JP6468160B2 - 走査型荷電粒子顕微鏡 - Google Patents
走査型荷電粒子顕微鏡 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6468160B2 JP6468160B2 JP2015204213A JP2015204213A JP6468160B2 JP 6468160 B2 JP6468160 B2 JP 6468160B2 JP 2015204213 A JP2015204213 A JP 2015204213A JP 2015204213 A JP2015204213 A JP 2015204213A JP 6468160 B2 JP6468160 B2 JP 6468160B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- charged particle
- particle beam
- irradiation position
- scanning
- measurement target
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Description
a) 前記荷電粒子線を発生させる荷電粒子線源と、該荷電粒子線源から発せられた荷電粒子線の照射位置を制御して前記測定対象範囲を走査するための走査光学系とを有する荷電粒子線制御部と、
b) 前記測定対象試料の前記荷電粒子線の照射位置における、基準画像に用いる物理量を測定する第1検出器と、
c) 前記測定対象試料の前記荷電粒子線の照射位置における前記所定の物理量を測定する第2検出器と、
d) 前記測定対象範囲を荷電粒子線で走査し、前記第1検出器によって前記測定対象範囲の基準画像を取得する基準画像取得部と、
e) 前記基準画像の取得後に、前記測定対象範囲を荷電粒子線で走査し、前記第2検出器によって前記所定の物理量を測定する物理量測定部と、
f) 前記物理量測定部による前記所定の物理量の測定と並行して、前記第1検出器によって前記測定対象範囲の一部に対応する部分画像を取得する部分画像取得部と、
g) 前記部分画像を前記基準画像と照合して該部分画像の位置を特定し、該部分画像の位置と、該部分画像を取得した際に設定した前記荷電粒子線制御部による荷電粒子線の照射位置とを比較して、該荷電粒子線の照射位置のドリフトを求めるドリフト算出部と、
h) 前記ドリフトに基づいて前記荷電粒子線制御部による荷電粒子線の照射位置を補正する荷電粒子線補正部と、
を備え、
前記部分画像取得部は、前記部分画像を複数の画像に分割し、
前記ドリフト算出部は、前記複数の画像のそれぞれを前記基準画像と照合して分割ドリフトを求め、該分割ドリフトに基づいて前記ドリフトを求める
ことを特徴とする。
前記基準画像に用いる物理量は、それ自体を測定対象としてもよい。その場合、上記所定の物理量と前記基準画像に用いる物理量は同じ物理量であるため、1つの検出器を前記第1検出器及び第2検出器として用いることができる。
前記所定の物理量は、例えば特性X線、蛍光、反射電子、電流、あるいは電圧である。また、複数の物理量を並行して測定するものであってもよい。
前記荷電粒子線の照射位置が前記測定対象範囲の端部に達した時点で、前記荷電粒子線補正部が前記荷電粒子線の照射位置を補正する
ことが望ましい。
前記ドリフト算出部は、前記複数の画像のそれぞれを基準画像と照合して分割ドリフトを求め、それら分割ドリフトに基づいて前記ドリフトを求める
ことが望ましい。
使用者が測定開始を指示すると、電子線制御部10は、記憶部21に保存された第1速度により上述のように電子線を高速で移動させる。そして、該第1速度と測定点の離間間隔に応じた時間間隔で、各測定点において試料7から発せられる二次電子を電子検出器9により検出する。電子検出器9からの出力は、順次、記憶部21に蓄積され、二次電子の検出結果に基づき、基準画像取得部22は測定対象範囲全体の二次電子像である基準画像(640画素×480画素の画像)を取得する。図4に基準画像の一例を示す。
部分画像取得部24及びドリフト算出部25による上記処理は、電子線制御部10による電子線の移動、並びに特性X線及び二次電子の検出と並行して行われる。
上記の部分画像の取得、分割画像の作成、ドリフトベクトルの算出、及び電子線照射位置の補正は、測定対象範囲の走査開始から終了まで、繰り返し行われる。なお、2回目以降のドリフト算出時には、前回のドリフト算出以降に取得した部分画像が用いられる。
上記実施例では、最も簡単な一例として、複数の分割画像のドリフトベクトルを平均化して電子線照射位置を補正する例を説明したが、他にも全分割画像のドリフトベクトルを統計処理してドリフト量の外れ値を除外した後に平均化して電子線の補正量及び方向を決定する等、種々の方法を用いることができる。
上記実施例では電子線マイクロアナライザを例に挙げたが、その他、電子線に代えてイオンビームを励起源として用いることもできる。また、上記実施例では二次電子(本発明における、基準画像に用いる物理量)を検出して基準画像を作成し、特性X線(本発明における所定の物理量)を検出して特定の元素の二次元分布像を得る構成としたが、基準画像に用いる物理量及び所定の物理量として、他の物理量(反射電子や蛍光等)を検出することも可能であり、種々の走査型荷電粒子顕微鏡において本発明の構成を用いることができる。さらに、基準画像に用いる物理量自体を測定対象としてもよい。
さらに、上記実施例では1枚の二次元画像を取得する場合に、電子線の照射位置が測定対象範囲の端部に位置するまで待機して電子線照射位置を補正する例を説明したが、測定対象範囲の走査を繰り返し行って複数枚の二次元画像を取得する構成において、1枚の二次元画像を取得するごとに(即ち測定対象範囲の走査を終えるごとに)電子線照射位置を補正することもできる。
2…電子線源
3…集束レンズ
4…走査コイル
5…対物レンズ
6…試料載置台
7…試料
8…駆動部
9…電子検出器
11…X線検出器
20…制御部
21…記憶部
22…基準画像取得部
23…物理量測定部
24…部分画像取得部
25…ドリフト算出部
26…荷電粒子線補正部
30…入力部
40…表示部
Claims (4)
- 測定対象試料の表面の測定対象範囲を荷電粒子線で走査することにより該測定対象範囲において所定の物理量を測定する走査型荷電粒子顕微鏡であって、
a) 前記荷電粒子線を発生させる荷電粒子線源と、該荷電粒子線源から発せられた荷電粒子線の照射位置を制御して前記測定対象範囲を走査するための走査光学系とを有する荷電粒子線制御部と、
b) 前記測定対象試料の前記荷電粒子線の照射位置における、基準画像に用いる物理量を測定する第1検出器と、
c) 前記測定対象試料の前記荷電粒子線の照射位置における前記所定の物理量を測定する第2検出器と、
d) 前記測定対象範囲を荷電粒子線で走査し、前記第1検出器によって前記測定対象範囲の基準画像を取得する基準画像取得部と、
e) 前記基準画像の取得後に、前記測定対象範囲を荷電粒子線で走査し、前記第2検出器によって前記所定の物理量を測定する物理量測定部と、
f) 前記物理量測定部による前記所定の物理量の測定と並行して、前記第1検出器によって前記測定対象範囲の一部に対応する部分画像を取得する部分画像取得部と、
g) 前記部分画像を前記基準画像と照合して該部分画像の位置を特定し、該部分画像の位置と、該部分画像を取得した際に設定した前記荷電粒子線制御部による荷電粒子線の照射位置とを比較して、該荷電粒子線の照射位置のドリフトを求めるドリフト算出部と、
h) 前記ドリフトに基づいて前記荷電粒子線制御部による荷電粒子線の照射位置を補正する荷電粒子線補正部と、
を備え、
前記部分画像取得部は、前記部分画像を複数の画像に分割し、
前記ドリフト算出部は、前記複数の画像のそれぞれを前記基準画像と照合して分割ドリフトを求め、該分割ドリフトに基づいて前記ドリフトを求める
ことを特徴とする走査型荷電粒子顕微鏡。 - 前記荷電粒子線の照射位置が前記測定対象範囲の端部に達した時点で、前記荷電粒子線補正部が前記荷電粒子線の照射位置を補正することを特徴とする請求項1に記載の走査型荷電粒子顕微鏡。
- 前記荷電粒子線による前記測定対象範囲の走査を完了した時点で、前記荷電粒子線補正部が前記荷電粒子線の照射位置を補正することを特徴とする請求項1に記載の走査型荷電粒子顕微鏡。
- 前記荷電粒子線が電子線であり、前記基準画像に用いる物理量が二次電子、前記第2検出器がX線検出器であることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の走査型荷電粒子顕微鏡。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015204213A JP6468160B2 (ja) | 2015-10-16 | 2015-10-16 | 走査型荷電粒子顕微鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015204213A JP6468160B2 (ja) | 2015-10-16 | 2015-10-16 | 走査型荷電粒子顕微鏡 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017076559A JP2017076559A (ja) | 2017-04-20 |
JP6468160B2 true JP6468160B2 (ja) | 2019-02-13 |
Family
ID=58551472
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015204213A Active JP6468160B2 (ja) | 2015-10-16 | 2015-10-16 | 走査型荷電粒子顕微鏡 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6468160B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6859944B2 (ja) * | 2017-12-25 | 2021-04-14 | 株式会社島津製作所 | 走査型荷電粒子顕微鏡及び制御プログラム |
JP6939521B2 (ja) * | 2017-12-25 | 2021-09-22 | 株式会社島津製作所 | 電子線マイクロアナライザ |
JP7250054B2 (ja) * | 2021-02-04 | 2023-03-31 | 日本電子株式会社 | 分析装置および画像処理方法 |
JP7465299B2 (ja) | 2022-03-23 | 2024-04-10 | 日本電子株式会社 | 荷電粒子線装置 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06162986A (ja) * | 1992-11-13 | 1994-06-10 | Sharp Corp | オージェ電子分光分析装置/x線マイクロアナライザーにおける帯電緩和方法及びドリフト補正方法 |
JP2000106121A (ja) * | 1998-07-29 | 2000-04-11 | Jeol Ltd | 電子顕微鏡あるいはその類似装置 |
JP5080657B2 (ja) * | 2008-12-15 | 2012-11-21 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 走査電子顕微鏡 |
JP2012078234A (ja) * | 2010-10-04 | 2012-04-19 | Jeol Ltd | X線分析方法及び装置 |
JP5537460B2 (ja) * | 2011-02-17 | 2014-07-02 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線顕微鏡及びそれを用いた計測画像の補正方法 |
-
2015
- 2015-10-16 JP JP2015204213A patent/JP6468160B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2017076559A (ja) | 2017-04-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN108027499B (zh) | 用于多波束扫描式电子显微系统的聚焦调整的方法及系统 | |
JP6468160B2 (ja) | 走査型荷電粒子顕微鏡 | |
US20110233400A1 (en) | Pattern measurement apparatus and pattern measurement method | |
JP6980631B2 (ja) | 検査方法および検査装置 | |
WO2017130365A1 (ja) | オーバーレイ誤差計測装置、及びコンピュータープログラム | |
TW202029268A (zh) | 電子束觀察裝置,電子束觀察系統,電子束觀察裝置中的圖像修正方法及用於圖像修正的修正係數算出方法 | |
JP4194526B2 (ja) | 荷電粒子線の調整方法、及び荷電粒子線装置 | |
JP4538421B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP2016115503A (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP6859944B2 (ja) | 走査型荷電粒子顕微鏡及び制御プログラム | |
JP4928971B2 (ja) | 走査形電子顕微鏡 | |
JP6770482B2 (ja) | 荷電粒子線装置および走査像の歪み補正方法 | |
JP5103253B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP6163063B2 (ja) | 走査透過電子顕微鏡及びその収差測定方法 | |
JP6043528B2 (ja) | パターン測定装置 | |
TWI809319B (zh) | 圖像調整方法及帶電粒子束系統 | |
US11177112B2 (en) | Pattern measurement device and non-transitory computer readable medium having stored therein program for executing measurement | |
JP6207893B2 (ja) | 試料観察装置用のテンプレート作成装置 | |
JP6660774B2 (ja) | 高さデータ処理装置、表面形状測定装置、高さデータ補正方法、及びプログラム | |
JP5411866B2 (ja) | パターン計測装置及びパターン計測方法 | |
JP6565601B2 (ja) | 画像補正装置 | |
JP2005201810A (ja) | 寸法測定装置、寸法測定方法およびプログラム | |
US20230317406A1 (en) | Charged Particle Beam System | |
JP5351531B2 (ja) | 走査型電子顕微鏡及び走査型電子顕微鏡のドリフト補正方法 | |
JP4231891B2 (ja) | 荷電粒子線の調整方法、及び荷電粒子線装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180213 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20181023 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20181128 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20181218 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20181231 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6468160 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |