JP2008510676A - 石英ガラスの被覆部材および前記部材の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】そのために、二酸化珪素粒子を含む非晶質スリップ層を製造して、基体表面に塗布し、乾燥され、さらにガラス化されたスリップ層を形成することにより二酸化珪素ガラス部材を製造する。このようにして被覆された二酸化珪素ガラス部材は、特に半導体生産において有利に使用される。
【選択図】 図1
Description
石英ガラス内での高い拡散速度のゆえに、水素は特に熱転移に適している。優れた伝熱性により、表面を支配する高温と二酸化珪素ガラス物質の内部つまり未だガラス化されていない乾燥した多孔性スリップ層を支配する低温との間に、できるかぎり平坦な温度勾配がもたらされる。ガラス化温度が低い場合でも、これにより外部から内部への溶融前面の進行が確保され、そのためスリップ層の内側部分もガラス化される。このために十分な水素含量は、少なくとも70%である。したがって、前記方法は特に数ミリメートルの範囲までの層厚を持つ完全に透明な二酸化珪素ガラス物質の生成に有利である。水素とは別に、ガラス化中の雰囲気は例えば窒素も、好ましくはヘリウムを含むことができる。
驚くべきことに、レーザによりガラス化された表面はバーナ炎によりガラス化された表面に比べて泡の少ないことが、判明している。これは、酸素や水素などの標準的なバーナガスは、石英ガラスに水または水酸基を生成および含有するが、「レーザガラス化」中には存在しない、あるいは少量しか存在しないという事実により、説明することができる。これにより、小粒子生成に加えて、前記部材のエッチング耐性の顕著な向上をもたらす。
二酸化珪素ガラス物質の特に大きな厚さを要する場合には、本発明に基づく方法の実施により層を数回連続して強化できる。この代案的方法は、例えば二酸化珪素ガラス物質が基体の部分的な肥厚として形成される時に、有利に使用される。
例えば、それは円筒形基体において係合片との接触時の装着または密閉用の包囲ビードとして使用できる、あるいはそれは所定の最終形状、例えば球面研磨部またはフランジが機械的に形成される棒状または管状の基体の末端肥厚として構成できる。
[1.石英ガラスの基体上へのスリップ層の調製 ]
[2.スリップ層のガラス化]
以後の冷却は炉の水素中で毎分15℃に制御された冷却速度により500℃の温度まで実施され、次に閉鎖炉中で自由冷却が行われる。
[3.スリップ鋳造により得られたグリーン体の調製および焼結]
31 二酸化珪素層
32 中心軸
40 半製品
41 石英ガラス管
42 肥厚部
Claims (19)
- 石英ガラスの基体(30、41)の表面をその光学的、物理的または化学的特性が前記基体(30、41)の石英ガラスとは異なる二酸化珪素ガラス物質(31、42)により少なくとも部分的に被覆することにより石英ガラスの被覆部材を製造する方法において、非晶質二酸化珪素粒子を含むスリップ層が製造され、スリップ層を形成して前記基体(30、41)表面に塗布され、前記スリップ層が乾燥され、次いで二酸化珪素ガラス物質(31、42)を形成してガラス化されることを特徴とする石英ガラスの被覆部材を製造する方法。
- 前記二酸化珪素粒子が500μm以下、好ましくは100μm以下の範囲の粒子サイズを有すること、また1μmから50μmの範囲の粒子サイズを持つ二酸化珪素粒子が最大の体積割合を占めることを特徴とする請求項1記載の方法。
- 前記二酸化珪素粒子が二酸化珪素出発粒状物を湿式粉砕することにより製造されることを特徴とする請求項1または2記載の方法。
- 前記乾燥されたスリップ層が1000℃から1600℃、好ましくは1100℃から1400℃までの範囲の温度に加熱されることによりガラス化されることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項記載の方法。
- 前記乾燥されたスリップ層が水素雰囲気中でガラス化されることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項記載の方法。
- 前記乾燥されたスリップ層がバーナ炎によりガラス化されることを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項記載の方法。
- 前記乾燥されたスリップ層がレーザによりガラス化されることを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項記載の方法。
- 前記二酸化珪素ガラス物質(31、42)が基体(30、41)の一部分の肥厚部として形成されることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項記載の方法。
- イットリウム、アルミニウム、窒素、炭素またはそれらの化合物の形状の不純物が前記スリップ層に添加されることを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項記載の方法。
- 二酸化珪素粒子および液体からスリップ層を調製し、前記スリップ層から型鋳造および乾燥により多孔性グリーン体を形成し、前記グリーン体を焼結により完全または部分的に緻密化することにより石英ガラス部材を製造する方法において、前記二酸化珪素粒状物子が非晶質であり、液中の二酸化珪素出発粒状物の湿式粉砕により調製されること、また型鋳造中に500μm以下の範囲の粒子サイズを有しており、1μmから50μmまでの範囲の粒子サイズを持つ二酸化珪素粒子が最大の体積割合を占めること、さらに前記グリーン体が水素含有雰囲気中での加熱により緻密化されることを特徴とする石英ガラス部材を製造する方法。
- 前記非晶質二酸化珪素粒子がスリップ鋳造中に50μm以下の範囲の粒子サイズを有することを特徴とする請求項16記載の方法。
- 焼結中の水素含量が少なくとも70重量%であることを特徴とする請求項16または17記載の方法。
- その光学的、物理的または化学的特性が基体(30、41)の石英ガラスとは異なる二酸化珪素ガラス物質により少なくとも部分的に被覆された表面を持つ石英ガラスの基体(30、41)からなる石英ガラス部材において、前記ガラス物質(31、42)が非晶質二酸化珪素粒子を含む乾燥したガラス化スリップ物質から調製されることを特徴とする石英ガラス部材。
- 前記二酸化珪素ガラス物質(31、42)が亀裂のない表面を持って、またツールを用いずに少なくとも0.5μmの平均表面粗さRaで形成されることを特徴とする請求項21記載の石英ガラス部材。
- 前記二酸化珪素ガラス物質(31、42)の表面が少なくとも1.0μmの平均表面粗さRaを持つことを特徴とする請求項22記載の石英ガラス部材。
- 前記二酸化珪素ガラス物質(31、42)が基体(30、41)に関して特定材料からなることを特徴とする請求項21〜23のいずれか1項記載の石英ガラス部材。
- 前記二酸化珪素ガラス物質(31、42)が不透明または少なくとも部分的に不透明であることを特徴とする請求項21〜25のいずれか1項記載の石英ガラス部材。
- 前記二酸化珪素ガラス物質(42)が基体(41)の肥厚部を有することを特徴とする請求項21〜26のいずれか1項記載の石英ガラス部材。
- 前記二酸化珪素ガラス物質がイットリウム、アルミニウム、窒素、炭素またはそれらの化合物の形状の不純物を含むことを特徴とする請求項21〜26のいずれか1項記載の石英ガラス部材。
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