JP2008068612A - ナノインプリント用モールド及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の実施形態に係るナノインプリント用モールドは、基板、基板上に形成された凹凸パターンを有するパターン部、パターン部の表面の上にパターン部より硬度の高い材質で形成された硬質層、及び硬質層の表面の上に形成された離型層を含む。本発明によれば、屈曲がある基板にも元のパターンが均一に転写され、かつ、圧力による損傷及びレジンによる汚染が発生しなくて、パターンの精度が高くて、耐久性が向上する効果がある。
【選択図】図1
Description
111 緩衝層
113 凹凸パターン
110 パターン部
120 硬質層
130 離型層
140 ポリマー層
Claims (15)
- 基板と、
前記基板上に形成された凹凸パターンを有するパターン部と、
前記パターン部の表面の上に前記パターン部より硬度の高い材質で形成された硬質層と、
前記硬質層の表面の上に形成された離型層と、
を含むことを特徴とするナノインプリント用モールド。 - 前記基板の材質は、紫外線に対して透過性があることを特徴とする請求項1記載のナノインプリント用モールド。
- 前記パターン部は、前記基板の全面を覆っている緩衝膜上に一体型で凹凸パターンが形成されたことを特徴とする請求項1記載のナノインプリント用モールド。
- 前記パターン部の材質は、紫外線硬化ポリマーであることを特徴とする請求項1記載のナノインプリント用モールド。
- 前記硬質層の材質は、シリコン酸化膜、またはITOであることを特徴とする請求項1記載のナノインプリント用モールド。
- 前記硬質層の材質は、Al、Cr、Ta、またはNiであることを特徴とする請求項1記載のナノインプリント用モールド。
- 前記離型層は、オルガノシリコン系列の有機単分子膜であることを特徴とする請求項1記載のナノインプリント用モールド。
- 前記硬質層は、シリコン酸化膜であり、前記離型層は、オルガノシリコン系列の有機単分子膜であることを特徴とする請求項1記載のナノインプリント用モールド。
- 前記有機単分子膜は、FOTS、FDTS、OTS、またはDDMSであることを特徴とする請求項8記載のナノインプリント用モールド。
- 基板の上にポリマー層が形成される段階と、
前記基板の上に所定のマスターモールドを覆って、紫外線を照射して、前記ポリマー層の上部にナノスケールの凹凸パターンが形成される段階と、
前記凹凸パターンの表面に前記ポリマー層より硬度の高い物質で形成された硬質層が形成される段階と、
前記硬質層の表面に離型層が形成される段階と、
を含むことを特徴とするナノインプリント用モールドの製造方法。 - 前記凹凸パターンは、マスターモールドのナノパターンが転写されて形成されることを特徴とする請求項10記載のナノインプリント用モールドの製造方法。
- 前記硬質層の表面に離型層が形成される段階において、前記硬質層の表面が酸素プラズマ、紫外線、またはオゾンで処理されることを特徴とする請求項10記載のナノインプリント用モールドの製造方法。
- 前記基板の上にポリマー層が形成される前に、前記基板の表面処理を実施する段階を含むことを特徴とする請求項10記載のナノインプリント用モールドの製造方法。
- 前記表面処理は、基板の材質が石英またはガラスである場合に、トリアルコキシシラン系の接着促進剤またはHMDSを基板の上にコーティングすることを特徴とする請求項13記載のナノインプリント用モールドの製造方法。
- 前記表面処理は、基板の材質がPETまたはPCである場合、基板の表面を紫外線で照射することを特徴とする請求項13記載のナノインプリント用モールドの製造方法。
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