JP6095037B2 - 水処理装置および水処理方法 - Google Patents
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- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 570
- 238000011282 treatment Methods 0.000 title claims description 258
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 64
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 524
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 244
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 244
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 claims description 146
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 140
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 73
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 14
- 238000012886 linear function Methods 0.000 claims description 13
- 238000005276 aerator Methods 0.000 claims description 10
- 239000003002 pH adjusting agent Substances 0.000 claims description 9
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 claims description 6
- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 5
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 4
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims 1
- SXDBWCPKPHAZSM-UHFFFAOYSA-N bromic acid Chemical compound OBr(=O)=O SXDBWCPKPHAZSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 15
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 14
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 13
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 13
- 230000008569 process Effects 0.000 description 13
- 230000008859 change Effects 0.000 description 12
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 11
- 238000002798 spectrophotometry method Methods 0.000 description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 230000002596 correlated effect Effects 0.000 description 7
- 238000005273 aeration Methods 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 5
- 239000005446 dissolved organic matter Substances 0.000 description 5
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000875 corresponding effect Effects 0.000 description 4
- 230000004083 survival effect Effects 0.000 description 4
- QJZYHAIUNVAGQP-UHFFFAOYSA-N 3-nitrobicyclo[2.2.1]hept-5-ene-2,3-dicarboxylic acid Chemical compound C1C2C=CC1C(C(=O)O)C2(C(O)=O)[N+]([O-])=O QJZYHAIUNVAGQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 3
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 3
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 3
- 239000004021 humic acid Substances 0.000 description 3
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 3
- PUKLDDOGISCFCP-JSQCKWNTSA-N 21-Deoxycortisone Chemical compound C1CC2=CC(=O)CC[C@]2(C)[C@@H]2[C@@H]1[C@@H]1CC[C@@](C(=O)C)(O)[C@@]1(C)CC2=O PUKLDDOGISCFCP-JSQCKWNTSA-N 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FCYKAQOGGFGCMD-UHFFFAOYSA-N Fulvic acid Natural products O1C2=CC(O)=C(O)C(C(O)=O)=C2C(=O)C2=C1CC(C)(O)OC2 FCYKAQOGGFGCMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- 239000010840 domestic wastewater Substances 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 239000002509 fulvic acid Substances 0.000 description 2
- 229940095100 fulvic acid Drugs 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 2
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 2
- 238000004659 sterilization and disinfection Methods 0.000 description 2
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000011481 absorbance measurement Methods 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229940006460 bromide ion Drugs 0.000 description 1
- 230000000711 cancerogenic effect Effects 0.000 description 1
- 231100000315 carcinogenic Toxicity 0.000 description 1
- 239000003183 carcinogenic agent Substances 0.000 description 1
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 230000001932 seasonal effect Effects 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 1
- 239000003643 water by type Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F9/00—Multistage treatment of water, waste water or sewage
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/72—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
- C02F1/78—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation with ozone
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/66—Treatment of water, waste water, or sewage by neutralisation; pH adjustment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/72—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
- C02F1/74—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation with air
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2101/00—Nature of the contaminant
- C02F2101/30—Organic compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2209/00—Controlling or monitoring parameters in water treatment
- C02F2209/02—Temperature
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2209/00—Controlling or monitoring parameters in water treatment
- C02F2209/06—Controlling or monitoring parameters in water treatment pH
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2209/00—Controlling or monitoring parameters in water treatment
- C02F2209/23—O3
- C02F2209/235—O3 in the gas phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2209/00—Controlling or monitoring parameters in water treatment
- C02F2209/38—Gas flow rate
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- Water Supply & Treatment (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
- Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
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- Physical Water Treatments (AREA)
- Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
Description
特許文献1におけるオゾン注入率制御方法は、あらかじめ被処理水とオゾンの反応特性を求める実験を行い、その実験結果に基づいて、オゾン注入率を制御している。このため、天候や季節変化によって被処理水の水質が変動すると、オゾン注入率を適正に制御できない問題がある。
また、本発明に係る水処理装置は、被処理水を導入して収容する処理槽にオゾンガスを注入するオゾン注入設備と、処理槽に導入される被処理水に関して、第1の波長の紫外吸光度を測定する第1の測定器と、処理槽でオゾン処理された後の処理水に関して、第1の波長の紫外吸光度を測定する第3の測定器と、第1の測定器および第3の測定器による測定結果に基づいて、オゾン注入設備によるオゾン注入率を制御するコントローラと、被処理水を導入してオゾン処理を実施し、オゾン処理の結果に基づいてオゾン注入率の目標値をリアルタイムで算出する小型水処理装置とを備え、被処理水は、第1の波長の紫外吸光度と相関のある有機物を含有し、第1の波長は、240nm以上270nm以下とし、コントローラは、第3の測定器の第1の波長の測定値を第1の測定器の第1の波長の測定値で除算することで、処理水の第1の波長の紫外吸光度の残存率測定値を算出し、小型水処理装置で算出されたオゾン注入率の目標値と、処理水の第1の波長の紫外吸光度の残存率測定値との差が最小となるように、オゾン注入率を制御するものである。
また、本発明に係る水処理方法は、被処理水を導入して収容する処理槽にオゾンガスを注入するオゾン注入設備と、処理槽の入口に設けられた第1測定地点における被処理水に関して、第1の波長の紫外吸光度を測定する第1の測定器と、処理槽内に設けられた第2測定地点における被処理水に関して、第1の波長の紫外吸光度を測定する第2の測定器と、処理槽の出口に設けられた第3測定地点における処理槽でオゾン処理された後の処理水に関して、第1の波長の紫外吸光度を測定する第3の測定器と、第1の測定器、第2の測定器、および第3の測定器による測定結果に基づいて、オゾン注入設備によるオゾン注入率を制御するコントローラとを備えた水処理装置を用いて、第1の波長の紫外吸光度と相関のある有機物を含有する被処理水に適用される水処理方法であって、第1の波長は、240nm以上270nm以下とし、コントローラにおいて、第1の測定器による測定値から、第1測定地点における被処理水の第1の波長の紫外吸光度の残存率を第1残存率として算出するステップと、第2の測定器による測定値から、第2測定地点における被処理水の第1の波長の紫外吸光度の残存率を第2残存率として算出するステップと、第3の測定器による測定値から、第3測定地点における処理水の第1の波長の紫外吸光度の残存率を第3残存率として算出するステップと、第1残存率と第2残存率とから導かれる1次関数を作成するステップと、第3残存率を従属変数とした場合の1次関数における独立変数を算出するステップと、算出した独立変数に基づいてオゾン注入率を制御するステップとを有する水処理方法。
図1は、本発明の実施の形態1による水処理装置の構成を説明するための図である。本実施の形態1における水処理装置は、オゾン処理と生物活性炭処理とを組み合わせた高度浄水処理に適用される。ただし、生物活性炭処理については、必ずしも必要としない。
UV254残存率A254result
=A254fin/A254ini×100 (1)
UV254残存率推定値A254est
=UV254残存率A254result±B (2)
UV254残存率推定値A254est
>UV254残存率A254result±B (3)
被処理水(1):河川を水源とした被処理水
被処理水(2):雨水や家庭排水が流入したものを水源とした被処理水
被処理水(3):生物処理水が流入したものを水源とした被処理水
変曲点のUV254残存率
=33.6×UV210+67.94 (4)
図6は、本発明の実施の形態2による水処理装置の構成を説明するための図である。本実施の形態2の水処理装置が特徴とするところは、第1のpH調整器20、水温計21、第1の溶存オゾン濃度計22、第1の曝気機23および第2のpH調整器24をさらに加えたことである。
図9は、本発明の実施の形態3による水処理装置の構成を説明するための図である。本実施の形態3の水処理装置が特徴とするところは、小型水処理装置25を加えたことである。小型水処理装置25において、変曲点のUV254残存率をリアルタイムに求めることができる。
図12は、本発明の実施の形態4による水処理装置の構成を説明するための図である。本実施の形態4の水処理装置が特徴とするところは、オゾン処理槽2の出入口と、中間の1点以上とからなる、少なくとも3点以上で、分光光度を測定することである。多段式のオゾン処理槽2において、1槽目と2槽目にオゾンガスを注入する場合を例として、以下に説明する。
Y=−aX+UV%a (5)
(溶存オゾン0.1mg/Lを検出したオゾン注入率Oc
+オゾン注入率Xc)/2 = オゾン注入率Xuv (6)
オゾン注入率Oc>オゾン注入率Xc (7)
本実施の形態5では、水温が所定温度以下の場合におけるオゾン注入率制御について説明する。図17は、本発明の実施の形態5に係る水処理装置による水処理方法の一連の動作を示したフローチャートである。図18は、本発明の実施の形態5に係る水処理方法において、所定の水温以下で被処理水3を用いてオゾン処理したときのオゾン注入率に対するUV254残存率と溶存オゾンの変化をそれぞれ示した図である。
Claims (15)
- 被処理水を導入して収容する処理槽にオゾンガスを注入するオゾン注入設備と、
複数の地点における前記被処理水の紫外吸光度を、少なくとも第1の波長を用いて測定する測定部と、
前記測定部により測定された前記複数の地点における測定結果に基づいて、前記処理槽でオゾン処理された後の処理水に関して、前記第1の波長の紫外吸光度の残存率を推定し、推定した前記残存率を用いて前記オゾン注入設備によるオゾン注入率を制御するコントローラと
を備え、
前記被処理水は、第1の波長の紫外吸光度と相関のある有機物およびフミン物質を含有し、
前記測定部は、前記処理槽に導入される前記被処理水に関して、
前記第1の波長および第2の波長を含む2種類以上の波長の紫外吸光度を測定する第1の測定器と、
前記処理槽でオゾン処理された後の処理水に関して、前記第1の波長の紫外吸光度を測定する第3の測定器と
を有し、
前記第1の波長は、240nm以上270nm以下とし、前記第2の波長は、200nm以上230nm以下とし、
前記コントローラは、推定した前記残存率に基づく前記オゾン注入率の制御を行う際に、
前記第1の測定器による前記第2の波長の測定値から、前記処理水の第1の波長の紫外吸光度の残存率推定値を算出して目標値として設定し、
前記第3の測定器の前記第1の波長の測定値を前記第1の測定器の第1の波長の測定値で除算することで、前記処理水の第1の波長の紫外吸光度の残存率測定値を算出し、
前記目標値として設定した前記第1の波長の紫外吸光度の残存率推定値と、前記処理水の第1の波長の紫外吸光度の残存率測定値との差が最小となるように、前記オゾン注入率を制御する
水処理装置。 - 被処理水を導入して収容する処理槽にオゾンガスを注入するオゾン注入設備と、
複数の地点における前記被処理水の紫外吸光度を、少なくとも第1の波長を用いて測定する測定部と、
前記測定部により測定された前記複数の地点における測定結果に基づいて、前記処理槽でオゾン処理された後の処理水に関して、前記第1の波長の紫外吸光度の残存率を推定し、推定した前記残存率を用いて前記オゾン注入設備によるオゾン注入率を制御するコントローラと
を備え、
前記被処理水は、第1の波長の紫外吸光度と相関のある有機物を含有し、
前記測定部は、前記複数の地点を、前記処理槽の入口に設けられた第1測定地点、前記処理槽内に設けられた第2測定地点、および前記処理槽の出口に設けられた第3測定地点からなる3地点とした場合に、
前記第1測定地点における前記被処理水に関して、前記第1の波長の紫外吸光度を測定する第1の測定器と、
前記第2測定地点における前記被処理水に関して、前記第1の波長の紫外吸光度を測定する第2の測定器と、
前記第3測定地点における前記処理水に関して、前記第1の波長の紫外吸光度を測定する第3の測定器と
を有し、
前記第1の波長は、240nm以上270nm以下とし、
前記コントローラは、
前記第1の測定器による測定値から、前記第1測定地点における前記被処理水の前記第1の波長の紫外吸光度の残存率を第1残存率として算出し、
前記第2の測定器による測定値から、前記第2測定地点における前記被処理水の前記第1の波長の紫外吸光度の残存率を第2残存率として算出し、
前記第3の測定器による測定値から、前記第3測定地点における前記処理水の前記第1の波長の紫外吸光度の残存率を第3残存率として算出し、
前記第1残存率と前記第2残存率とから導かれる1次関数を作成し、
前記第3残存率を従属変数とした場合の前記1次関数における独立変数を算出し、算出した前記独立変数に基づいて前記オゾン注入率を制御する
水処理装置。 - 被処理水を導入して収容する処理槽にオゾンガスを注入するオゾン注入設備と、
複数の地点における前記被処理水の蛍光強度を、少なくとも第1の波長を用いて測定する測定部と、
前記測定部により測定された前記複数の地点における測定結果に基づいて、前記処理槽でオゾン処理された後の処理水に関して、前記第1の波長の蛍光強度の残存率を推定し、推定した前記残存率を用いて前記オゾン注入設備によるオゾン注入率を制御するコントローラと
を備え、
前記被処理水は、第1の波長の蛍光強度と相関のある有機物を含有し、
前記測定部は、前記複数の地点を、前記処理槽の入口に設けられた第1測定地点、前記処理槽内に設けられた第2測定地点、および前記処理槽の出口に設けられた第3測定地点からなる3地点とした場合に、
前記第1測定地点における前記被処理水に関して、前記第1の波長の蛍光強度を測定する第1の測定器と、
前記第2測定地点における前記被処理水に関して、前記第1の波長の蛍光強度を測定する第2の測定器と、
前記第3測定地点における前記処理水に関して、前記第1の波長の蛍光強度を測定する第3の測定器と
を有し、
前記第1の波長の励起光は、波長200nm以上370nm以下とし、前記第1の波長の蛍光は、波長400nm以上460nm以下とし、
前記コントローラは、
前記第1の測定器による測定値から、前記第1測定地点における前記被処理水の前記第1の波長の蛍光強度の残存率を第1残存率として算出し、
前記第2の測定器による測定値から、前記第2測定地点における前記被処理水の前記第1の波長の蛍光強度の残存率を第2残存率として算出し、
前記第3の測定器による測定値から、前記第3測定地点における前記処理水の前記第1の波長の蛍光強度の残存率を第3残存率として算出し、
前記第1残存率と前記第2残存率とから導かれる1次関数を作成し、
前記第3残存率を従属変数とした場合の前記1次関数における独立変数を算出し、算出した前記独立変数に基づいて前記オゾン注入率を制御する
水処理装置。 - 前記被処理水の水温を測定する水温計をさらに備え、
前記コントローラは、
前記被処理水の水温が第1の温度範囲にある場合には、前記被処理水の溶存オゾン濃度に基づいて前記オゾン注入率を制御し、
前記被処理水の水温が前記第1の温度範囲よりも温度が高い範囲である第2の温度範囲にある場合には、前記溶存オゾン濃度が検出下限値以下になるように、前記オゾン注入率を制御し、
前記被処理水の水温が前記第1の温度範囲よりも温度が低い範囲である第3の温度範囲にある場合には、紫外吸光度または蛍光強度の測定値に基づいてオゾン注入率を制御する
請求項1から3のいずれか1項に記載の水処理装置。 - 前記コントローラは、前記水温計により測定された0℃以上50℃未満の温度範囲の水温に関して、
前記第1の温度範囲を、10℃以上25℃未満とし、
前記第2の温度範囲を、25℃以上50℃未満とし、
前記第3の温度範囲を、0℃以上10℃未満として規定する
請求項4に記載の水処理装置。 - 前記第1の測定器の前段と前記第3の測定器の前段のそれぞれに、懸濁物質を除去するための懸濁物質除去器
をさらに備える請求項1から5のいずれか1項に記載の水処理装置。 - 前記第1の測定器の前段と前記第3の測定器の前段のそれぞれに、pH値を所望の値に調整するためのpH調整器
をさらに備える請求項1から6のいずれか1項に記載の水処理装置。 - 前記pH調整器は、前記所望の値を7.4〜7.8の範囲として、前記被処理水および前記処理水のpH値を調整する
請求項7に記載の水処理装置。 - 前記第3の測定器の前段に、前記処理水を曝気するための曝気機
をさらに備える請求項1から8のいずれか1項に記載の水処理装置。 - 前記第1の測定器と前記第3の測定器を、オゾンを含む水で洗浄する洗浄機構
をさらに備える請求項1から9のいずれか1項に記載の水処理装置。 - 被処理水を導入して収容する処理槽にオゾンガスを注入するオゾン注入設備と、
前記処理槽に導入される前記被処理水に関して、第1の波長の紫外吸光度を測定する第1の測定器と、
前記処理槽でオゾン処理された後の処理水に関して、前記第1の波長の紫外吸光度を測定する第3の測定器と、
前記第1の測定器および前記第3の測定器による測定結果に基づいて、前記オゾン注入設備によるオゾン注入率を制御するコントローラと、
前記被処理水を導入してオゾン処理を実施し、前記オゾン処理の結果に基づいてオゾン注入率の目標値をリアルタイムで算出する小型水処理装置と
を備え、
前記被処理水は、第1の波長の紫外吸光度と相関のある有機物を含有し、
前記第1の波長は、240nm以上270nm以下とし、
前記コントローラは、
前記第3の測定器の前記第1の波長の測定値を前記第1の測定器の第1の波長の測定値で除算することで、前記処理水の第1の波長の紫外吸光度の残存率測定値を算出し、
前記小型水処理装置で算出された前記オゾン注入率の目標値と、前記処理水の第1の波長の紫外吸光度の残存率測定値との差が最小となるように、前記オゾン注入率を制御する
水処理装置。 - 被処理水を導入して収容する処理槽にオゾンガスを注入するオゾン注入設備と、
前記処理槽に導入される前記被処理水に関して、第1の波長および第2の波長を含む2種類以上の波長の紫外吸光度を測定する第1の測定器と、
前記処理槽でオゾン処理された後の処理水に関して、前記第1の波長の紫外吸光度を測定する第3の測定器と、
前記第1の測定器および前記第3の測定器による測定結果に基づいて、前記オゾン注入設備によるオゾン注入率を制御するコントローラと
を備えた水処理装置を用いて、前記第1の波長の紫外吸光度と相関のある有機物およびフミン物質を含有する被処理水に適用される水処理方法であって、
前記第1の波長は、240nm以上270nm以下とし、前記第2の波長は、200nm以上230nm以下とし、
前記コントローラにおいて、
前記第1の測定器による前記第2の波長の測定値から、前記処理水の第1の波長の紫外吸光度の残存率推定値を算出して目標値として設定するステップと、
前記第3の測定器の前記第1の波長の測定値を前記第1の測定器の第1の波長の測定値で除算することで、前記処理水の第1の波長の紫外吸光度の残存率測定値を算出するステップと、
前記目標値として設定した前記第1の波長の紫外吸光度の残存率推定値と、前記処理水の第1の波長の紫外吸光度の残存率測定値との差が最小となるように、前記オゾン注入率を制御するステップと
を有する水処理方法。 - 被処理水を導入して収容する処理槽にオゾンガスを注入するオゾン注入設備と、
前記処理槽の入口に設けられた第1測定地点における前記被処理水に関して、第1の波長の紫外吸光度を測定する第1の測定器と、
前記処理槽内に設けられた第2測定地点における前記被処理水に関して、前記第1の波長の紫外吸光度を測定する第2の測定器と、
前記処理槽の出口に設けられた第3測定地点における前記処理槽でオゾン処理された後の処理水に関して、前記第1の波長の紫外吸光度を測定する第3の測定器と、
前記第1の測定器、前記第2の測定器、および前記第3の測定器による測定結果に基づいて、前記オゾン注入設備によるオゾン注入率を制御するコントローラと
を備えた水処理装置を用いて、前記第1の波長の紫外吸光度と相関のある有機物を含有する被処理水に適用される水処理方法であって、
前記第1の波長は、240nm以上270nm以下とし、
前記コントローラにおいて、
前記第1の測定器による測定値から、前記第1測定地点における前記被処理水の前記第1の波長の紫外吸光度の残存率を第1残存率として算出するステップと、
前記第2の測定器による測定値から、前記第2測定地点における前記被処理水の前記第1の波長の紫外吸光度の残存率を第2残存率として算出するステップと、
前記第3の測定器による測定値から、前記第3測定地点における前記処理水の前記第1の波長の紫外吸光度の残存率を第3残存率として算出するステップと、
前記第1残存率と前記第2残存率とから導かれる1次関数を作成するステップと、
前記第3残存率を従属変数とした場合の前記1次関数における独立変数を算出するステップと、
算出した前記独立変数に基づいて前記オゾン注入率を制御するステップと
を有する水処理方法。 - 被処理水を導入して収容する処理槽にオゾンガスを注入するオゾン注入設備と、
前記処理槽の入口に設けられた第1測定地点における前記被処理水に関して、第1の波長の蛍光強度を測定する第1の測定器と、
前記処理槽内に設けられた第2測定地点における前記被処理水に関して、前記第1の波長の蛍光強度を測定する第2の測定器と、
前記処理槽の出口に設けられた第3測定地点における前記処理槽でオゾン処理された後の処理水に関して、前記第1の波長の蛍光強度を測定する第3の測定器と、
前記第1の測定器、前記第2の測定器、および前記第3の測定器による測定結果に基づいて、前記オゾン注入設備によるオゾン注入率を制御するコントローラと
を備えた水処理装置を用いて、前記第1の波長の蛍光強度と相関のある有機物を含有する被処理水に適用される水処理方法であって、
前記第1の波長の励起光は、波長200nm以上370nm以下とし、前記第1の波長の蛍光は、波長400nm以上460nm以下とし、
前記コントローラにおいて、
前記第1の測定器による測定値から、前記第1測定地点における前記被処理水の前記第1の波長の蛍光強度の残存率を第1残存率として算出するステップと、
前記第2の測定器による測定値から、前記第2測定地点における前記被処理水の前記第1の波長の蛍光強度の残存率を第2残存率として算出するステップと、
前記第3の測定器による測定値から、前記第3測定地点における前記処理水の前記第1の波長の蛍光強度の残存率を第3残存率として算出するステップと、
前記第1残存率と前記第2残存率とから導かれる1次関数を作成するステップと、
前記第3残存率を従属変数とした場合の前記1次関数における独立変数を算出するステップと、
算出した前記独立変数に基づいて前記オゾン注入率を制御するステップと
を有する水処理方法。 - 被処理水を導入して収容する処理槽にオゾンガスを注入するオゾン注入設備と、
前記処理槽に導入される前記被処理水に関して、第1の波長の紫外吸光度を測定する第1の測定器と、
前記処理槽でオゾン処理された後の処理水に関して、前記第1の波長の紫外吸光度を測定する第3の測定器と、
前記第1の測定器および前記第3の測定器による測定結果に基づいて、前記オゾン注入設備によるオゾン注入率を制御するコントローラと、
前記被処理水を導入してオゾン処理を実施し、前記オゾン処理の結果に基づいてオゾン注入率の目標値をリアルタイムで算出する小型水処理装置と
を備えた水処理装置を用いて、前記第1の波長の紫外吸光度と相関のある有機物を含有する被処理水に適用される水処理方法であって、
前記第1の波長は、240nm以上270nm以下とし、
前記コントローラにおいて、
前記第3の測定器の前記第1の波長の測定値を前記第1の測定器の第1の波長の測定値で除算することで、前記処理水の第1の波長の紫外吸光度の残存率測定値を算出するステップと、
前記小型水処理装置で算出された前記オゾン注入率の目標値と、前記処理水の第1の波長の紫外吸光度の残存率測定値との差が最小となるように、前記オゾン注入率を制御するステップと
を有する水処理方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015017032 | 2015-01-30 | ||
JP2015017032 | 2015-01-30 | ||
PCT/JP2016/051714 WO2016121618A1 (ja) | 2015-01-30 | 2016-01-21 | 水処理装置および水処理方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP6095037B2 true JP6095037B2 (ja) | 2017-03-15 |
JPWO2016121618A1 JPWO2016121618A1 (ja) | 2017-04-27 |
Family
ID=56543232
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016544496A Active JP6095037B2 (ja) | 2015-01-30 | 2016-01-21 | 水処理装置および水処理方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20180265385A1 (ja) |
JP (1) | JP6095037B2 (ja) |
CN (1) | CN107207297B (ja) |
CA (1) | CA2975369C (ja) |
SG (1) | SG11201705488SA (ja) |
WO (1) | WO2016121618A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10656131B1 (en) * | 2018-08-22 | 2020-05-19 | United States Of America As Represented By The Administrator Of Nasa | Cavity enhanced absorption spectroscopy (CEAS) for ozone detection |
CN108996677A (zh) * | 2018-09-18 | 2018-12-14 | 许东俊 | 一种曝气参数可调的污水处理装置 |
JP6847908B2 (ja) * | 2018-12-11 | 2021-03-24 | 株式会社東芝 | 水処理システム、水処理システム用の制御装置及び水処理方法 |
JP7408371B2 (ja) * | 2019-12-13 | 2024-01-05 | 株式会社東芝 | 水処理システムおよび水処理方法 |
US20230350357A1 (en) * | 2022-04-29 | 2023-11-02 | Intellisite | Sanitization central computing device |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JP2008155151A (ja) * | 2006-12-25 | 2008-07-10 | Toshiba Corp | オゾン注入制御装置 |
JP2008207090A (ja) * | 2007-02-26 | 2008-09-11 | Mitsubishi Electric Corp | 水処理方法および水処理装置 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0556300U (ja) * | 1992-01-09 | 1993-07-27 | 株式会社明電舎 | オゾン発生器を利用した嫌気−好気活性汚泥処理装置 |
JP3184948B2 (ja) * | 1994-12-14 | 2001-07-09 | 株式会社日立製作所 | オゾン注入制御方法およびその装置 |
JP2005305328A (ja) * | 2004-04-22 | 2005-11-04 | Toshiba Corp | 水処理制御システム |
JP5142895B2 (ja) * | 2008-09-09 | 2013-02-13 | 株式会社日立製作所 | 液体処理装置 |
-
2016
- 2016-01-21 CA CA2975369A patent/CA2975369C/en not_active Expired - Fee Related
- 2016-01-21 SG SG11201705488SA patent/SG11201705488SA/en unknown
- 2016-01-21 CN CN201680007375.8A patent/CN107207297B/zh active Active
- 2016-01-21 JP JP2016544496A patent/JP6095037B2/ja active Active
- 2016-01-21 US US15/541,421 patent/US20180265385A1/en not_active Abandoned
- 2016-01-21 WO PCT/JP2016/051714 patent/WO2016121618A1/ja active Application Filing
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000061481A (ja) * | 1998-08-21 | 2000-02-29 | Meidensha Corp | オゾン注入制御方法 |
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JP2008207090A (ja) * | 2007-02-26 | 2008-09-11 | Mitsubishi Electric Corp | 水処理方法および水処理装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20180265385A1 (en) | 2018-09-20 |
CA2975369C (en) | 2020-08-25 |
SG11201705488SA (en) | 2017-08-30 |
CN107207297A (zh) | 2017-09-26 |
WO2016121618A1 (ja) | 2016-08-04 |
CA2975369A1 (en) | 2016-08-04 |
CN107207297B (zh) | 2021-03-16 |
JPWO2016121618A1 (ja) | 2017-04-27 |
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