JP2008292761A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL2007439A (en) 2010-10-19 2012-04-23 Asml Netherlands Bv Gas manifold, module for a lithographic apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method.
JP6041541B2 (ja) * 2012-06-04 2016-12-07 キヤノン株式会社 露光装置及びデバイス製造方法
JP2014157892A (ja) * 2013-02-15 2014-08-28 Canon Inc 露光装置、それを用いたデバイスの製造方法
JP6463087B2 (ja) * 2014-11-14 2019-01-30 キヤノン株式会社 露光装置、および物品の製造方法
JP7427461B2 (ja) * 2020-02-06 2024-02-05 キヤノン株式会社 露光装置、及び物品の製造方法

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06120113A (ja) * 1992-10-08 1994-04-28 Sharp Corp 投影露光装置
JP3348467B2 (ja) * 1993-06-30 2002-11-20 株式会社ニコン 露光装置及び方法
JPH0845827A (ja) * 1994-07-28 1996-02-16 Canon Inc 投影露光装置及びそれを用いた半導体デバイスの製造方法
JPH0845824A (ja) * 1994-08-03 1996-02-16 Toshiba Corp 露光装置
JPH09270384A (ja) * 1996-03-29 1997-10-14 Nikon Corp 温度制御装置及び露光装置
JP2000306807A (ja) * 1999-04-20 2000-11-02 Nikon Corp 露光装置、露光方法、及び半導体デバイスの製造方法
JP3531914B2 (ja) * 2000-04-14 2004-05-31 キヤノン株式会社 光学装置、露光装置及びデバイス製造方法
JP4262031B2 (ja) * 2003-08-19 2009-05-13 キヤノン株式会社 露光装置及びデバイスの製造方法
JP2004080059A (ja) * 2003-11-26 2004-03-11 Oki Electric Ind Co Ltd 投影露光装置及び投影露光方法
JP2005203522A (ja) * 2004-01-14 2005-07-28 Nikon Corp 露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法
US7446849B2 (en) * 2004-07-22 2008-11-04 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
JP2006147778A (ja) * 2004-11-18 2006-06-08 Nikon Corp 露光装置及びマイクロデバイスの製造方法
JP2007027632A (ja) * 2005-07-21 2007-02-01 Nikon Corp 光学装置及び露光装置、並びにデバイス製造方法

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