JP2008073687A - 合成ガスから炭化水素を製造する触媒、触媒の製造方法、触媒の再生方法、及び合成ガスから炭化水素を製造する方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】シリカを主成分とする触媒担体上に、コバルト金属又はコバルト金属及びコバルト酸化物、並びにジルコニウム酸化物を担持してなる触媒であって、該触媒の不純物含有量が0.01質量%〜0.15質量%であることを特徴とする合成ガスから炭化水素を製造する触媒とその製造方法並びにその再生方法及び該触媒を用いた炭化水素の製造方法である。
【選択図】なし
Description
(1)シリカを主成分とする触媒担体に、コバルト金属又はコバルト金属及びコバルト酸化物、並びにジルコニウム酸化物を担持してなる触媒であって、該触媒の不純物含有量が0.01質量%〜0.15質量%であることを特徴とする合成ガスから炭化水素を製造する触媒。
(7)前記触媒担体が球状であることを特徴とする(1)〜(6)の何れかに記載の合成ガスから炭化水素を製造する触媒。
ただし、同時に担持した際には、ジルコニウム化合物を担持しない触媒と比較して、かえって耐水性が低下する場合があることが明らかとなった。これは同時に担持した触媒では、副生水との接触によって活性を示すコバルト粒子の表面積が減少するような不安定な形態を、活性を示すコバルト粒子、ジルコニウム酸化物がとっているためと推定される。
尚、表1〜3の触媒中アルカリ金属、アルカリ土類金属合計量は、ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウムの単体及び化合物の金属換算での合計量である。但し、カリウムはこれらと比較して極少量であったため、表中、担体中の単独成分濃度としては記載しなかった。また、触媒中不純物合計量は、ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウム、鉄の単体及び化合物の金属換算での合計量を表す。尚、参考としてシリカ担体中のアルミニウム化合物の金属換算量も示した。
表1のAに示すような触媒を用いて、F-T合成反応を行ったところ、CO転化率85.4%、CH4選択率4.3%、CO2選択率2.0%、炭素数5以上の炭化水素生産性は1.32(kg-炭化水素/kg-触媒/時間)、活性保持率は80.2%であった。
表1のBに示すような触媒を用いて、F-T合成反応を行ったところ、CO転化率83.1%、CH4選択率4.1%、CO2選択率1.7%、炭素数5以上の炭化水素生産性は1.29(kg-炭化水素/kg-触媒/時間)、活性保持率は83.1%であった。
表1のCに示すような触媒を用いて、F-T合成反応を行ったところ、CO転化率82.2%、CH4選択率4.5%、CO2選択率1.7%、炭素数5以上の炭化水素生産性は1.27(kg-炭化水素/kg-触媒/時間)、活性保持率は85.1%であった。
表1のDに示すような触媒を用いて、F-T合成反応を行ったところ、CO転化率81.2%、CH4選択率4.6%、CO2選択率1.4%、炭素数5以上の炭化水素生産性は1.23(kg-炭化水素/kg-触媒/時間)、活性保持率は87.6%であった。
表1のEに示すような触媒を用いて、F-T合成反応を行ったところ、CO転化率67.4%、CH4選択率5.8%、CO2選択率0.9%、炭素数5以上の炭化水素生産性は1.05(kg-炭化水素/kg-触媒/時間)、活性保持率は80.3%であった。
表1のFに示すような触媒を用いて、F-T合成反応を行ったところ、CO転化率77.6%、CH4選択率4.9%、CO2選択率1.1%、炭素数5以上の炭化水素生産性は1.19(kg-炭化水素/kg-触媒/時間)、活性保持率は88.5%であった。
表2のGに示すような触媒を用いて、F-T合成反応を行ったところ、CO転化率82.0%、CH4選択率4.5%、CO2選択率1.6%、炭素数5以上の炭化水素生産性は1.27(kg-炭化水素/kg-触媒/時間)、活性保持率は93.2%であった。
表2のHに示すような触媒を用いて、F-T合成反応を行ったところ、CO転化率79.1%、CH4選択率4.1%、CO2選択率1.1%、炭素数5以上の炭化水素生産性は1.22(kg-炭化水素/kg-触媒/時間)、活性保持率は93.8%であった。
表2のIに示すようなCo、Zrを同時に担持して乾燥処理、焼成処理後、還元処理、パッシベーションを施して調製した触媒を用いて、F-T合成反応を行ったところ、CO転化率80.7%、CH4選択率4.9%、CO2選択率1.5%、炭素数5以上の炭化水素生産性は1.25(kg-炭化水素/kg-触媒/時間)、活性保持率は31.1%であった。Co、Zrを同時に担持することで、活性保持率は著しく低下した。
表2のJに示すようなCo、Zrを同時に担持して乾燥処理、焼成処理後、還元処理、パッシベーションを施して調製した触媒を用いて、F-T合成反応を行ったところ、CO転化率76.5%、CH4選択率4.3%、CO2選択率1.0%、炭素数5以上の炭化水素生産性は1.21(kg-炭化水素/kg-触媒/時間)、活性保持率は25.0%であった。Co、Zrを同時に担持することで、活性保持率は著しく低下した。
表2のHに示すようなCo、Zrの担持の順を逆にして、最初にCoを担持して乾燥処理、焼成処理後、次いでZrを担持して乾燥処理、焼成処理、還元処理、パッシベーションを施して調製した触媒を用いて、F-T合成反応を行ったところ、CO転化率74.1%、CH4選択率4.9%、CO2選択率1.0%、炭素数5以上の炭化水素生産性は1.16(kg-炭化水素/kg-触媒/時間)、活性保持率は89.1%であった。最初にZrを担持して乾燥処理、焼成処理後、次いでCo担持して乾燥処理、焼成処理、還元処理、パッシベーションを施して調製した実施例7記載の触媒と比較すると、触媒組成は同様であるが、反応活性、耐水性試験における活性保持率は低下した。これは最初にZr、次いでCoを担持した触媒では、ジルコニウム酸化物が活性を示すコバルト粒子とシリカ担体の界面に存在することでコバルトの分散度が向上するとともに、副生水存在下におけるコバルトシリケート形成抑制機能を発現しているためと考えられる。ただし、比較例2のZrを担持しない触媒と比較すると、最初にCo、次いでZrを担持した触媒でも、活性は若干向上し、耐水性も向上しており、ジルコニウム酸化物による還元性雰囲気の保持が寄与しているものと推定される。
表1のBに示すような触媒を用いて、W/Fを1.5g・h/molの条件でF-T合成反応を行ったところ、CO転化率72.9%、CH4選択率4.2%、CO2選択率0.6%、炭素数5以上の炭化水素生産性は2.25(kg-炭化水素/kg-触媒/時間)であった。
内容積300mLのオートクレーブを用い、1gの触媒と50mLのn-C16を仕込んだ後、230℃、2.0MPa-Gの条件下、撹拌子を800min-1で回転させながら、最初はCO転化率が約60%になるようにW/FのF(合成ガス(H2/CO=2)流量)を調整し、24時間の安定運転後、CO転化率が90%を超えるようにW/FのFを減少させることでW/Fを増加し、触媒が活性低下し易い状態に保持した。この状態で24時間運転後、最初のW/Fに戻し触媒の活性低下を確認後、圧力は維持し、温度を150℃に降温して、水素を50ml/minで供給してin-situで触媒再生を行った。この状態で30時間保持した後、合成ガスを最初のW/Fとなるように供給して230℃に昇温し、F-T合成反応を行った。
表3のLに示すような触媒を用いて、F-T合成反応を行ったところ、CO転化率81.6%、CH4選択率4.6%、CO2選択率1.5%、炭素数5以上の炭化水素生産性は1.22(kg-炭化水素/kg-触媒/時間)、活性保持率は77.7%であった。
表3のMに示すような触媒を用いて、F-T合成反応を行ったところ、CO転化率69.5%、CH4選択率5.3%、CO2選択率0.9%、炭素数5以上の炭化水素生産性は1.07(kg-炭化水素/kg-触媒/時間)、活性保持率は75.6%であった。
表3のNに示すような触媒を用いて、F-T合成反応を行ったところ、CO転化率55.2%、CH4選択率6.2%、CO2選択率1.4%、炭素数5以上の炭化水素生産性は0.81(kg-炭化水素/kg-触媒/時間)、活性保持率は80.9%であった。
表3のOに示すような触媒を用いて、F-T合成反応を行ったところ、CO転化率32.3%、CH4選択率8.0%、CO2選択率1.1%、炭素数5以上の炭化水素生産性は0.46(kg-炭化水素/kg-触媒/時間)、活性保持率は85.8%であった。
表3のPに示すような触媒を用いて、F-T合成反応を行ったところ、CO転化率24.1%、CH4選択率7.3%、CO2選択率1.5%、炭素数5以上の炭化水素生産性は0.34(kg-炭化水素/kg-触媒/時間)、活性保持率は82.9%であった。
表3のQに示すような触媒を用いて、F-T合成反応を行ったところ、CO転化率8.3%、CH4選択率9.0%、CO2選択率1.5%、炭素数5以上の炭化水素生産性は0.12(kg-炭化水素/kg-触媒/時間)、活性保持率は81.1%であった。
表3のLに示すような触媒を用いて、実施例13に示す触媒再生実験を行ったところ、最初のCO転化率は62.4%、高いW/Fにおける活性低下後のCO転化率は36.3%、水素による再生後のCO転化率は41.4%であった。高いW/F条件に触媒を曝すことで活性低下し、CO転化率は26.1%減少したが、水素による再生によってCO転化率は5.1%回復した。
表3のNに示すような触媒を用いて、実施例13に示す触媒再生実験を行ったところ、最初のCO転化率は60.2%、高いW/Fにおいて活性低下後、再度最初のW/Fに設定した際のCO転化率は37.5%、水素による再生後のCO転化率は42.7%であった。高いW/F条件に触媒を曝すことで活性低下し、CO転化率は22.7%減少したが、水素による再生によってCO転化率は5.2%回復した。
Claims (23)
- シリカを主成分とする触媒担体に、コバルト金属又はコバルト金属及びコバルト酸化物、並びにジルコニウム酸化物を担持してなる触媒であって、該触媒の不純物含有量が0.01質量%〜0.15質量%であることを特徴とする合成ガスから炭化水素を製造する触媒。
- 前記触媒の不純物が、ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウム、並びに、鉄の単体及び化合物であることを特徴とする請求項1に記載の合成ガスから炭化水素を製造する触媒。
- 前記触媒中の不純物含有量が0.01質量%〜0.03質量%であることを特徴とする請求項1又は2に記載の合成ガスから炭化水素を製造する触媒。
- 前記触媒中のコバルト金属又はコバルト金属及びコバルト酸化物の担持率がコバルト金属換算で5〜50質量%、ジルコニウム酸化物の担持量がZr/Coのモル比で0.03〜0.6であることを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載の合成ガスから炭化水素を製造する触媒。
- 前記触媒担体中に含まれる不純物のうちアルカリ金属又はアルカリ土類金属の含有量が、0.1質量%以下であることを特徴とする請求項1〜4の何れか1項に記載の合成ガスから炭化水素を製造する触媒。
- 前記触媒担体中に含まれる不純物のうち、ナトリウム、カリウム、カルシウム、及びマグネシウムの含有量が、それぞれ0.02質量%以下であることを特徴とする請求項1〜4の何れか1項に記載の合成ガスから炭化水素を製造する触媒。
- 前記触媒担体が球状であることを特徴とする請求項1〜6の何れか1項に記載の合成ガスから炭化水素を製造する触媒。
- 請求項1〜7の何れか1項に記載の触媒を製造する方法であって、シリカを主成分とする触媒担体に、含浸法、インシピエントウェットネス法、沈殿法、又はイオン交換法を用いて、コバルト化合物及びジルコニウム化合物を同時に担持させ、その後、還元処理、又は焼成処理及び還元処理を行って製造することを特徴とする合成ガスから炭化水素を製造する触媒の製造方法。
- 請求項1〜7の何れか1項に記載の触媒を製造する方法であって、シリカを主成分とする触媒担体に、含浸法、インシピエントウェットネス法、沈殿法、又はイオン交換法を用いて、コバルト化合物、ジルコニウム化合物をそれぞれ別々に担持させ、その際、最初の化合物の担持後に、乾燥処理、又は乾燥処理及び焼成処理を行い、残りの化合物の担持後に、還元処理、又は焼成処理及び還元処理を行って製造することを特徴とする合成ガスから炭化水素を製造する触媒の製造方法。
- 前記それぞれ別々に担持させる化合物において、最初に担持する化合物がジルコニウム化合物、残りの担持する化合物がコバルト化合物であることを特徴とする請求項9に記載の合成ガスから炭化水素を製造する触媒の製造方法。
- 前記担持させるコバルト化合物及びジルコニウム化合物が、前記含浸法、インシピエントウェットネス法、沈殿法、又はイオン交換法における製造原料において、アルカリ金属又はアルカリ土類金属を0〜5質量%の範囲で含有することを特徴とする請求項8〜10のいずれか1項に記載の合成ガスから炭化水素を製造する触媒の製造方法。
- 前記シリカを主成分とする触媒担体は、珪酸アルカリ水溶液と酸水溶液とを混合して生成させたシリカゾルをゲル化し、酸処理、水洗処理の少なくともいずれかを行った後、乾燥させて製造することを特徴とする請求項8〜11のいずれか1項に記載の合成ガスから炭化水素を製造する触媒の製造方法。
- 前記シリカゾルのゲル化後の酸処理、水洗処理の少なくともいずれかにおいて、アルカリ金属又はアルカリ土類金属の含有量が0〜0.06質量%である水を用いることを特徴とする請求項12記載の合成ガスから炭化水素を製造する触媒の製造方法。
- 前記ゲル化は、前記シリカゾルを、気体媒体中又は液体媒体中に噴霧させて球状に成形して成すことを特徴とする請求項12又は13に記載の合成ガスから炭化水素を製造する触媒の製造方法。
- 前記シリカを主成分とする担体に、水、酸、アルカリのうち少なくとも何れかによる洗浄を施して不純物濃度を低下させてから、前記コバルト化合物及び前記ジルコニウム化合物を担持させることを特徴とする請求項8〜14のいずれか1項に記載の合成ガスから炭化水素を製造する触媒の製造方法。
- 前記洗浄が、酸又はイオン交換水の一方又は双方を用いた洗浄である請求項15に記載の合成ガスから炭化水素を製造する触媒の製造方法。
- 請求項1〜7の何れか1項に記載の触媒を用いて合成ガスから炭化水素を製造する方法であって、スラリー床を用いた液相反応で合成することを特徴とする合成ガスから炭化水素を製造する方法。
- 請求項1〜7の何れか1項に記載の触媒を用いて合成ガスから炭化水素を製造する方法であって、外部循環方式のスラリー床を用いた液相反応で合成することを特徴とする合成ガスから炭化水素を製造する方法。
- 前記液相反応において、触媒量、原料ガス供給量、反応温度、反応圧力を調整し、ワンパスCO転化率を40〜95%とすることを特徴とする請求項17又は請求項18に記載の合成ガスから炭化水素を製造する方法。
- 前記液相反応において、触媒量、原料ガス供給量、反応温度、反応圧力を調整し、ワンパスCO転化率を60〜95%とすることを特徴とする請求項17又は請求項18に記載の合成ガスから炭化水素を製造する方法。
- 請求項1〜7の何れか1項に記載の触媒を用いて合成ガスから炭化水素を製造した後、活性低下した触媒を再生する方法であって、前記活性低下した触媒に水素を含む再生ガスを供給して、前記触媒と再生ガスを接触させることを特徴とする触媒の再生方法。
- 請求項1〜7の何れか1項に記載の触媒を反応器に充填し、当該反応器内で合成ガスから炭化水素を製造した後、活性低下した触媒を再生する方法であって、前記反応器に水素を含む再生ガスを供給し、前記触媒と再生ガスを接触させることを特徴とする触媒の再生方法。
- 請求項18記載の方法により合成ガスから炭化水素を製造した後、活性低下した触媒を再生する方法であって、外部循環部分の何れかに水素を含む再生ガスを供給し、前記触媒と再生ガスを接触させることを特徴とする触媒の再生方法。
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