JP2007261875A - 表面に粗面化層を形成した石英ガラス部材 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】合成シリカ粉2を粉砕して40μm以下の粒度とし、寒天、水を加えてスラリーを形成し、このスラリーを石英ガラス板1の表面に塗布してコーティング層3を形成した。30℃で乾燥させて水分を蒸発させ、乾燥後、脱脂及び焼結をおこなって合成シリカ粉2の突起が残った状態で石英ガラス板1に融着させて粗面化層4を形成した。酸水素火炎によって表面を焼き仕上げし、純度の高い粗面化層で被覆された石英ガラスを得た。
【選択図】図1
Description
また、石英ガラス治具自体の純度も、金属汚染回避のため、より高純度のものが要求されるようになっている。
エッチングによる表面の凹凸はディンプル状の形状で、ディンプルの外周部の山は鋭利な形状となっている。
サンドブラストとエッチング処理を組み合わせた表面処理においても、サンドブラスト後の洗浄が不完全であると、クラック内部から副生成物や石英微粉が発生し易く、また、エッチング中にフッ化水素水溶液内でのパーティクル再付着が発生する場合がある。
通常、半導体製造用治具の石英ガラスは、天然水晶を溶解したものが使用されるが、原料である水晶由来の不純物を含有しており、より高純度のガラスとしては四塩化珪素を原料にする合成石英ガラスがあるが高価であり、合成石英ガラスを半導体製造用治具として使用することは現実的でなかった。
そこで、本発明は、表面処理によって新たなパーティクル発生の恐れのない方法で表面処理すると共に、石英ガラスからの金属等の不純物が放出されない表面処理された石英ガラス部材を提供するものである。
更に、突起が形成された石英ガラス表面を酸水素炎で焼き仕上げをして仕上げたものである。
また、酸水素炎のバーナーに、石英粉末を供給して酸水素炎内に噴出させ、石英ガラス表面の溶解と石英粉末の表面への溶着を同時におこなって表面に10μm〜100μmの凸凹状の突起を形成するものである。
石英粉末を粒径10μm〜100μmの高純度の合成シリカ粉を使用し、表面を高純度の石英ガラス層とすることによって、不純物が半導体に混入することを防止するものである。
塗布回数を複数回とすることで塗布層の厚さを調整すると共に、重ね塗りにより突起層となる石英粒子を密集させ塗布ムラを防ぐと共に均一で強固な塗布層を形成できる。
このため1回目の塗布時はこのより微細な石英粒子の含む割合を高くして、石英粉末スラリーの石英ガラス表面への粘着性をより高くして塗布層を形成した後、2回目以降は順次粒径の大きい石英粉末の割合を大きくして任意の粗さをもった凹凸層としていくことがより強固な接着性の高い粗面化層を得る上で好ましい。
乾燥後、石英ガラスと粗面化層との接着強度を向上させるため、焼結をおこなう。この際、バインダーの脱脂工程も兼ねるものであり、脱脂温度は400〜600℃であり、焼結温度は1100〜1200℃でおこなう。
なお、乾燥後の焼結工程は、石英ガラス粉末の付着状態が強固な場合には省略して、直接焼き仕上げをおこなってもよい。
また、本発明は、既に焼結等によってガラス化された石英ガラス表面に石英粉末スラリーを塗布するだけではなく、石英ガラスを製造する工程において、石英原料を使用する石英ガラス容器または治具の形状となるような任意形状の型中に鋳込成形し、粉末成型体を作成した時点で該石英粉末スラリーを塗布することで、その後の焼成工程で粉末成型体が石英ガラス容器または石英ガラス治具として焼成されると共に、表面に塗布した突起層が同時に焼成されて強固に石英ガラス表面に形成されるようにしたものである。
すなわち、本発明は、石英粉末成型体の焼成前に石英粉末スラリーを塗布し、成型体の焼成と共に突起層を石英ガラス表面に同時に形成するものである。
一体的に焼成されるので接合強度も強く、また、成型体の原料粉末が塗布材料と同じく珪素を含有するものであるので、二酸化珪素が仲介層となって石英ガラスと石英突起層との付着強度が増大する。
シリカ(SiO2)粉末、バインダー、及び水をオムニミキサーで混合して流動性スラリーとし、ステンレス製の鋳型に振動をかけながら流し込む。鋳型の空洞をスラリーで満たした後、鋳型に蓋をし、スラリーで満たした鋳型を電気炉内に設置し、90℃で3時間加熱する。
加熱後、冷却したものを30℃、湿度70%の恒温恒湿度条件で24時間保持後、鋳型の中子部分を取り除き、更に30℃、湿度70%の調湿乾燥機で5日間乾燥させる。こうしてシリカ粉末からなる400mm×400mm×400mm、厚さ15mmの角型形状の粉末成型体容器を作製する。
この方法によれば、成型体の表面に石英粉末スラリーを塗布してから焼成するものであり、原料の石英粉末スラリーを鋳型に流し込んで保持容器を成型・乾燥し、この容器成型体表面に突起層となる石英粉末スラリーをエアーブラシで内面に均一に塗布して乾燥させた後、焼成炉内で焼成して表面に粗面化層が形成された石英ガラスが得られるので、粗面化層の機械的強度及び焼結性の高いものが得られ、二段階の焼成工程が一段階ともなるので、生産性も向上するものである。
石英粉末として粒径10μm〜100μmの高純度の合成シリカ粉を使用することによって、石英ガラス表面に高純度の石英ガラスからなる粗面化層が形成されるので、低コストで金属などの不純物が半導体に混入することを防止することができるのである。
石英粉末として市販の平均粒径80μm〜110μmの合成シリカ粉の粉砕をおこない、粒径10μm〜40μmの粒度に調整した。この合成シリカ粉の重量に対して寒天を0.2%、水を10%の比率で加えて合成シリカ粉のスラリーを得た。
寒天濃度は、水分濃度との兼ね合いもあるが、濃度を上げるとスラリーの粘性が増し、粗面化層のムラが発生するので0.1〜1重量%とするのが好ましい。
図1に示すように、石英ガラス板1の表面に刷毛でスラリーを塗布してコーティング層3を形成した後、湿度70%、温度30℃の環境で6時間乾燥して水分を蒸発させてコーティング層3を乾燥させた。
乾燥後、図2に示す温度プログラムで脱脂と焼結をおこなった。焼結により、石英ガラス板1に合成シリカ粉2が融着し、強固に接着した粗面化層4が形成された。この粗面化層4を酸水素炎によって焼き仕上げした。酸水素火炎の噴流によっても石英ガラス板1の表面に付着した状態の合成シリカ粉2が剥離することなく焼き仕上げがなされた。
この後、石英ガラス表面に形成された粗面化層を酸水素炎で焼いて表面仕上げをおこない、合成シリカ粉の溶着を更に強固にする。
石英ガラス板1と粗面化層4における金属不純物の含有量を測定したところ、表1に示すように、粗面化層4の金属不純物は、石英ガラス板1のそれに比較して格段に純度が高く、表面が高純度の石英ガラス層で被覆された石英ガラスが得られた。
実施例1と同様の平均粒径80μm〜110μmの合成シリカ粉の粉砕をおこない、10μm〜60μm以下の粒度に調整した。
図3に示す石英ガラスバーナー5から酸水素火炎を噴出させながら、合成シリカ粉2をバーナー5に供給し、バーナー5を石英ガラス板1の表面に向けて酸水素炎を噴出しながら石英ガラス板1の表面に対して平行に移動させた。
石英ガラスバーナー5は、石英ガラス製の二重管のバーナーであり、内管が径1.3mmφで、酸素及び合成シリカ粉を供給するものであり、この内管にギャップ1mmをあけて外径7.3mmφの外管が配置されており、水素流路となっている。1.3mmφの内管に合成シリカ粉を入れ、酸素をキャリアガスとして酸素流量3リットル/分、水素流量6リットル/分として酸水素火炎流を生成し、バーナー5と石英ガラス板1の間の距離を30mmに設定した。
また、汚染源となる不純物をほとんど含まない高純度の石英ガラス製のバーナーを使用し、クリーンな酸水素ガスを用いることで、石英ガラス上に溶着した突起層は非常に純度の高い凹凸層として形成されることとなる。
合成シリカ粉2は、突起の状態を残して石英ガラス板1の表面に融着し、粗面化層4が形成された。
2 石英粉末(合成シリカ粉)
3 コーティング層
4 粗面化層
5 バーナー
Claims (5)
- 粒径10μm〜100μmの石英粉末とバインダーの水スラリーを石英ガラス表面にコーティングし、乾燥・焼結によって表面に凹凸状の粗面化層を形成した石英ガラス部材。
- 請求項1において、コーティングの回数が複数回である粗面化層を形成した石英ガラス部材。
- 請求項1または2において、乾燥・焼結後にガラス表面を酸水素炎で焼き仕上げをした粗面化層を形成した石英ガラス部材。
- 酸水素炎のバーナーに、粒径10μm〜100μmの石英粉末を供給して酸水素炎内に噴出させ、石英ガラス表面の溶解と石英粉末の表面への溶着を同時におこなって表面に凹凸状の粗面化層を形成した石英ガラス部材。
- 請求項1〜4のいずれかにおいて、石英粉末が合成シリカ粉である石英ガラス部材。
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