JP2008300451A - 搬送装置並びに液処理装置及び同液処理装置における被処理体の搬送方法 - Google Patents
搬送装置並びに液処理装置及び同液処理装置における被処理体の搬送方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】本発明では、被処理体(ウエハ2)に対して所定の処理を行う第1の処理室(たとえば、第1の洗浄室12)と第2の処理室(たとえば、第2の洗浄室13)との間で被処理体(ウエハ2)を搬送する搬送装置(搬送手段15)において、被処理体(ウエハ2)の表面に液体(36)を供給する液体供給口(34)と、前記液体供給口(34)から供給された液体(36)によって被処理体(ウエハ2)の表面を被覆した状態に保持するために被処理体(ウエハ2)の周縁上方に配置した液体保持具(33)とを有し、液体(36)で被処理体(ウエハ2)の表面を被覆した状態で被処理体(ウエハ2)を搬送することにした。
【選択図】図2
Description
3 キャリア 4 キャリア載置部
5 ウエハ搬入出部 6 ウエハ処理部
7,8 開閉扉 9 ウエハ処理室
10 制御室 11 処理液室
12 第1の洗浄室 13 第2の洗浄室
14 乾燥室 15 搬送手段
16,17 開閉扉 18,19 ケーシング
20,21 チャンバー 22,23 ノズル
24,25 昇降回転機構 26 開閉扉
27 ケーシング 28 チャンバー
29 昇降回転機構 30 移動機構
31 ウエハ保持具 32 保持体
33 液体保持具 34 液体供給口
35 連通パイプ 36 液体
37 搬出手段 38 移動機構
39 ウエハ保持具
Claims (9)
- 被処理体に対して所定の処理を行う第1の処理室と第2の処理室との間で被処理体を搬送する搬送装置において、
被処理体の表面に液体を供給する液体供給口と、前記液体供給口から供給された液体によって被処理体の表面を被覆した状態に保持するために被処理体の周縁上方に配置した液体保持具とを有することを特徴とする搬送装置。 - 前記液体供給口は、前記液体保持具に形成したことを特徴とする請求項1に記載の搬送装置。
- 前記液体供給口は、前記液体保持具に等間隔で複数個形成したことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の搬送装置。
- 前記液体保持具は、前記被処理体の表面との間に間隙を形成するとともに、前記液体の表面張力を用いて前記液体を前記被処理体の表面で保持することを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれかに記載の搬送装置。
- 被処理体に対して液処理を行う第1及び第2の液処理室と、これら第1の液処理室と第2の液処理室との間で被処理体を搬送する搬送手段とを有する液処理装置において、
搬送手段は、被処理体の表面に液体を供給する液体供給口と、前記液体供給口から供給された液体によって被処理体の表面を被覆した状態に保持するために被処理体の周縁上方に配置した液体保持具とを有することを特徴とする液処理装置。 - 前記液体供給口は、前記液体保持具に形成したことを特徴とする請求項5に記載の液処理装置。
- 前記液体保持具は、前記被処理体の表面との間に間隙を形成するとともに、前記液体の表面張力を用いて前記液体を前記被処理体の表面で保持することを特徴とする請求項5又は請求項6に記載の液処理装置。
- 被処理体に対して液処理を行う第1の液処理室と第2の液処理室との間で被処理体を搬送する液処理装置における被処理体の搬送方法において、
液体供給口から被処理体の表面に液体を供給するとともに、被処理体の周縁上方に配置した液体保持具によって前記液体で被処理体の表面を被覆した状態に保持し、その後、前記液体で被処理体の表面を被覆した状態で被処理体を搬送することを特徴とする液処理装置における被処理体の搬送方法。 - 前記第1の液処理室内で被処理体を処理液で処理した後に、同第1の液処理室内で前記液体供給口から被処理体の表面に液体を供給して、前記液体保持具によって前記液体で被処理体の表面を被覆した状態に保持することを特徴とする請求項8に記載の液処理装置における被処理体の搬送方法。
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---|---|---|---|---|
JP2011155131A (ja) * | 2010-01-27 | 2011-08-11 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウエーハ搬送機構 |
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