JP2008279428A - 排気ガス浄化用触媒及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】触媒粉末11は、貴金属12と、第1の化合物13と、第2の化合物14とからなる。触媒粉末11の貴金属12が第1の化合物13に担持され、この貴金属12を担持した第1の化合物13同士が、第2の化合物14により隔てられた構造である。このような触媒粉末11を含む少なくとも1層の触媒層が、担体の内面上に形成されている。触媒層は細孔を有し、かつ、細孔径が1μm以下の細孔のうち、細孔径が0.1μm〜1μmの範囲の細孔の細孔容積が10%〜60%である。
【選択図】図2
Description
2(b)で示される触媒粉末が具備するミクロ的な細孔P1であると考えられる。また、細孔径が0.1〜1μmの範囲の細孔容積のピークは、図2(b)で示される触媒粉末間の空隙としての細孔P2であると考えられる。本発明では、細孔径が0.1μm〜1μmの範囲の細孔の細孔容積が、10%〜60%であることにより、触媒粉末間の空隙としての細孔P2が十分に確保されている。これによって、排気ガスが触媒層内で拡散する経路(パス)が十分に確保されることから、ガス拡散性を向上させることができる。なお、図3に破線で示した従来例は、細孔径が0.1μm以下の範囲のみに単一の細孔容積のピークを有している。つまり、従来例は細孔径が0.1μm〜1μmの範囲には細孔容積のピークを有していない。このような従来例は、細孔径が0.1μm〜1μmの範囲の細孔の細孔容積が10%未満であり、触媒層は緻密であるために排気ガスが触媒層内で拡散し難かった。
第1の化合物として平均粒径30nmのセリウムジルコニウム複合酸化物粒子を使用した。この粒子にジニトロジアミンPtを含浸して、Ptを0.85%担持したセリウムジルコニウム複合酸化物粒子とした(これをセリウムジルコニウム複合酸化物粒子Aとする)。
第1の化合物として平均粒径30nmのセリウムジルコニウム複合酸化物粒子を使用した。この粒子にジニトロジアミンPtを含浸して、Ptを0.85%担持したセリウムジルコニウム複合酸化物粒子とした(これをセリウムジルコニウム複合酸化物粒子Aとする)。
第1の化合物として平均粒径30nmのセリウムジルコニウム複合酸化物粒子を使用した。この粒子にジニトロジアミンPtを含浸して、Ptを0.85%担持したセリウムジルコニウム複合酸化物粒子とした(これをセリウムジルコニウム複合酸化物粒子Aとする)。
第1の化合物として平均粒径30nmのセリウムジルコニウム複合酸化物粒子を使用した。この粒子にジニトロジアミンPtを含浸して、Ptを0.85%担持したセリウムジルコニウム複合酸化物粒子とした(これをセリウムジルコニウム複合酸化物粒子Aとする)。
第1の化合物として平均粒径30nmのセリウムジルコニウム複合酸化物粒子を使用した。この粒子にジニトロジアミンPtを含浸して、Ptを0.85%担持したセリウムジルコニウム複合酸化物粒子とした(これをセリウムジルコニウム複合酸化物粒子Aとする)。
第1の化合物として平均粒径30nmのセリウムジルコニウム複合酸化物粒子を使用した。この粒子にジニトロジアミンPtを含浸して、Ptを0.85%担持したセリウムジルコニウム複合酸化物粒子とした(これをセリウムジルコニウム複合酸化物粒子Aとする)。
第1の化合物として平均粒径30nmのセリウムジルコニウム複合酸化物粒子を使用した。この粒子にジニトロジアミンPdを含浸して、Pdを0.85%担持したセリウムジルコニウム複合酸化物粒子とした(これをセリウムジルコニウム複合酸化物粒子A2とする)。
第1の化合物として平均粒径30nmのセリウムジルコニウム複合酸化物粒子を使用した。この粒子にジニトロジアミンPdを含浸して、Pdを0.85%担持したセリウムジルコニウム複合酸化物粒子とした(これをセリウムジルコニウム複合酸化物粒子A2とする)。
第1の化合物として平均粒径30nmのセリウムジルコニウム複合酸化物粒子を使用した。この粒子にジニトロジアミンPtを含浸して、Ptを0.85%担持したセリウムジルコニウム複合酸化物粒子とした(これをセリウムジルコニウム複合酸化物粒子Aとする)。
第1の化合物として平均粒径30nmのセリウムジルコニウム複合酸化物粒子を使用した。このセリアジルコニウム粒子にジニトロジアミンPtを含浸して、Ptを0.85%担持したセリウムジルコニウム複合酸化物粒子とした(これをセリウムジルコニウム複合酸化物粒子Aとする)。
第1の化合物として平均粒径30nmのセリウムジルコニウム複合酸化物粒子を使用した。このセリウムジルコニウム複合酸化物粒子にジニトロジアミンPtを含浸して、Ptを0.85%担持したセリウムジルコニウム複合酸化物粒子とした(これをセリウムジルコニウム複合酸化物粒子Aとする)。
第1の化合物として平均粒径30nmのセリウムジルコニウム複合酸化物粒子を使用した。このセリウムジルコニウム複合酸化物粒子にジニトロジアミンPtを含浸して、Ptを0.85%担持したセリウムジルコニウム複合酸化物粒子とした(これをセリウムジルコニウム複合酸化物粒子Aとする)。
第1の化合物として平均粒径30nmのセリウムジルコニウム複合酸化物粒子を使用した。このセリウムジルコニウム複合酸化物粒子にジニトロジアミンPdを含浸して、Pdを0.85%担持したセリウムジルコニウム複合酸化物粒子とした(これをセリウムジルコニウム複合酸化物粒子A2とする)。
第1の化合物として平均粒径30nmのセリウムジルコニウム複合酸化物粒子を使用した。この粒子にジニトロジアミンPdを含浸して、Pdを0.85%担持したセリウムジルコニウム複合酸化物粒子とした(これを粒子A2とする)。
第1の化合物としてセリウム70%、ジルコニウム30%のセリウムジルコニウム複合酸化物粒子を使用した。この粒子にジニトロジアミンPtを含浸して、Ptを0.85%担持したセリウムジルコニウム複合酸化物粒子とした(これを粒子A3とする)。
第1の化合物としてセリウム78%、ジルコニウム22%のセリウムジルコニウム複合酸化物粒子を使用した。この粒子にジニトロジアミンPtを含浸して、Ptを0.85%担持したセリウムジルコニウム複合酸化物粒子とした(これを粒子A4とする)。
第1の化合物としてセリウム85%、ジルコニウム15%のセリウムジルコニウム複合酸化物粒子を使用した。この粒子にジニトロジアミンPtを含浸して、Ptを0.85%担持したセリウムジルコニウム複合酸化物粒子とした(これを粒子A5とする)。
第1の化合物として平均粒径30nmのセリウムジルコニウム複合酸化物粒子を使用した。この粒子にジニトロジアミンPtを含浸して、Ptを0.85%担持したセリウムジルコニウム複合酸化物粒子とした(これをセリウムジルコニウム複合酸化物粒子Aとする)。
第1の化合物として平均粒径30nmのセリウムジルコニウム複合酸化物粒子を使用した。この粒子にジニトロジアミンPtを含浸して、Ptを0.85%担持したセリウムジルコニウム複合酸化物粒子とした(これをセリウムジルコニウム複合酸化物粒子Aとする)。
第1の化合物として平均粒径30nmのセリウムジルコニウム複合酸化物粒子を使用した。この粒子にジニトロジアミンPtを含浸して、Ptを0.85%担持したセリウムジルコニウム複合酸化物粒子とした(これをセリウムジルコニウム複合酸化物粒子Aとする)。
第1の化合物として平均粒径30nmのセリウムジルコニウム複合酸化物粒子を使用した。この粒子にジニトロジアミンPtを含浸して、Ptを0.85%担持したセリウムジルコニウム複合酸化物粒子とした(これをセリウムジルコニウム複合酸化物粒子Aとする)。
第1の化合物として平均粒径30nmのセリウムジルコニウム複合酸化物粒子を使用した。この粒子にジニトロジアミンPtを含浸して、Ptを0.85%担持したセリウムジルコニウム複合酸化物粒子とした(これをセリウムジルコニウム複合酸化物粒子Aとする)。
第1の化合物として平均粒径30nmのセリウムジルコニウム複合酸化物粒子を使用した。この粒子にジニトロジアミンPtを含浸して、Ptを0.85%担持したセリウムジルコニウム複合酸化物粒子とした(これをセリウムジルコニウム複合酸化物粒子Aとする)。
γアルミナ粉末180gとベーマイトアルミナ20gをボールミルに加えた後、水282.5gと10%硝酸17.5gとを加え、粉砕し、平均粒径3μmのスラリとした(スラリーc-1)。
βゼオライト180gと、シリカゾル(SiO2:15%)288g、及び水32gをボールミルに加えた後粉砕し、平均粒径3μmのスラリとした(スラリーd-1)。
γアルミナ粉末180gとベーマイトアルミナ20gをボールミルに加えた後、水282.5gと10%硝酸17.5gとを加え、粉砕し、平均粒径3μmのスラリとした(スラリーc-1)。
βゼオライト180gと、シリカゾル(SiO2:15%)288g、及び水32gをボールミルに加えた後粉砕し、平均粒径3μmのスラリとした(スラリーd-1)。
γアルミナ粉末180gとベーマイトアルミナ20gをボールミルに加えた後、水282.5gと10%硝酸17.5gとを加え、粉砕し、平均粒径3μmのスラリとした(スラリーc-1)。
βゼオライト180gと、シリカゾル(SiO2:15%)288g、及び水32gをボールミルに加えた後粉砕し、平均粒径3μmのスラリとした(スラリーd-1)。
γアルミナ粉末180gとベーマイトアルミナ20gをボールミルに加えた後、水282.5gと10%硝酸17.5gとを加え、粉砕し、平均粒径3μmのスラリとした(スラリーc-1)。
βゼオライト180gと、シリカゾル(SiO2:15%)288g、及び水32gをボールミルに加えた後粉砕し、平均粒径3μmのスラリとした(スラリーd-1)。
γアルミナ粉末180gとベーマイトアルミナ20gをボールミルに加えた後、水282.5gと10%硝酸17.5gとを加え、粉砕し、平均粒径3μmのスラリとした(スラリーc-1)。
γアルミナ粉末180gとベーマイトアルミナ20gをボールミルに加えた後、水282.5gと10%硝酸17.5gとを加え、粉砕し、平均粒径3μmのスラリとした(スラリーc-1)。
γアルミナ粉末180gとベーマイトアルミナ20gをボールミルに加えた後、水282.5gと10%硝酸17.5gとを加え、粉砕し、平均粒径3μmのスラリとした(スラリーc-1)。
γアルミナ粉末180gとベーマイトアルミナ20gをボールミルに加えた後、水282.5gと10%硝酸17.5gとを加え、粉砕し、平均粒径3μmのスラリとした(スラリーc-1)。
βゼオライト180gと、シリカゾル(SiO2:15%)288g、及び水32gをボールミルに加えた後粉砕し、平均粒径3μmのスラリとした(スラリーd-1)。
βゼオライト180gと、シリカゾル(SiO2:15%)288g、及び水32gをボールミルに加えた後粉砕し、平均粒径3μmのスラリとした(スラリーd-1)
第1の化合物としてセリウム78%、ジルコニウム22%のセリウムジルコニウム複合酸化物粒子を使用した。この粒子にジニトロジアミンPdを含浸して、Pdを0.85%担持したセリウムジルコニウム複合酸化物粒子とした(これを粒子A8とする)。
第1の化合物として平均粒径30nmのセリウムジルコニウム複合酸化物粒子を使用した。このセリウムジルコニウム複合酸化物粒子にジニトロジアミンPtを含浸して、Ptを0.85%担持したセリウムジルコニウム複合酸化物粒子とした(これをセリウムジルコニウム複合酸化物粒子Aとする)。
第1の化合物として平均粒径30nmのセリウムジルコニウム複合酸化物粒子を使用した。このセリウムジルコニウム複合酸化物粒子にジニトロジアミンPtを含浸して、Ptを0.85%担持したセリウムジルコニウム複合酸化物粒子とした(これをセリウムジルコニウム複合酸化物粒子Aとする)。
第1の化合物として細孔容積0.15cm3/gのセリウムジルコニウム複合酸化物粒子を使用した。この粒子にジニトロジアミンPtを含浸して、Ptを0.85%担持したセリウムジルコニウム複合酸化物粒子とした(これを粒子Aaとする)。
第1の化合物として平均粒径30nmのセリウムジルコニウム複合酸化物粒子を使用した。このセリウムジルコニウム複合酸化物粒子にジニトロジアミンPtを含浸して、Ptを0.85%担持したセリウムジルコニウム複合酸化物粒子とした(これをセリウムジルコニウム複合酸化物粒子Aとする)。
第1の化合物としてセリウム60%、ジルコニウム40%のセリウムジルコニウム複合酸化物粒子を使用した。この粒子にジニトロジアミンPtを含浸して、Ptを0.85%担持したセリウムジルコニウム複合酸化物粒子とした(これを粒子A6とする)。
第1の化合物としてセリウム90%、ジルコニウム10%のセリウムジルコニウム複合酸化物粒子を使用した。この粒子にジニトロジアミンPtを含浸して、Ptを0.85%担持したセリウムジルコニウム複合酸化物粒子とした(これを粒子A7とする)。
第1の化合物として平均粒径30nmのセリウムジルコニウム複合酸化物粒子を使用した。この粒子にジニトロジアミンPtを含浸して、Ptを0.85%担持したセリウムジルコニウム複合酸化物粒子とした(これをセリウムジルコニウム複合酸化物粒子Aとする)。
第1の化合物として平均粒径30nmのセリウムジルコニウム複合酸化物粒子を使用した。この粒子にジニトロジアミンPtを含浸して、Ptを0.85%担持したセリウムジルコニウム複合酸化物粒子とした(これをセリウムジルコニウム複合酸化物粒子Aとする)。
次に、平均粒子径20nmのジルコニウムランタン複合酸化物粒子に硝酸ロジウムを含浸し、ロジウムを0.814%担持した粒子Bを調製した。Al2O3として90g相当のアルミニウムイソプロポキシドを2-メチル2,4ペンタンジオールに溶解し、粒子B:90gを加え、水を加えて、加水分解した。水、2-メチル2,4ペンタンジオール等の有機物を蒸発乾燥させた後、焼成して、粒子Bをアルミナで被覆した粉末b-2を調製した。
第1の化合物として平均粒径30nmのセリウムジルコニウム複合酸化物粒子を使用した。この粒子にジニトロジアミンPtを含浸して、Ptを0.85%担持したセリウムジルコニウム複合酸化物粒子とした(これをセリウムジルコニウム複合酸化物粒子Aとする)。
次に、平均粒子径20nmのジルコニウムランタン複合酸化物粒子に硝酸ロジウムを含浸し、ロジウムを0.814%担持した粒子Bを調製した。Al2O3として90g相当のアルミニウムイソプロポキシドを2-メチル2,4ペンタンジオールに溶解し、粒子B:90gを加え、水を加えて、加水分解した。水、2-メチル2,4ペンタンジオール等の有機物を蒸発乾燥させた後、焼成して、粒子Bをアルミナで被覆した粉末b-2を調製した。
第1の化合物として平均粒径30nmのセリウムジルコニウム複合酸化物粒子を使用した。この粒子にジニトロジアミンPtを含浸して、Ptを0.85%担持したセリウムジルコニウム複合酸化物粒子とした(これをセリウムジルコニウム複合酸化物粒子Aとする)。
次に、平均粒子径20nmのジルコニウムランタン複合酸化物粒子に硝酸ロジウムを含浸し、ロジウムを0.814%担持した粒子Bを調製した。Al2O3として90g相当のアルミニウムイソプロポキシドを2-メチル2,4ペンタンジオールに溶解し、粒子B:90gを加え、水を加えて、加水分解した。水、2-メチル2,4ペンタンジオール等の有機物を蒸発乾燥させた後、焼成して、粒子Bをアルミナで被覆した粉末b-2を調製した。
第1の化合物としてセリウム60%、ジルコニウム40%のセリウムジルコニウム複合酸化物粒子を使用した。この粒子にジニトロジアミンPtを含浸して、Ptを0.85%担持したセリウムジルコニウム複合酸化物粒子とした(これを粒子A6とする)。
次に、平均粒子径20nmのジルコニウムランタン複合酸化物粒子に硝酸ロジウムを含浸し、ロジウムを0.814%担持した粒子Bを調製した。Al2O3として90g相当のアルミニウムイソプロポキシドを2-メチル2,4ペンタンジオールに溶解し、粒子B:90gを加え、水を加えて、加水分解した。水、2-メチル2,4ペンタンジオール等の有機物を蒸発乾燥させた後、焼成して、粒子Bをアルミナで被覆した粉末b-2を調製した。
第1の化合物としてセリウム90%、ジルコニウム10%のセリウムジルコニウム複合酸化物粒子を使用した。この粒子にジニトロジアミンPtを含浸して、Ptを0.85%担持したセリウムジルコニウム複合酸化物粒子とした(これを粒子A7とする)。
次に、平均粒子径20nmのジルコニウムランタン複合酸化物粒子に硝酸ロジウムを含浸し、ロジウムを0.814%担持した粒子Bを調製した。Al2O3として90g相当のアルミニウムイソプロポキシドを2-メチル2,4ペンタンジオールに溶解し、粒子B:90gを加え、水を加えて、加水分解した。水、2-メチル2,4ペンタンジオール等の有機物を蒸発乾燥させた後、焼成して、粒子Bをアルミナで被覆した粉末b-2を調製した。
第1の化合物としてセリウム60%、ジルコニウム40%のセリウムジルコニウム複合酸化物粒子を使用した。この粒子にジニトロジアミンPtを含浸して、Ptを0.85%担持したセリウムジルコニウム複合酸化物粒子とした(これを粒子A6とする)。
次に、平均粒子径20nmのジルコニウムランタン複合酸化物粒子に硝酸ロジウムを含浸し、ロジウムを0.814%担持した粒子Bを調製した。Al2O3として90g相当のアルミニウムイソプロポキシドを2-メチル2,4ペンタンジオールに溶解し、粒子B:90gを加え、水を加えて、加水分解した。水、2-メチル2,4ペンタンジオール等の有機物を蒸発乾燥させた後、焼成して、粒子Bをアルミナで被覆した粉末b-2を調製した。
第1の化合物としてセリウム90%、ジルコニウム10%のセリウムジルコニウム複合酸化物粒子を使用した。この粒子にジニトロジアミンPtを含浸して、Ptを0.85%担持したセリウムジルコニウム複合酸化物粒子とした(これを粒子A7とする)。
次に、平均粒子径20nmのジルコニウムランタン複合酸化物粒子に硝酸ロジウムを含浸し、ロジウムを0.814%担持した粒子Bを調製した。Al2O3として90g相当のアルミニウムイソプロポキシドを2-メチル2,4ペンタンジオールに溶解し、粒子B:90gを加え、水を加えて、加水分解した。水、2-メチル2,4ペンタンジオール等の有機物を蒸発乾燥させた後、焼成して、粒子Bをアルミナで被覆した粉末b-2を調製した。
第1の化合物としてセリウム60%、ジルコニウム40%のセリウムジルコニウム複合酸化物粒子を使用した。この粒子にジニトロジアミンPtを含浸して、Ptを0.85%担持したセリウムジルコニウム複合酸化物粒子とした(これを粒子A6とする)。
次に、平均粒子径20nmのジルコニウムランタン(99:1)複合酸化物粒子に硝酸ロジウムを含浸し、ロジウムを0.50875%担持した粒子B16を調製した。
第1の化合物としてセリウム90%、ジルコニウム10%のセリウムジルコニウム複合酸化物粒子を使用した。この粒子にジニトロジアミンPtを含浸して、Ptを0.85%担持したセリウムジルコニウム複合酸化物粒子とした(これを粒子A7とする)。
次に、平均粒子径20nmのジルコニウムランタン(99:1)複合酸化物粒子に硝酸ロジウムを含浸し、ロジウムを1.356%担持した粒子B17を調製した。
10 触媒層
11 触媒粉末
12 貴金属
13 第1の化合物
14 第2の化合物
Claims (19)
- 担体の内面上に形成された少なくとも1層の触媒層を備え、
前記触媒層は触媒粉末を含み、この触媒粉末が貴金属と、第1の化合物と、第2の化合物とからなり、かつ、触媒粉末の貴金属が第1の化合物に担持され、この貴金属を担持した第1の化合物同士が、第2の化合物により隔てられた構造であり、
前記触媒層は細孔を有し、かつ、細孔径が1μm以下の細孔のうち、0.1μm〜1μmの範囲の細孔の細孔容積が10%〜60%であることを特徴とする排気ガス浄化用触媒。 - 前記触媒層の細孔径が0.1μm以下の細孔の細孔容積をAとし、0.1μm〜1μmの範囲の細孔の細孔容積をBとしたとき、Bは細孔径が1μm以下の細孔容積の10%〜60%であり、かつ、B/A≧0.1であることを特徴とする請求項1に記載の排気ガス浄化用触媒。
- 前記触媒層の細孔径が0.1μm以下の細孔の細孔容積をAとし、0.1μm〜1μmの範囲の細孔の細孔容積をBとしたとき、Bは細孔径が1μm以下の細孔容積の20%〜60%であることを特徴とする請求項1に記載の排気ガス浄化用触媒。
- 前記触媒層の細孔径が0.1μm以下の細孔の細孔容積をAとし、0.1μm〜1μmの範囲の細孔の細孔容積をBとしたとき、Bは細孔径が1μm以下の細孔容積の30%〜50%であることを特徴とする請求項1に記載の排気ガス浄化用触媒。
- 前記触媒粉末の細孔容積が、0.24cm3/g以上、0.8cm3/g以下であることを特徴とする請求項1に記載の排気ガス浄化用触媒。
- 前記触媒粉末の第1の化合物は、CeO2が70wt%〜85wt%と、ZrO2が15wt%〜30wt%とからなることを特徴とする請求項1に記載の排気ガス浄化用触媒。
- 前記触媒粉末の第1の化合物は、ZrO2が90wt%〜99wt%と、La2O3が1wt%〜10wt%とからなることを特徴とする請求項1に記載の排気ガス浄化用触媒。
- 前記触媒粉末の第2の化合物は、アルミナよりなることを特徴とする請求項1に記載の排気ガス浄化用触媒。
- 前記触媒粉末の第2の化合物は、CeO2を5wt%〜15wt%、ZrO2を3wt%〜10wt%含有するアルミナであることを特徴とする請求項1に記載の排気ガス浄化用触媒。
- 前記触媒粉末の第2の化合物は、La2O3を3wt%〜10wt%含有するアルミナであることを特徴とする請求項1に記載の排気ガス浄化用触媒。
- 前記触媒粉末の貴金属が、Pt、Pd及びRhから選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求項1ないし請求項10のいずれか1項に記載の排気ガス浄化用触媒。
- 前記触媒層が担体の内面上に複数層形成されていることを特徴とする請求項1に記載の排気ガス浄化用触媒。
- 前記触媒層よりも担体の内面側に、貴金属を含まない下地層を備えることを特徴とする、請求項12に記載の排気ガス浄化用触媒。
- 前記下地層がアルミナ及び炭化水素吸着性化合物の少なくとも1種よりなることを特徴とする請求項13に記載の排気ガス浄化用触媒。
- 前記複数層の触媒層のうち、担体の内面側の触媒層の触媒粉末は、貴金属がPt及びPdの少なくとも1種であり、第1の化合物が請求項6に記載されたものであり、第2の化合物が請求項9に記載されたものであることを特徴とする請求項12に記載の排気ガス浄化用触媒。
- 前記複数層の触媒層のうち、担体の内面側の触媒層の触媒粉末は、貴金属がPt及びPdの少なくとも1種であり、第1の化合物が請求項6に記載されたものであり、第2の化合物が請求項10に記載されたものであることを特徴とする請求項12に記載の排気ガス浄化用触媒。
- 前記複数層の触媒層のうち、表側の触媒層の触媒粉末は、貴金属がRhであり、第1の化合物が請求項7に記載されたものであり、第2の化合物が請求項8に記載されたものであることを特徴とする請求項12に記載の排気ガス浄化用触媒。
- 前記複数層の触媒層のうち、表側の触媒層の触媒粉末は、貴金属が担持された第1の化合物が40wt%〜75wt%、第2の化合物が25wt%〜60wt%であることを特徴とする請求項17に記載の排気ガス浄化用触媒。
- 請求項1〜18のいずれか1項に記載の排気ガス浄化用触媒を製造する方法であって、
触媒粉末を調製する工程と、この触媒粉末を担体の内面上に形成する工程とを有し、
前記触媒粉末を調製する工程は、
第1の化合物に貴金属を担持する工程と、
第2の化合物又は第2の化合物の前駆体を水に分散させスラリー化する工程と、
この後、前記第2の化合物のスラリーに、貴金属を担持した第1の化合物を分散させ、乾燥後焼成し触媒粉末を得る工程とを有し、
前記触媒粉末を担体の内面上に形成する工程は、
得られた触媒粉末に、焼成時に消失する化合物を加えて、スラリー化し、担体にコーティング後、乾燥、焼成して、触媒層の細孔のうち、0.1μm〜1μmの領域に細孔を有する触媒層となす工程
を有することを特徴とする、排気ガス浄化用触媒の製造方法。
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