JP2008292761A - 露光装置及びデバイス製造方法 - Google Patents

露光装置及びデバイス製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2008292761A
JP2008292761A JP2007138196A JP2007138196A JP2008292761A JP 2008292761 A JP2008292761 A JP 2008292761A JP 2007138196 A JP2007138196 A JP 2007138196A JP 2007138196 A JP2007138196 A JP 2007138196A JP 2008292761 A JP2008292761 A JP 2008292761A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
exposure
exposure apparatus
chamber
gas
discharge
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2007138196A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2008292761A5 (enExample
Inventor
Kyoichi Miyazaki
恭一 宮▲崎▼
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP2007138196A priority Critical patent/JP2008292761A/ja
Publication of JP2008292761A publication Critical patent/JP2008292761A/ja
Publication of JP2008292761A5 publication Critical patent/JP2008292761A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
JP2007138196A 2007-05-24 2007-05-24 露光装置及びデバイス製造方法 Pending JP2008292761A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007138196A JP2008292761A (ja) 2007-05-24 2007-05-24 露光装置及びデバイス製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007138196A JP2008292761A (ja) 2007-05-24 2007-05-24 露光装置及びデバイス製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2008292761A true JP2008292761A (ja) 2008-12-04
JP2008292761A5 JP2008292761A5 (enExample) 2010-07-01

Family

ID=40167525

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007138196A Pending JP2008292761A (ja) 2007-05-24 2007-05-24 露光装置及びデバイス製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2008292761A (enExample)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102455605A (zh) * 2010-10-19 2012-05-16 Asml荷兰有限公司 气体歧管、用于光刻设备的模块、光刻设备和器件制造方法
JP2013250541A (ja) * 2012-06-04 2013-12-12 Canon Inc 露光装置及びデバイス製造方法
JP2014157892A (ja) * 2013-02-15 2014-08-28 Canon Inc 露光装置、それを用いたデバイスの製造方法
JP2016095412A (ja) * 2014-11-14 2016-05-26 キヤノン株式会社 露光装置、および物品の製造方法
KR20210100528A (ko) * 2020-02-06 2021-08-17 캐논 가부시끼가이샤 광학장치, 노광장치, 및 물품의 제조방법

Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06120113A (ja) * 1992-10-08 1994-04-28 Sharp Corp 投影露光装置
JPH0757986A (ja) * 1993-06-30 1995-03-03 Nikon Corp 露光装置
JPH0845824A (ja) * 1994-08-03 1996-02-16 Toshiba Corp 露光装置
JPH0845827A (ja) * 1994-07-28 1996-02-16 Canon Inc 投影露光装置及びそれを用いた半導体デバイスの製造方法
JPH09270384A (ja) * 1996-03-29 1997-10-14 Nikon Corp 温度制御装置及び露光装置
JP2000306807A (ja) * 1999-04-20 2000-11-02 Nikon Corp 露光装置、露光方法、及び半導体デバイスの製造方法
JP2001297972A (ja) * 2000-04-14 2001-10-26 Canon Inc 光学装置および光学装置の汚染防止方法
JP2004080059A (ja) * 2003-11-26 2004-03-11 Oki Electric Ind Co Ltd 投影露光装置及び投影露光方法
JP2005064391A (ja) * 2003-08-19 2005-03-10 Canon Inc 光学部材の冷却方法、冷却装置、露光装置、及び、デバイスの製造方法
JP2005203522A (ja) * 2004-01-14 2005-07-28 Nikon Corp 露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法
JP2006041522A (ja) * 2004-07-22 2006-02-09 Asml Netherlands Bv リソグラフィ装置および装置製造方法
JP2006147778A (ja) * 2004-11-18 2006-06-08 Nikon Corp 露光装置及びマイクロデバイスの製造方法
JP2007027632A (ja) * 2005-07-21 2007-02-01 Nikon Corp 光学装置及び露光装置、並びにデバイス製造方法

Patent Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06120113A (ja) * 1992-10-08 1994-04-28 Sharp Corp 投影露光装置
JPH0757986A (ja) * 1993-06-30 1995-03-03 Nikon Corp 露光装置
JPH0845827A (ja) * 1994-07-28 1996-02-16 Canon Inc 投影露光装置及びそれを用いた半導体デバイスの製造方法
JPH0845824A (ja) * 1994-08-03 1996-02-16 Toshiba Corp 露光装置
JPH09270384A (ja) * 1996-03-29 1997-10-14 Nikon Corp 温度制御装置及び露光装置
JP2000306807A (ja) * 1999-04-20 2000-11-02 Nikon Corp 露光装置、露光方法、及び半導体デバイスの製造方法
JP2001297972A (ja) * 2000-04-14 2001-10-26 Canon Inc 光学装置および光学装置の汚染防止方法
JP2005064391A (ja) * 2003-08-19 2005-03-10 Canon Inc 光学部材の冷却方法、冷却装置、露光装置、及び、デバイスの製造方法
JP2004080059A (ja) * 2003-11-26 2004-03-11 Oki Electric Ind Co Ltd 投影露光装置及び投影露光方法
JP2005203522A (ja) * 2004-01-14 2005-07-28 Nikon Corp 露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法
JP2006041522A (ja) * 2004-07-22 2006-02-09 Asml Netherlands Bv リソグラフィ装置および装置製造方法
JP2006147778A (ja) * 2004-11-18 2006-06-08 Nikon Corp 露光装置及びマイクロデバイスの製造方法
JP2007027632A (ja) * 2005-07-21 2007-02-01 Nikon Corp 光学装置及び露光装置、並びにデバイス製造方法

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102455605A (zh) * 2010-10-19 2012-05-16 Asml荷兰有限公司 气体歧管、用于光刻设备的模块、光刻设备和器件制造方法
US8675169B2 (en) 2010-10-19 2014-03-18 Asml Netherlands B.V. Gas manifold, module for a lithographic apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method
JP2013250541A (ja) * 2012-06-04 2013-12-12 Canon Inc 露光装置及びデバイス製造方法
JP2014157892A (ja) * 2013-02-15 2014-08-28 Canon Inc 露光装置、それを用いたデバイスの製造方法
JP2016095412A (ja) * 2014-11-14 2016-05-26 キヤノン株式会社 露光装置、および物品の製造方法
KR20210100528A (ko) * 2020-02-06 2021-08-17 캐논 가부시끼가이샤 광학장치, 노광장치, 및 물품의 제조방법
JP2021124634A (ja) * 2020-02-06 2021-08-30 キヤノン株式会社 光学装置、露光装置、及び物品の製造方法
JP7427461B2 (ja) 2020-02-06 2024-02-05 キヤノン株式会社 露光装置、及び物品の製造方法
KR102818067B1 (ko) 2020-02-06 2025-06-11 캐논 가부시끼가이샤 광학장치, 노광장치, 및 물품의 제조방법

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN100446179C (zh) 曝光设备和器件制造法
JP2004343116A (ja) リソグラフィ装置、デバイス製造方法、およびそれにより製造されたデバイス
JPH0845827A (ja) 投影露光装置及びそれを用いた半導体デバイスの製造方法
US7804578B2 (en) Exposure apparatus and device manufacturing method
JP2018091919A (ja) 露光装置及び物品の製造方法
JP2008292761A (ja) 露光装置及びデバイス製造方法
US7319505B2 (en) Exposure apparatus and device fabrication method
US7292307B2 (en) Cooling apparatus, optical element having the same, and exposure apparatus
JP4965829B2 (ja) 真空用露光装置
TWI490540B (zh) An optical system, an exposure apparatus, and a manufacturing apparatus
JP5517847B2 (ja) 露光装置、及びそれを用いたデバイスの製造方法
JP7524339B2 (ja) 導管システム、放射源、リソグラフィ装置、及びそれらの方法
JP4393227B2 (ja) 露光装置、デバイスの製造方法、露光装置の製造方法
JP2009043810A (ja) 露光装置
JP5518015B2 (ja) ロードロック装置、露光装置、および、デバイス製造方法
JP7427461B2 (ja) 露光装置、及び物品の製造方法
JP2002124451A (ja) 温度制御方法、温調チャンバ及び露光装置
JP7659683B2 (ja) 露光装置、および物品の製造方法
JP6335480B2 (ja) 露光装置、およびデバイスの製造方法
JP2010021549A (ja) ステージ装置、露光装置、及びデバイス製造方法
JP2008226888A (ja) 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
JP2001023890A (ja) 露光装置およびこれを用いたデバイス製造方法
JPH11312633A (ja) ガス温度調整装置および露光装置
WO2024260740A2 (en) Reticle conditioning for lithography applications
JP2021124634A5 (enExample)

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100519

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20100519

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120622

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20121106