JP2008235010A5 - - Google Patents

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Claims (12)

  1. 有機発光材料を含有する転写層を支持基板上に塗布形成する工程と、
    前記支持基板上において前記転写層を加熱処理する工程と、
    前記加熱処理された転写層を装置基板上に熱転写する工程とを行う
    表示装置の製造方法。
  2. 前記加熱処理は、前記転写層に主として含有される有機材料のガラス転移点以上でかつ融点より低い温度で行われる
    請求項１記載の表示装置の製造方法。
  3. 前記加熱処理は、不活性な雰囲気中で行われる
    請求項１または２に記載の表示装置の製造方法。
  4. 前記装置基板上に熱転写された転写層を加熱処理する工程を行う
    請求項１〜３の何れか１項に記載の表示装置の製造方法。
  5. 前記装置基板上に熱転写された転写層の加熱処理は、当該転写層に主として含有される有機材料のガラス転移点以上でかつ融点より低い温度で行われる
    請求項４記載の表示装置の製造方法。
  6. 前記装置基板上に熱転写された転写層の加熱処理は、前記支持基板上において行われる前記転写層の加熱処理よりも低い温度で行われる
    請求項１〜５の何れか１項に記載の表示装置の製造方法。
  7. 前記転写層を装置基板上に熱転写する工程では、前記装置基板上に形成された下部電極上に前記転写層を熱転写し、
    前記転写層が熱転写された前記装置基板上に、当該転写層に積層させる状態で上部電極を形成する工程を行う
    請求項１〜６の何れか１項に記載の表示装置の製造方法。
  8. 前記上部電極を形成した後に、前記下部電極から当該上部電極までを積層してなる発光素子を覆う状態で保護膜を形成する工程を行うと共に、
    前記転写層を熱転写する工程から前記保護膜を形成する工程までを一連の不活性な雰囲気中で行う
    請求項７に記載の表示装置の製造方法。
  9. 前記支持基板上に前記転写層を塗布形成する工程では、当該支持基板上の全面に当該転写層を形成し、
    前記転写層を装置基板上に熱転写する工程では、当該転写層の一部を当該装置基板上にパターン転写する
    請求項１〜８の何れか１項に記載の表示装置の製造方法。
  10. 前記転写層を塗布形成する工程では、前記支持基板上に当該転写層をパターン形成し、
    前記転写層を装置基板上に熱転写する工程では、パターン形成された当該転写層を当該装置基板上に一括転写する
    請求項１〜８の何れか１項に記載の表示装置の製造方法。
  11. 前記転写層を塗布形成する工程では、前記支持基板上に異なる種類の有機発光材料を含有する各転写層を個別にパターン形成する
    請求項１０に記載の表示装置の製造方法。
  12. 前記転写層を塗布形成する工程では、前記支持基板上にパターン形成された熱変換層を覆う状態で、当該支持基板上の全面に当該転写層を形成し、
    前記転写層を装置基板上に熱転写する工程では、パターン形成された前記熱変換層上における当該転写層部分のみを当該装置基板上に一括転写する
    請求項１〜８の何れか１項に記載の表示装置の製造方法。
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KR20080023271A KR20080085705A (ko) 2007-03-20 2008-03-13 표시 장치의 제조 방법
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Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5747022B2 (ja) 2010-03-18 2015-07-08 株式会社半導体エネルギー研究所 成膜方法及び成膜用基板の作製方法
US8951816B2 (en) 2010-03-18 2015-02-10 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Film forming method
JP2011195870A (ja) * 2010-03-18 2011-10-06 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 成膜方法
US8815352B2 (en) 2010-03-18 2014-08-26 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Film forming method and method for manufacturing film-formation substrate
WO2012091243A1 (ko) * 2010-12-27 2012-07-05 제일모직 주식회사 열전사 필름
JP5695535B2 (ja) 2011-09-27 2015-04-08 株式会社東芝 表示装置の製造方法
TW201321871A (zh) * 2011-11-29 2013-06-01 Au Optronics Corp 顯示面板及其製作方法
KR20150012530A (ko) * 2013-07-25 2015-02-04 삼성디스플레이 주식회사 전사용 도너 기판 및 유기 발광 표시 장치의 제조 방법
EP3087623B1 (en) * 2013-12-26 2021-09-22 Kateeva, Inc. Thermal treatment of electronic devices
KR102303994B1 (ko) * 2014-10-20 2021-09-23 삼성디스플레이 주식회사 유기발광 표시기판의 제조방법
CN107221548A (zh) * 2016-03-22 2017-09-29 上海和辉光电有限公司 Oled显示面板、智能显示玻璃装置及制备方法
US10615345B2 (en) * 2016-06-03 2020-04-07 The Trustees Of Princeton University Method and device for using an organic underlayer to enable crystallization of disordered organic thin films

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002216957A (ja) * 2001-01-19 2002-08-02 Sharp Corp 転写法を用いた有機ｌｅｄ表示パネルの製造方法およびそれにより製造された有機ｌｅｄ表示パネル
US7005166B2 (en) * 2001-06-19 2006-02-28 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Method for fluorescent image formation, print produced thereby and thermal transfer sheet thereof
US6699597B2 (en) * 2001-08-16 2004-03-02 3M Innovative Properties Company Method and materials for patterning of an amorphous, non-polymeric, organic matrix with electrically active material disposed therein
JP4004255B2 (ja) * 2001-09-05 2007-11-07 シャープ株式会社 有機ｌｅｄ表示パネルの製造方法
JP2003187972A (ja) * 2001-12-20 2003-07-04 Dainippon Printing Co Ltd 有機ｅｌ素子の製造方法および有機ｅｌ転写体と被転写体
JP2003347054A (ja) * 2002-05-29 2003-12-05 Sharp Corp 薄膜転写用フィルムとその製造方法およびそれを用いた有機ｅｌ素子
KR100490539B1 (ko) * 2002-09-19 2005-05-17 삼성에스디아이 주식회사 유기 전계 발광소자 및 그 제조방법
JP4187149B2 (ja) * 2002-12-12 2008-11-26 富士フイルム株式会社 有機電界発光素子の製造方法及び有機電界発光素子
JP2005116238A (ja) * 2003-10-03 2005-04-28 Tdk Corp 有機ｅｌ素子及び有機ｅｌディスプレイ
US7052355B2 (en) * 2003-10-30 2006-05-30 General Electric Company Organic electro-optic device and method for making the same
US20050123850A1 (en) * 2003-12-09 2005-06-09 3M Innovative Properties Company Thermal transfer of light-emitting dendrimers
GB0329364D0 (en) * 2003-12-19 2004-01-21 Cambridge Display Tech Ltd Optical device
KR100731728B1 (ko) * 2004-08-27 2007-06-22 삼성에스디아이 주식회사 레이저 전사용 도너 기판 및 이를 이용한 유기 전계 발광소자의 제조 방법
KR100611767B1 (ko) * 2004-08-30 2006-08-10 삼성에스디아이 주식회사 레이저 전사용 도너 기판 및 그 필름을 사용하여 제조되는유기 전계 발광 소자의 제조 방법
KR20060020030A (ko) * 2004-08-30 2006-03-06 삼성에스디아이 주식회사 도너 기판의 제조방법
JP2006086069A (ja) * 2004-09-17 2006-03-30 Three M Innovative Properties Co 有機エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法
KR100793355B1 (ko) * 2004-10-05 2008-01-11 삼성에스디아이 주식회사 도너 기판의 제조방법 및 유기전계발광표시장치의 제조방법
KR100667069B1 (ko) * 2004-10-19 2007-01-10 삼성에스디아이 주식회사 도너 기판 및 그를 사용한 유기전계발광표시장치의 제조방법
KR100700654B1 (ko) * 2005-02-22 2007-03-27 삼성에스디아이 주식회사 레이저 조사 장치 및 레이저 열 전사법

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