JP2008198405A - 走査形電子顕微鏡 - Google Patents
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Abstract
試料の垂直方向に対して傾斜させた電子ビームを試料に照射して二次元像を得るときに、試料の上下振動が原因で検査時間が長くなることを防止できる走査形電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】
走査形電子顕微鏡は、試料ステージの高さ変位量を測定する高さ測定手段と、この変位量と電子ビームの傾斜角とから電子ビームの試料に対する照射位置の変位量を算出し、電子ビームの制御信号を送信するマイクロプロセッサと、マイクロプロセッサからの制御信号に基づいて、ビーム偏向手段により電子ビームの水平方向の照射位置を補正するビーム位置補正手段とを備える。
【選択図】図2
Description
(例えば、特許文献2参照)。しかし、試料が上下振動すると、電子ビームの照射位置が水平方向に変化するため、試料の振動にあわせて二次元像の揺れが現れる。
「l=d×tanθ 」。仮に、垂直方向から10度傾斜した電子ビームにより二次元像の2ナノメートルの分解能を得るためには、像揺れ量を2ナノメートル以下に抑えなければならないので、l=2ナノメートルを上記式へ代入すると、2ナノメートルの二次元像の揺れに相当する試料の上下方向の振動量はd=11.3 ナノメートルとなる。試料保持部を常にこの程度の振動に抑えるのは大変困難である。
6 第2収束レンズ
7 対物レンズ
10 ビーム偏向コイル
11 試料
17 第2収束レンズ制御電源
19 ビーム偏向コイル電源
21 対物レンズ制御電源
22 マイクロプロセッサ
23 試料ステージ
25 コンピュータ
32 試料ステージ振動測定器
Claims (4)
- 試料の垂直方向に対して傾斜した光軸を有する電子ビームを該試料へ照射して二次元像を取得する走査形電子顕微鏡において、
前記試料を載置した試料ステージの高さ変位量を測定する高さ測定手段と、測定された該高さ変位量と前記電子ビームの傾斜角とから該電子ビームの前記試料に対する照射位置の変位量を算出し、前記電子ビームの制御信号を送信するマイクロプロセッサと、該マイクロプロセッサからの前記制御信号に基づいて、前記電子ビームの照射位置を補正するビーム位置補正手段とを備えたことを特徴とする走査形電子顕微鏡。 - 請求項1の記載において、前記ビーム位置補正手段は、前記電子ビームの光軸を前記試料に対して傾斜させることを特徴とする走査形電子顕微鏡。
- 請求項1の記載において、前記電子ビームは、前記ビーム位置補正手段とは別の偏向手段により前記電子ビームを前記試料に対して傾斜させることを特徴とする走査形電子顕微鏡。
- 請求項1の記載において、前記ビーム位置補正手段は、前記試料ステージの移動時に前記電子ビームの照射位置を補正することを特徴とする走査形電子顕微鏡。
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