JP2008124021A - Pem燃料電池のための縁部保護による膜電極アセンブリの製造 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】その方法は、イオノマー膜の寿命を延長するために必要とされる機能性を提供するように、およびアセンブリ処理中のイオノマー膜への損傷を回避するように、触媒層などの燃料電池の他の構成要素縁部に対してサブガスケットを正確に配置することを可能にする。
【選択図】図1
Description
典型的なPEM燃料電池10は、例えば図1に示すように、それぞれが離間され、対向する1組の双極プレート12と14、それぞれが離間され、対向する1組のシール材16と18、それぞれが離間され、対向する2つの気体拡散媒体層20と22、それぞれが離間され、対向する2つの触媒層24と26、イオノマー膜28、および選択的にそれぞれいくつかのタイプのサブガスケット材料30と32と34と36から構成される。上述のように、サブガスケットは選択的であり、イオノマー膜28の一方の側、または両方の側上に表示されることが可能である。イオノマー膜28縁部、および触媒層24と26それぞれの縁部に対するサブガスケットの配置はまた、サブガスケットの機能に応じて可変である。
本発明は、CCMで始まるサブガスケットされるMEAのアセンブリに一次的に焦点を絞ることにする。しかし、アセンブリ処理および据付けからの同一の利益は、わずかな変更によってCCDM−MEAに適用可能である。
本発明のいくつかの利点は、(1)燃料電池スタックのアセンブリを容易にし、例えば、サブガスケットは、より容易に部品をハンドリングすることを可能にし、サブガスケットの基準は、主要な双極プレート機構により主要なMEA機構を正確に配置することを可能にし(例えば、正確な位置合わせは、触媒を基準として設定し、全体を通してMEA/サブガスケットのアセンブリ処理を保持することにより達成され)、(2)MEAの耐久性を高め、例えば、触媒被覆膜上の所望の点にサブガスケットを正確に位置合わせする(またはCCDM−MEA上に活動範囲を設定する)ことが可能であることにより、触媒縁部不良を制御することを可能にし、室温PSAを使用することにより、イオノマー膜を薄くすることなしにMEAへのサブガスケットのアセンブリを可能にし、室温PSAを使用することにより、イオノマー膜への熱応力を取り込むことなしにMEAへのサブガスケットのアセンブリを可能にし、薄いサブガスケットおよび接着剤は、サブガスケット縁部における圧縮に関連した応力を抑え、GDM縁部内側の場合には、サブガスケットを追加することにより、GDMの繊維がGDM縁部においてイオノマー膜を穿刺することが回避され、(3)燃料電池の出力密度を高め、例えばサブガスケット縁部を正確に配置することにより、部品設計者は、所望の各位置にGDM、触媒およびサブガスケット縁部を配置するために必要とされる専有面積を削減することが可能になり、したがって、結果的に、より小さい部品になり、(4)MEAの費用を削減し、例えば、サブガスケット縁部を正確に配置することにより、より小さい部品を可能にする(例えば、原材料はMEAの総費用において非常に大きな要素であり、所要の材料を抑えることにより、純費用が削減される)ことを含んでよいが、それらに限定されない。
32 ガスケット材料
34 ガスケット材料
36 ガスケット材料
Claims (25)
- サブガスケット部材を提供するステップと、
前記サブガスケット部材の表面に接着層を提供するステップと、
前記サブガスケット部材を所望の構成に形成するステップであって、開口部を画定する範囲が前記サブガスケット部材の前記表面の中央範囲に形成される、ステップと、
前記サブガスケット部材を第1のプラテン部材に固定するステップと、
触媒被覆膜部材を提供するステップであって、触媒層が前記膜部材の中央範囲に設けられ、前記触媒層は前記開口部の縁部構成と実質的に同一である縁部構成を含む、ステップと、
前記触媒被覆膜部材を第2のプラテン部材に固定するステップと、
前記接着層が前記触媒被覆膜部材の前記膜部材に接触するように、前記第1および第2のプラテン部材を操作するステップと、
を含む、膜電極アセンブリ/サブガスケットアセンブリを構成するための方法。 - 前記接着層は感圧接着剤から構成される、請求項1に記載の膜電極アセンブリ/サブガスケットアセンブリを構成するための方法。
- 前記膜部材はイオノマー材料から構成される、請求項1に記載の膜電極アセンブリ/サブガスケットアセンブリを構成するための方法。
- 前記サブガスケット部材は真空の力により前記第1のプラテン部材に固定される、請求項1に記載の膜電極アセンブリ/サブガスケットアセンブリを構成するための方法。
- 前記接着層は前記第1のプラテン部材から離間され、対向する、請求項1に記載の膜電極アセンブリ/サブガスケットアセンブリを構成するための方法。
- 前記触媒層は前記開口部の縁部構成と実質的に同一の縁部構成を含む、請求項1に記載の膜電極アセンブリ/サブガスケットアセンブリを構成するための方法。
- 前記触媒層の前記縁部構成の第1の配置基準と、前記開口部の前記縁部構成の第1の配置基準とを位置合わせするステップをさらに含む、請求項6に記載の膜電極アセンブリ/サブガスケットアセンブリを構成するための方法。
- 前記触媒被覆膜部材は真空の力により第2のプラテン部材に固定される、請求項1に記載の膜電極アセンブリ/サブガスケットアセンブリを構成するための方法。
- 前記触媒層は前記第2のプラテン部材から離間され、対向する、請求項1に記載の膜電極アセンブリ/サブガスケットアセンブリを構成するための方法。
- 前記触媒層は前記接着層または前記サブガスケット部材の一部分を重ね合わせるように働く、請求項1に記載の膜電極アセンブリ/サブガスケットアセンブリを構成するための方法。
- 前記サブガスケット部材の周辺部分に開口部を画定する範囲を形成するステップをさらに含む、請求項1に記載の膜電極アセンブリ/サブガスケットアセンブリを構成するための方法。
- 前記触媒被覆膜部材は、前記サブガスケット部材の周辺部構成に比べてより小さい周辺部構成を有する、請求項1に記載の膜電極アセンブリ/サブガスケットアセンブリを構成するための方法。
- 前記接着層は前記サブガスケット部材の前記開口部に隣接して配置される、請求項1に記載の膜電極アセンブリ/サブガスケットアセンブリを構成するための方法。
- サブガスケット部材を提供するステップと、
前記サブガスケット部材の表面に接着層を提供するステップと、
前記サブガスケット部材を所望の構成に形成するステップであって、開口部を画定する範囲が前記サブガスケット部材の前記表面の中央範囲に形成される、ステップと、
前記サブガスケット部材を真空の力により第1のプラテン部材に固定するステップであって、前記接着層は前記第1のプラテン部材から離間され、対向する、ステップと、
触媒被覆膜部材を提供するステップであって、触媒層が前記膜部材の中央範囲に設けられ、前記触媒層は前記開口部の縁部構成と実施的に同一である縁部構成を含む、ステップと、
前記触媒被覆膜部材を真空の力により第2のプラテン部材に固定するステップであって、前記触媒層は前記第2のプラテン部材から離間され、対向する、ステップと、
前記接着層は前記触媒被覆膜部材の前記膜部材と接触するように、前記第1および第2のプラテン部材を操作するステップであって、前記触媒層は前記接着層または前記サブガスケット部材の一部分を重ね合わせるように働く、ステップと、
を含む、膜電極アセンブリ/サブガスケットアセンブリを構成するための方法。 - 前記接着層は感圧接着剤から構成される、請求項14に記載の膜電極アセンブリ/サブガスケットアセンブリを構成するための方法。
- 前記膜部材はイオノマー材料から構成される、請求項14に記載の膜電極アセンブリ/サブガスケットアセンブリを構成するための方法。
- 前記触媒層の前記縁部構成の第1の配置基準と、前記開口部の前記縁部構成の第1の配置基準とを位置合わせするステップをさらに含む、請求項14に記載の膜電極アセンブリ/サブガスケットアセンブリを構成するための方法。
- 前記サブガスケット部材の周辺部に開口部を画定する範囲を形成するステップをさらに含む、請求項14に記載の膜電極アセンブリ/サブガスケットアセンブリを構成するための方法。
- 前記触媒被覆膜部材は、前記サブガスケット部材の周辺部構成に比べてより小さい周辺部構成を有する、請求項14に記載の膜電極アセンブリ/サブガスケットアセンブリを構成するための方法。
- 前記接着層は前記サブガスケット部材の前記開口部に隣接して配置される、請求項14に記載の膜電極アセンブリ/サブガスケットアセンブリを構成するための方法。
- サブガスケット部材を提供するステップと、
前記サブガスケット部材の表面に感圧接着層を提供するステップと、
前記サブガスケット部材を所望の構成に形成するステップであって、開口部を画定する範囲が前記サブガスケット部材の前記表面の中央範囲に形成される、ステップと、
前記サブガスケット部材を真空の力により第1のプラテン部材に固定するステップであって、前記接着層は前記第1のプラテン部材から離間され、対向する、ステップと、
触媒被覆イオノマー膜部材を提供するステップであって、触媒層が前記イオノマー膜部材の中央範囲に設けられ、前記触媒層は前記開口部の縁部構成と実質的に同一である縁部構成を含む、ステップと、
前記触媒被覆イオノマー膜部材を真空の力により第2のプラテン部材に固定するステップであって、前記触媒層は前記第2のプラテン部材から離間され、対向する、ステップと、
前記触媒層の前記縁部構成の第1の配置基準と、前記開口部の前記縁部構成の第1の配置基準とを位置決めするステップと、
前記接着層は前記触媒被覆イオノマー膜部材の前記イオノマー膜部材と接触するように前記第1および第2のプラテン部材を操作するステップであって、前記触媒層は前記接着層または前記サブガスケット部材の一部分を重ね合わせるように働く、ステップと、
を含む膜電極アセンブリ/サブガスケットアセンブリを構成するための方法。 - 前記膜部材はイオノマー材料から構成される、請求項21に記載の膜電極アセンブリ/サブガスケットアセンブリを構成するための方法。
- 前記サブガスケット部材の周辺部分に開口部を画定する範囲を形成するステップをさらに含む、請求項21に記載の膜電極アセンブリ/サブガスケットアセンブリを構成するための方法。
- 前記触媒被覆膜部材は前記サブガスケット部材の周辺部構成に比べてより小さい周辺部構成を有する、請求項21に記載の膜電極アセンブリ/サブガスケットアセンブリを構成するための方法。
- 前記接着層は前記サブガスケット部材の前記開口部に隣接して配置される、請求項21に記載の膜電極アセンブリ/サブガスケットアセンブリを構成するための方法。
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