量目標除去
率設定（ＫＭｎＯ4消費量除去率set）機能とオゾン処理
水のＤＯ3の上限設定（ＤＯ3set）機能が付与されてい
る。
【００５８】第４の実施形態によれば、被処理水１のＫ
ＭｎＯ4消費量変動に対しても安定した活性炭処理水の
ＫＭｎＯ4消費量除去率を得ることができる。
ＭｎＯ4消費量変動に対しても安定した活性炭処理水の
ＫＭｎＯ4消費量除去率を得ることができる。
【００５９】ＵＶ値とＫＭｎＯ4消費量の相関性に基づ
いて以下の関係式が得られる。 ＫＭｎＯ4消費量除去率＝１−ＫＭｎＯ4消費量２／ＫＭｎＯ4消費量１ ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・（８） この式を用いて被処理水１のＵＶ値、活性炭処理水９の
ＵＶ計値からＫＭｎＯ4消費量の高精度な推定が可能と
なる。
いて以下の関係式が得られる。 ＫＭｎＯ4消費量除去率＝１−ＫＭｎＯ4消費量２／ＫＭｎＯ4消費量１ ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・（８） この式を用いて被処理水１のＵＶ値、活性炭処理水９の
ＵＶ計値からＫＭｎＯ4消費量の高精度な推定が可能と
なる。
【００６０】実施に際して、ＫＭｎＯ4消費量目標除去
率（ＫＭｎＯ4消費量除去率set）を設定し、式（６）か
ら現在の被処理水１のＵＶ値（ＵＶ１）、活性炭処理水
９のＵＶ値（ＵＶ２）を使用してＫＭｎＯ4消費量推定
値（それぞれＫＭｎＯ4消費量１，ＫＭｎＯ4消費量２）
を算出し、それらを用いて現在のＫＭｎＯ4消費量除去
率を式（８）により算出する。そして現在のＫＭｎＯ4
消費量除去率がＫＭｎＯ4目標除去率になるようにオゾ
ン注入制御を行う。
率（ＫＭｎＯ4消費量除去率set）を設定し、式（６）か
ら現在の被処理水１のＵＶ値（ＵＶ１）、活性炭処理水
９のＵＶ値（ＵＶ２）を使用してＫＭｎＯ4消費量推定
値（それぞれＫＭｎＯ4消費量１，ＫＭｎＯ4消費量２）
を算出し、それらを用いて現在のＫＭｎＯ4消費量除去
率を式（８）により算出する。そして現在のＫＭｎＯ4
消費量除去率がＫＭｎＯ4目標除去率になるようにオゾ
ン注入制御を行う。
【００６１】オゾン処理水６のＤＯ3の上限制御を行っ
た理由は第１の実施形態で説明した理由と同一であり、
ＤＯ3の上限設定（ＤＯ3set）に臭素酸イオン生成抑制
の目的がある場合には、図４に示したようにオゾンの接
触・滞留時間とＣＴ値との関係からＤＯ3の上限設定値
を決定する。
た理由は第１の実施形態で説明した理由と同一であり、
ＤＯ3の上限設定（ＤＯ3set）に臭素酸イオン生成抑制
の目的がある場合には、図４に示したようにオゾンの接
触・滞留時間とＣＴ値との関係からＤＯ3の上限設定値
を決定する。
【００６２】図９の制御フロー図を用いて具体的な制御
例を説明すると、先ずＵＶ値とＫＭｎＯ4消費量の相関
式（Ｙ＝ａＸ＋ｂ）を作成する。次にステップ301によ
りオゾン処理水６のとＤＯ3と被処理水１のＵＶ値及び
活性炭処理水９のＵＶ値を測定し、ステップ302でＵＶ
値とＫＭｎＯ4消費量の相関試験により式（６）の係数
ａ，ｂを決定する。そしてステップ303で式（６）を用
いて活性炭処理水９と被処理水１中のＫＭｎＯ4消費量
を推定する。
例を説明すると、先ずＵＶ値とＫＭｎＯ4消費量の相関
式（Ｙ＝ａＸ＋ｂ）を作成する。次にステップ301によ
りオゾン処理水６のとＤＯ3と被処理水１のＵＶ値及び
活性炭処理水９のＵＶ値を測定し、ステップ302でＵＶ
値とＫＭｎＯ4消費量の相関試験により式（６）の係数
ａ，ｂを決定する。そしてステップ303で式（６）を用
いて活性炭処理水９と被処理水１中のＫＭｎＯ4消費量
を推定する。
【００６３】ステップ304では式（８）を用いてＫＭｎ
Ｏ4消費量除去率を演算により求め、ステップ305ではＫ
ＭｎＯ4消費量目標除去率（ＫＭｎＯ4除去率set）とＤ
Ｏ3の上限設定を行い、ステップ306でＫＭｎＯ4消費量
の設定値から前記（８）式によりＵＶsetが一定になる
ように注入オゾン濃度を演算し、ＤＯ3上限設定値を超
えないようにして注入オゾン濃度制御装置４のフィード
バック制御を実施する。
Ｏ4消費量除去率を演算により求め、ステップ305ではＫ
ＭｎＯ4消費量目標除去率（ＫＭｎＯ4除去率set）とＤ
Ｏ3の上限設定を行い、ステップ306でＫＭｎＯ4消費量
の設定値から前記（８）式によりＵＶsetが一定になる
ように注入オゾン濃度を演算し、ＤＯ3上限設定値を超
えないようにして注入オゾン濃度制御装置４のフィード
バック制御を実施する。
【００６４】一方、オゾン処理で有機物は質的変化を伴
うため、ＵＶ値とＫＭｎＯ4消費量の関係はオゾン処理
前後で相関式の傾きが異なることが考えられる。その場
合はオゾン処理の前後に分けてＵＶ値とＫＭｎＯ4消費
量の相関式を作成する。
うため、ＵＶ値とＫＭｎＯ4消費量の関係はオゾン処理
前後で相関式の傾きが異なることが考えられる。その場
合はオゾン処理の前後に分けてＵＶ値とＫＭｎＯ4消費
量の相関式を作成する。
【００６５】
オゾン処理前：ＫＭｎＯ4消費量１＝ａ１・ＵＶ１＋ｂ１ ・・・・・（９）
オゾン処理後：ＫＭｎＯ4消費量２＝ａ２・ＵＶ２＋ｂ２ ・・・・・（１０）
ＫＭｎＯ4消費量除去率＝１−ＫＭｎＯ4消費量２／ＫＭｎＯ4消費量１
・・・・・（１１）
ここでａ１，ａ２，ｂ１，ｂ２は係数である。
【００６６】演算装置５は、ＫＭｎＯ4消費量目標除去
率（ＫＭｎＯ4消費量除去率set）を設定し、式（９）
（１０）から現在の被処理水１のＵＶ値（ＵＶ１）、活
性炭処理水９のＵＶ値（ＵＶ２）からＫＭｎＯ4消費量
推定値（それぞれＫＭｎＯ4消費量１，ＫＭｎＯ4消費量
２）を算出し、それらを用いて現在のＫＭｎＯ4消費量
除去率を式（１１）により算出する。そして現在のＫＭ
ｎＯ4消費量除去率がＫＭｎＯ4消費量目標除去率（ＫＭ
ｎＯ4消費量除去率set）になるように注入オゾン濃度制
御装置４の制御を行う。
率（ＫＭｎＯ4消費量除去率set）を設定し、式（９）
（１０）から現在の被処理水１のＵＶ値（ＵＶ１）、活
性炭処理水９のＵＶ値（ＵＶ２）からＫＭｎＯ4消費量
推定値（それぞれＫＭｎＯ4消費量１，ＫＭｎＯ4消費量
２）を算出し、それらを用いて現在のＫＭｎＯ4消費量
除去率を式（１１）により算出する。そして現在のＫＭ
ｎＯ4消費量除去率がＫＭｎＯ4消費量目標除去率（ＫＭ
ｎＯ4消費量除去率set）になるように注入オゾン濃度制
御装置４の制御を行う。
【００６７】図１０の制御フロー図を用いて制御例を説
明すると、先ずオゾン処理前のＵＶ値とＫＭｎＯ4消費
量の相関式（Ｙ＝ａ１Ｘ＋ｂ１）とオゾン処理後のＵＶ
値とＫＭｎＯ4消費量相関式（Ｙ＝ａ２Ｘ＋ｂ２）を作
成する。次にステップ401によりオゾン処理水６のとＤ
Ｏ3と被処理水１のＵＶ値及び活性炭処理水９のＵＶ値
を測定し、ステップ402でＵＶ値とＫＭｎＯ4の相関試験
により式（９）（１０）の係数ａ，ｂを決定する。そし
てステップ403で式（９）（１０）を用いて活性炭処理
水９と被処理水１中のＫＭｎＯ4消費量１，２を推定す
る。
明すると、先ずオゾン処理前のＵＶ値とＫＭｎＯ4消費
量の相関式（Ｙ＝ａ１Ｘ＋ｂ１）とオゾン処理後のＵＶ
値とＫＭｎＯ4消費量相関式（Ｙ＝ａ２Ｘ＋ｂ２）を作
成する。次にステップ401によりオゾン処理水６のとＤ
Ｏ3と被処理水１のＵＶ値及び活性炭処理水９のＵＶ値
を測定し、ステップ402でＵＶ値とＫＭｎＯ4の相関試験
により式（９）（１０）の係数ａ，ｂを決定する。そし
てステップ403で式（９）（１０）を用いて活性炭処理
水９と被処理水１中のＫＭｎＯ4消費量１，２を推定す
る。
【００６８】ステップ404では式（１１）を用いてＫＭ
ｎＯ4消費量除去率を演算により求め、ステップ405では
ＫＭｎＯ4消費量目標除去率（ＫＭｎＯ4消費量除去率se
t）とＤＯ3の上限設定を行い、ステップ406でＫＭｎＯ4
の設定値から前記（７）式によりＵＶsetが一定になる
ように注入オゾン濃度を演算し、ＤＯ3上限設定値を超
えないようにして注入オゾン濃度制御装置４のフィード
バック制御を実施する。
ｎＯ4消費量除去率を演算により求め、ステップ405では
ＫＭｎＯ4消費量目標除去率（ＫＭｎＯ4消費量除去率se
t）とＤＯ3の上限設定を行い、ステップ406でＫＭｎＯ4
の設定値から前記（７）式によりＵＶsetが一定になる
ように注入オゾン濃度を演算し、ＤＯ3上限設定値を超
えないようにして注入オゾン濃度制御装置４のフィード
バック制御を実施する。
【００６９】次に本発明の第５の実施形態を説明する。
この例は活性炭処理水のＵＶ（紫外線吸光度）残存率一
定制御を行うことが基本となっている。装置自体の構成
は図５に示した第２の実施形態と一致している。ＵＶ計
１０，１０ａは低濃度ＵＶ計を採用し、演算装置５には
活性炭処理水のＵＶ残存率設定（Ｃｏ／Ｃｉset）機能
とオゾン処理水のＤＯ3の上限設定（ＤＯ3set）機能が
付与されている。
この例は活性炭処理水のＵＶ（紫外線吸光度）残存率一
定制御を行うことが基本となっている。装置自体の構成
は図５に示した第２の実施形態と一致している。ＵＶ計
１０，１０ａは低濃度ＵＶ計を採用し、演算装置５には
活性炭処理水のＵＶ残存率設定（Ｃｏ／Ｃｉset）機能
とオゾン処理水のＤＯ3の上限設定（ＤＯ3set）機能が
付与されている。
【００７０】高度浄水処理除去対象物質であるかび臭、
農薬は測定に多くの時間がかかり、オンラインでの測定
もできないため、分析で検出されたときは既に浄水処理
工程に移行しており、しかも浄水処理工程で処理されず
に水道水中に混入している可能性がある。
農薬は測定に多くの時間がかかり、オンラインでの測定
もできないため、分析で検出されたときは既に浄水処理
工程に移行しており、しかも浄水処理工程で処理されず
に水道水中に混入している可能性がある。
【００７１】本発明者の実験によれば、かび臭とか農薬
などは一定レベルのオゾン注入処理によって除去される
ことが判明した。このオゾン処理で除去しきれないかび
臭，農薬は活性炭処理によって除去される。
などは一定レベルのオゾン注入処理によって除去される
ことが判明した。このオゾン処理で除去しきれないかび
臭，農薬は活性炭処理によって除去される。
【００７２】従っていつ混入するかが不明なかび臭，農
薬に対して、除去に有効なオゾン・活性炭処理を行う目
的で、活性炭処理水のＵＶ残存率一定制御を行うことが
本実施形態の特徴となっている。
薬に対して、除去に有効なオゾン・活性炭処理を行う目
的で、活性炭処理水のＵＶ残存率一定制御を行うことが
本実施形態の特徴となっている。
【００７３】図１１は、かび臭物質，農薬，ＵＶ残存率
のオゾン処理におけるイメージ図である。このＵＶ残存
率は、〔オゾン処理水の物質濃度／被処理水の物質濃
度〕に相当する。又、活性炭処理水のＵＶ残存率設定
（Ｃｏ／Ｃｉset）はＵＶ残存率とかび臭残存率、農薬
残存率の関係から設定する。
のオゾン処理におけるイメージ図である。このＵＶ残存
率は、〔オゾン処理水の物質濃度／被処理水の物質濃
度〕に相当する。又、活性炭処理水のＵＶ残存率設定
（Ｃｏ／Ｃｉset）はＵＶ残存率とかび臭残存率、農薬
残存率の関係から設定する。
【００７４】図１１において、かび臭残存率設定値をｃ
とし、農薬１残存率設定値をｄとすると、ＵＶの残存率
がａになるようにオゾン処理すると、かび臭は残存率設
定値ｃまで除去され、ＵＶ残存率がｂになるようにオゾ
ン処理すると、農薬１は残存率設定値ｄまで除去するこ
とができる。そこでかび臭と農薬の目標残存率（除去
率）を設定して、それに見合うＵＶ残存率を設定する。
とし、農薬１残存率設定値をｄとすると、ＵＶの残存率
がａになるようにオゾン処理すると、かび臭は残存率設
定値ｃまで除去され、ＵＶ残存率がｂになるようにオゾ
ン処理すると、農薬１は残存率設定値ｄまで除去するこ
とができる。そこでかび臭と農薬の目標残存率（除去
率）を設定して、それに見合うＵＶ残存率を設定する。
【００７５】そこで現在の被処理水ＵＶに対する活性炭
処理水ＵＶの残存率がＵＶ残存率設定（Ｃｏ／Ｃｉse
t）になるように、且つＤＯ3上限設定値を超えないよう
にして注入オゾン濃度制御装置４のフィードバック制御
を実施する。
処理水ＵＶの残存率がＵＶ残存率設定（Ｃｏ／Ｃｉse
t）になるように、且つＤＯ3上限設定値を超えないよう
にして注入オゾン濃度制御装置４のフィードバック制御
を実施する。
【００７６】前記各例と同様にオゾン処理水６のＤＯ3
の上限制御を行った理由は、被処理水のＵＶが上昇した
時などに処理水設定ＵＶまでＵＶが低下しない場合にオ
ゾン過剰注入の防止と後段の活性炭処理への悪影響を及
ぼさないＤＯ3の維持と、臭素酸イオン生成抑制のため
のＤＯ3の維持が目的である。オゾン処理水のＤＯ3の上
限設定（ＤＯ3set）は活性炭処理への影響を考慮し、更
に臭素酸イオン生成抑制目的がある場合はオゾンの接触
・滞留時間とＣＴ値との関係からＤＯ3の上限設定値を
決定する。
の上限制御を行った理由は、被処理水のＵＶが上昇した
時などに処理水設定ＵＶまでＵＶが低下しない場合にオ
ゾン過剰注入の防止と後段の活性炭処理への悪影響を及
ぼさないＤＯ3の維持と、臭素酸イオン生成抑制のため
のＤＯ3の維持が目的である。オゾン処理水のＤＯ3の上
限設定（ＤＯ3set）は活性炭処理への影響を考慮し、更
に臭素酸イオン生成抑制目的がある場合はオゾンの接触
・滞留時間とＣＴ値との関係からＤＯ3の上限設定値を
決定する。
【００７７】次に本発明の第６の実施形態を説明する。
この例は活性炭処理水のＵＶ一定制御を行うことが基本
となっている。装置自体の構成は図５に示した第２の実
施形態と一致している。但し演算装置５には、活性炭処
理水９のＵＶ一定制御値（ＵＶset）機能とオゾン処理
水のＤＯ3の上限設定（ＤＯ3set）機能が付与されてい
る。
この例は活性炭処理水のＵＶ一定制御を行うことが基本
となっている。装置自体の構成は図５に示した第２の実
施形態と一致している。但し演算装置５には、活性炭処
理水９のＵＶ一定制御値（ＵＶset）機能とオゾン処理
水のＤＯ3の上限設定（ＤＯ3set）機能が付与されてい
る。
【００７８】第６の実施形態によれば、通常ＵＶはＴＨ
ＭＦＰや過マンガン酸カリウム消費量などの有機物項目
との間に高い相関が得られるケースと、水源水質によっ
て高い相関が得られないケースとがある。
ＭＦＰや過マンガン酸カリウム消費量などの有機物項目
との間に高い相関が得られるケースと、水源水質によっ
て高い相関が得られないケースとがある。
【００７９】高い相関が得られるケースでは第１〜第４
の実施形態が適用できるが、高い相関が得られないケー
スでは活性炭処理水のＵＶ値そのものを制御する。尚、
活性炭処理水９のＵＶ一定制御値（ＵＶset）は、高度
処理による除去対象物質であるＴＨＭＦＰや過マンガン
酸カリウム消費量の目標濃度を達成するＵＶレベルで予
め年間を通した予備実験で求めておく。
の実施形態が適用できるが、高い相関が得られないケー
スでは活性炭処理水のＵＶ値そのものを制御する。尚、
活性炭処理水９のＵＶ一定制御値（ＵＶset）は、高度
処理による除去対象物質であるＴＨＭＦＰや過マンガン
酸カリウム消費量の目標濃度を達成するＵＶレベルで予
め年間を通した予備実験で求めておく。
【００８０】そして現在の活性炭処理水のＵＶ値がＵＶ
setになるように注入オゾン濃度制御装置４のフィード
バック制御を実施する。
setになるように注入オゾン濃度制御装置４のフィード
バック制御を実施する。
【００８１】オゾン処理水６のＤＯ3の上限制御を行っ
た理由は、前記したように被処理水のＵＶが上昇した時
などに処理水設定ＵＶまでＵＶが低下しない場合にオゾ
ン過剰注入の防止と後段の活性炭処理への悪影響を及ぼ
さないＤＯ3の維持と、臭素酸イオン生成抑制のための
ＤＯ3の維持が目的である。オゾン処理水のＤＯ3の上限
設定（ＤＯ3set）は活性炭処理への影響を考慮し、更に
臭素酸イオン生成抑制目的がある場合はオゾンの接触・
滞留時間とＣＴ値との関係からＤＯ3の上限設定値を決
定する。
た理由は、前記したように被処理水のＵＶが上昇した時
などに処理水設定ＵＶまでＵＶが低下しない場合にオゾ
ン過剰注入の防止と後段の活性炭処理への悪影響を及ぼ
さないＤＯ3の維持と、臭素酸イオン生成抑制のための
ＤＯ3の維持が目的である。オゾン処理水のＤＯ3の上限
設定（ＤＯ3set）は活性炭処理への影響を考慮し、更に
臭素酸イオン生成抑制目的がある場合はオゾンの接触・
滞留時間とＣＴ値との関係からＤＯ3の上限設定値を決
定する。
【００８２】上記各実施形態におけるＤＯ3計７は、可
視光吸光度に濁質補正機能を有しており、濁質が多い試
料に対しては通常のＵＶ値よりも濁質補正したＵＶ値を
用いる方がよい。これを簡単に説明すると、紫外光２５
３.７ｎｍの吸光度（Ｅ２５３.７）と浮遊物質とか濁質
と相関の高い可視光５４６ｎｍの吸光度（Ｅ５４６）の
各信号を、吸光光度法の欠点である「濁質に弱い」点を
克服するために、検出部ではＥ２５３.７からＥ５４６
を差し引くことにより、濁質によるＥ２５３．７の上乗
せを補正する。これにより試料が適度の濁質を含んでい
ても測定が可能となる。
視光吸光度に濁質補正機能を有しており、濁質が多い試
料に対しては通常のＵＶ値よりも濁質補正したＵＶ値を
用いる方がよい。これを簡単に説明すると、紫外光２５
３.７ｎｍの吸光度（Ｅ２５３.７）と浮遊物質とか濁質
と相関の高い可視光５４６ｎｍの吸光度（Ｅ５４６）の
各信号を、吸光光度法の欠点である「濁質に弱い」点を
克服するために、検出部ではＥ２５３.７からＥ５４６
を差し引くことにより、濁質によるＥ２５３．７の上乗
せを補正する。これにより試料が適度の濁質を含んでい
ても測定が可能となる。
【００８３】尚、ＵＶセルによるＵＶ及び可視光吸光度
（ＶＩＳ）の測定原理は、本願出願人が先に提案した特
願平８−１０３０７１号に詳細に記載されている。
（ＶＩＳ）の測定原理は、本願出願人が先に提案した特
願平８−１０３０７１号に詳細に記載されている。
【００８４】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
れば被処理水をオゾン接触池で注入オゾン濃度制御装置
によるオゾン処理を行った後に活性炭処理池で活性炭処
理を行うことにより、水中の溶存性の微量有機物質を除
去した処理水を得るようにしたオゾン注入処理におい
て、オゾン処理水の溶存オゾン濃度をＤＯ３計により測
定するとともに活性炭処理水の紫外線吸光度を低濃度Ｕ
Ｖ計により測定し、演算装置により、上記ＤＯ3値とＵ
Ｖ値から除去物質の１つであるトリハロメタン生成能Ｔ
ＨＭＦＰが一定になるように注入オゾン濃度制御装置の
フィードバック制御を行うことを基本手段とし、以下演
算装置により、上記ＤＯ3値とＵＶ値から活性炭処理水
のＴＨＭＦＰ目標除去率、ＫＭｎＯ4消費量、ＫＭｎＯ4
消費量除去率、ＵＶ残存率及び、ＵＶ値が一定になるよ
うに注入オゾン濃度制御装置のフィードバック制御を行
ってオゾン接触池内にオゾンガスを注入することによ
り、オゾン・活性炭処理の各工程における処理効果を把
握し、且つかび臭物質とか農薬等の難分析性物質の混入
時における処理効果を把握して、より効果的で省エネル
ギーの面からも有用な「最適オゾン量注入制御」方法を
確立することができる。
れば被処理水をオゾン接触池で注入オゾン濃度制御装置
によるオゾン処理を行った後に活性炭処理池で活性炭処
理を行うことにより、水中の溶存性の微量有機物質を除
去した処理水を得るようにしたオゾン注入処理におい
て、オゾン処理水の溶存オゾン濃度をＤＯ３計により測
定するとともに活性炭処理水の紫外線吸光度を低濃度Ｕ
Ｖ計により測定し、演算装置により、上記ＤＯ3値とＵ
Ｖ値から除去物質の１つであるトリハロメタン生成能Ｔ
ＨＭＦＰが一定になるように注入オゾン濃度制御装置の
フィードバック制御を行うことを基本手段とし、以下演
算装置により、上記ＤＯ3値とＵＶ値から活性炭処理水
のＴＨＭＦＰ目標除去率、ＫＭｎＯ4消費量、ＫＭｎＯ4
消費量除去率、ＵＶ残存率及び、ＵＶ値が一定になるよ
うに注入オゾン濃度制御装置のフィードバック制御を行
ってオゾン接触池内にオゾンガスを注入することによ
り、オゾン・活性炭処理の各工程における処理効果を把
握し、且つかび臭物質とか農薬等の難分析性物質の混入
時における処理効果を把握して、より効果的で省エネル
ギーの面からも有用な「最適オゾン量注入制御」方法を
確立することができる。
【００８５】更に演算装置に、ＴＨＭＦＰ、ＴＨＭＦＰ
目標除去率、ＫＭｎＯ4消費量、ＫＭｎＯ4消費量除去
率、ＵＶ残存率、ＵＶ値一定制御に加えて、オゾン処理
水溶存オゾン濃度上限設定機能を設けたことにより、被
処理水のＵＶ値が上昇しても設定された目標値までが低
下しない時に、オゾン過剰注入の防止と後段への溶存オ
ゾンによる活性炭処理などに悪影響を及ぼさない制御を
行うことができる。
目標除去率、ＫＭｎＯ4消費量、ＫＭｎＯ4消費量除去
率、ＵＶ残存率、ＵＶ値一定制御に加えて、オゾン処理
水溶存オゾン濃度上限設定機能を設けたことにより、被
処理水のＵＶ値が上昇しても設定された目標値までが低
下しない時に、オゾン過剰注入の防止と後段への溶存オ
ゾンによる活性炭処理などに悪影響を及ぼさない制御を
行うことができる。
【００８６】従って本発明によれば、オゾン処理による
除去目的物質の残存率を正確に把握してオゾン注入量を
制御することにより、電力の無駄をなくした「最適オゾ
ン量注入制御」を確立し、オゾン処理条件の管理を精度
高く実施することができるという効果を発揮する。
除去目的物質の残存率を正確に把握してオゾン注入量を
制御することにより、電力の無駄をなくした「最適オゾ
ン量注入制御」を確立し、オゾン処理条件の管理を精度
高く実施することができるという効果を発揮する。
【図１】オゾン注入率とオゾン処理水、活性炭処理水の
有機物項目残存率の関係例を示すグラフ。
有機物項目残存率の関係例を示すグラフ。
【図２】本発明にかかるオゾン注入方法の第１の実施形
態を示す概要図。
態を示す概要図。
【図３】ＵＶ値とＴＨＭＦＰの相関関係を示すグラフ。
【図４】オゾンの接触・滞留時間とＣＴ値との関係を示
すグラフ。
すグラフ。
【図５】本発明の第２の実施形態を示す概要図。
【図６】第２の実施の形態の制御フロー図。
【図７】本発明の第３の実施の形態の制御フロー図。
【図８】ＵＶ値とＫＭｎＯ4消費量の相関関係を示すグ
ラフ。
ラフ。
【図９】本発明の第４の実施の形態の制御フロー図。
【図１０】本発明の第５の実施の形態の制御フロー図。
【図１１】かび臭物質，農薬，ＵＶ残存率のオゾン処理
におけるイメージ図。
におけるイメージ図。
１…被処理水
２…オゾン接触池
３…オゾン発生器
４…注入オゾン濃度制御装置
５…演算装置
６…オゾン処理水
７…ＤＯ3計
８…活性炭処理池
９…活性炭処理水
１０，１０ａ…低濃度ＵＶ計
Claims (12)
- 【請求項１】 被処理水をオゾン接触池で注入オゾン濃
度制御装置によるオゾン処理を行った後に活性炭処理池
で活性炭処理を行うことにより、水中の溶存性の微量有
機物質を除去した処理水を得るようにしたオゾン注入処
理において、 オゾン処理水の溶存オゾン濃度を溶存オゾン濃度計によ
り測定するとともに活性炭処理水の紫外線吸光度を低濃
度ＵＶ計により測定し、演算装置により、溶存オゾン濃
度値とＵＶ値から除去物質の１つであるトリハロメタン
生成能ＴＨＭＦＰが一定になるように注入オゾン濃度制
御装置のフィードバック制御を行い、求めたオゾン濃度
に基づいてオゾン接触池内にオゾンガスを注入すること
を特徴とするオゾン注入制御方法。 - 【請求項２】 前記演算装置に、活性炭処理水のＴＨＭ
ＦＰ設定機能と、オゾン処理水の溶存オゾン濃度の上限
設定機能を付与したことを特徴とする請求項１に記載の
オゾン注入制御方法。 - 【請求項３】 被処理水をオゾン接触池で注入オゾン濃
度制御装置によるオゾン処理を行った後に活性炭処理池
で活性炭処理を行うことにより、水中の溶存性の微量有
機物質を除去した処理水を得るようにしたオゾン注入処
理において、 オゾン処理水の溶存オゾン濃度を溶存オゾン濃度計によ
り測定するとともに被処理水と活性炭処理水の紫外線吸
光度を低濃度ＵＶ計により測定し、演算装置により、溶
存オゾン濃度値とＵＶ値から除去物質の１つであるＴＨ
ＭＦＰ目標除去率が一定になるように注入オゾン濃度制
御装置のフィードバック制御を行い、求めたオゾン濃度
に基づいてゾン接触池内にオゾンガスを注入することを
特徴とするオゾン注入制御方法。 - 【請求項４】 前記演算装置に、活性炭処理水のＴＨＭ
ＦＰ目標除去率と、オゾン処理水の溶存オゾン濃度の上
限設定機能を付与したことを特徴とする請求項３に記載
のオゾン注入制御方法。 - 【請求項５】 被処理水をオゾン接触池で注入オゾン濃
度制御装置によるオゾン処理を行った後に活性炭処理池
で活性炭処理を行うことにより、水中の溶存性の微量有
機物質を除去した処理水を得るようにしたオゾン注入処
理において、 オゾン処理水の溶存オゾン濃度を溶存オゾン濃度計によ
り測定するとともに被処理水と活性炭処理水の紫外線吸
光度を低濃度ＵＶ計により測定し、演算装置により、溶
存オゾン濃度値とＵＶ値から除去物質の１つであるＫＭ
ｎＯ4消費量が一定になるように注入オゾン濃度制御装
置のフィードバック制御を行い、求めたオゾン濃度に基
づいてオゾン接触池内にオゾンガスを注入することを特
徴とするオゾン注入制御方法。 - 【請求項６】 前記演算装置に、活性炭処理水のＫＭｎ
Ｏ4消費量設定機能と、オゾン処理水の溶存オゾン濃度
の上限設定機能を付与したことを特徴とする請求項５に
記載のオゾン注入制御方法。 - 【請求項７】 被処理水をオゾン接触池で注入オゾン濃
度制御装置によるオゾン処理を行った後に活性炭処理池
で活性炭処理を行うことにより、水中の溶存性の微量有
機物質を除去した処理水を得るようにしたオゾン注入処
理において、 オゾン処理水の溶存オゾン濃度を溶存オゾン濃度計によ
り測定するとともに被処理水と活性炭処理水の紫外線吸
光度を低濃度ＵＶ計により測定し、演算装置により、溶
存オゾン濃度値とＵＶ値から活性炭処理水のＫＭｎＯ4
除去率が一定になるように注入オゾン濃度制御装置のフ
ィードバック制御を行い、求めたオゾン濃度に基づいて
オゾン接触池内にオゾンガスを注入することを特徴とす
るオゾン注入制御方法。 - 【請求項８】 前記演算装置に、活性炭処理水のＫＭｎ
Ｏ4消費量目標除去率設定機能とオゾン処理水の溶存オ
ゾン濃度の上限設定機能を付与したことを特徴とする請
求項７に記載のオゾン注入制御方法。 - 【請求項９】 被処理水をオゾン接触池で注入オゾン濃
度制御装置によるオゾン処理を行った後に活性炭処理池
で活性炭処理を行うことにより、水中の溶存性の微量有
機物質を除去した処理水を得るようにしたオゾン注入処
理において、 オゾン処理水の溶存オゾン濃度を溶存オゾン濃度計によ
り測定するとともに被処理水と活性炭処理水の紫外線吸
光度を低濃度ＵＶ計により測定し、演算装置により、溶
存オゾン濃度値とＵＶ値から活性炭処理水のＵＶ残存率
が一定になるように注入オゾン濃度制御装置のフィード
バック制御を行い、求めたオゾン濃度に基づいてオゾン
接触池内にオゾンガスを注入することを特徴とするオゾ
ン注入制御方法。 - 【請求項１０】 前記演算装置に、活性炭処理水のＵＶ
残存率設定機能とオゾン処理水の溶存オゾン濃度の上限
設定機能を付与したことを特徴とする請求項９に記載の
オゾン注入制御方法。 - 【請求項１１】 被処理水をオゾン接触池で注入オゾン
濃度制御装置によるオゾン処理を行った後に活性炭処理
池で活性炭処理を行うことにより、水中の溶存性の微量
有機物質を除去した処理水を得るようにしたオゾン注入
処理において、 オゾン処理水の溶存オゾン濃度を溶存オゾン濃度計によ
り測定するとともに被処理水と活性炭処理水の紫外線吸
光度を低濃度ＵＶ計により測定し、演算装置により、溶
存オゾン濃度値とＵＶ値から活性炭処理水のＵＶ値が一
定になるように注入オゾン濃度制御装置のフィードバッ
ク制御を行い、求めたオゾン濃度に基づいてオゾン接触
池内にオゾンガスを注入することを特徴とするオゾン注
入制御方法。 - 【請求項１２】 前記演算装置に、活性炭処理水のＵＶ
一定制御機能とオゾン処理水の溶存オゾン濃度の上限設
定機能を付与したことを特徴とする請求項１１に記載の
オゾン注入制御方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10235131A JP2000061481A (ja) | 1998-08-21 | 1998-08-21 | オゾン注入制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10235131A JP2000061481A (ja) | 1998-08-21 | 1998-08-21 | オゾン注入制御方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000061481A true JP2000061481A (ja) | 2000-02-29 |
Family
ID=16981522
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10235131A Pending JP2000061481A (ja) | 1998-08-21 | 1998-08-21 | オゾン注入制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000061481A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008523982A (ja) * | 2004-12-21 | 2008-07-10 | シ−メンス ウォーター テクノロジーズ ホールディング コープ | 水処理制御システム及びその利用方法 |
| CN105540819A (zh) * | 2016-01-29 | 2016-05-04 | 中国矿业大学 | 一种载体改性制备臭氧催化剂处理难降解有机废水的方法 |
| WO2016121618A1 (ja) * | 2015-01-30 | 2016-08-04 | 三菱電機株式会社 | 水処理装置および水処理方法 |
| CN110412233A (zh) * | 2019-08-28 | 2019-11-05 | 上海铱钶环保科技有限公司 | 定量测定不同水质对臭氧消耗的方法与装置 |
-
1998
- 1998-08-21 JP JP10235131A patent/JP2000061481A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008523982A (ja) * | 2004-12-21 | 2008-07-10 | シ−メンス ウォーター テクノロジーズ ホールディング コープ | 水処理制御システム及びその利用方法 |
| WO2016121618A1 (ja) * | 2015-01-30 | 2016-08-04 | 三菱電機株式会社 | 水処理装置および水処理方法 |
| JP6095037B2 (ja) * | 2015-01-30 | 2017-03-15 | 三菱電機株式会社 | 水処理装置および水処理方法 |
| CN105540819A (zh) * | 2016-01-29 | 2016-05-04 | 中国矿业大学 | 一种载体改性制备臭氧催化剂处理难降解有机废水的方法 |
| CN110412233A (zh) * | 2019-08-28 | 2019-11-05 | 上海铱钶环保科技有限公司 | 定量测定不同水质对臭氧消耗的方法与装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Wang et al. | Addition of hydrogen peroxide for the simultaneous control of bromate and odor during advanced drinking water treatment using ozone | |
| Ding et al. | The eAND process: enabling simultaneous nitrogen-removal and disinfection for WWTP effluent | |
| Liu et al. | Decreased formation of disinfection by-products during electrochemical leachate oxidation and their post-removal by electro-adsorption | |
| Zheng et al. | Removal of algae and algogenic odor compounds via combined pre-chlorination and powdered activated carbon adsorption for source water pretreatment | |
| KR101274983B1 (ko) | 센서를 이용한 잔류염소농도의 측정방법과 측정장치 및 그를 이용한 정수처리시스템 | |
| JP3201077B2 (ja) | 高度浄水処理方法 | |
| Huang et al. | Effects of operating parameters on electrochemical treatment of swine wastewater | |
| JP2000061481A (ja) | オゾン注入制御方法 | |
| JP4660211B2 (ja) | 水処理制御システム及び水処理制御方法 | |
| KR100365556B1 (ko) | 탈염소공정을 부가한 고도정수처리시스템 | |
| Ikematsu et al. | Electrolytic treatment of human urine to remove nitrogen and phosphorus | |
| JPH1054829A (ja) | オゾン処理水の液相オゾン濃度測定装置及び過マンガン酸イオン検出装置 | |
| JP2015221424A (ja) | 有機性排水の処理方法及び処理装置 | |
| JP3321876B2 (ja) | オゾン処理装置及びオゾン処理方法並びに浄水処理方法 | |
| JP2005313078A (ja) | 水処理方法及び水処理システム | |
| JP6616583B2 (ja) | 有機酸溶液分解システム及び有機酸溶液分解方法 | |
| JPH067792A (ja) | 有機性排水の処理方法及びメタン発酵処理装置 | |
| JPH11207368A (ja) | オゾン注入制御方法 | |
| JPH11207369A (ja) | オゾン注入制御方法 | |
| JP4831782B2 (ja) | 排水処理方法及びシステム | |
| JP2009066465A (ja) | アンモニア性窒素含有水の処理設備及びその処理方法 | |
| JP2007326047A (ja) | 水処理制御装置 | |
| JPH0663570A (ja) | オゾン注入量の決定方法と制御方法および浄水処理装置 | |
| Seo et al. | Removal characteristics of geosmin by advanced water treatment processes: A case study around the Han River, Republic of Korea | |
| JP4331048B2 (ja) | オゾンによる水処理制御システム |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040823 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060320 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060418 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060815 |