JP2007531955A - 限定再生型光記憶媒体及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

一実施形態では、反射層（８）と、光学的に透明なポリマー樹脂と吸光物質を含む制御部分であって、当該制御部分が６５０ｎｍで約７０％以上の光透過率、約０．１以上の硬化指数、及び約２．５以上の濾光指数を有すると共に、吸光物質が（ＣＨ_２Ｃｌ_２溶液中で測定して）６００ｎｍで１５００ｍｏｌ^−１・ｃｍ^−１・Ｌ以上の最小吸光係数、（ＣＨ_２Ｃｌ_２溶液中で測定して）６５０ｎｍで約１０００ｍｏｌ^−１・ｃｍ^−１・Ｌ未満の最大吸光係数、及び６５０ｎｍ／６００ｎｍで約０．１未満の吸光係数比を有する、制御部分と、反射層（８）と制御部分との間に配設された反応層（９）であって、酸素暴露後に（反応層（９）の制御部分とは反対側に配置された）媒体上のデータにアクセスできる時間を限定するように設計された反応層（９）とを含んでなるデータ用限定再生型光記憶媒体が開示される。
【選択図】 図１

Description

本発明は、限定再生型光記憶媒体及びその製造方法に関する。

光情報記憶媒体は、音楽、コンピュータープログラム、映画、オーディオブックなどのデータの記憶に多用されている。情報記憶媒体は長い有効寿命を有することが一般に望ましいが、ある種の用途では記憶媒体の寿命を限定することが時には望ましい。例えば、ソフトウェアの購入を勧誘するため、サンプル用コンピュータープログラムが潜在的な顧客にしばしば提供される。これらのプログラムは、所有権者の知的所有権を保護するため、限定された期間だけ使用するように想定されている。さらに、現在では、音楽及び映画は限定された期間だけ顧客にレンタルされており、その後に返却する必要がある。また、映画スタジオ及び音楽産業の側からは、それぞれ映画及び音楽の著作権侵害を最小限に抑えることが要望されている。上述の用途の各々では、情報記憶媒体を積極的に利用できる期間を最小にし、それ以後は媒体を使用不可能にすることが望ましいであろう。

限定再生型媒体が実用可能な製品であるためには、最初に使用するときにそれが十分な品質を有していなければならない。次いで、品質が低下して所定の期間後に使用不可能になる必要がある。最後に、ひとたび使用不可能になったら、限定再生機能性を無効化できてはならない。光ディスクに限定再生性を付与する方法が顧客又は零細企業によって容易に無効化し得るならば、情報記憶媒体はもはや「限定再生型」でなくなる。例えば、被膜又は材料が光ディスクを再生不可能にしている場合には、その被膜及び／又は材料を単に除去又は変性するだけで、非限定再生可能性をもったディスクを得ることができる。したがって、容易に無効化されることなく光情報記憶媒体で限定再生特性を達成することが、広く追求されている特性である。
米国特許第３５０７６０６号明細書 米国特許第３６３５８９５号明細書 米国特許第３６４６０７１号明細書 米国特許第３６９７３９５号明細書 米国特許第３６９７４０２号明細書 米国特許第３７６８９７６号明細書 米国特許第３８８０８６９号明細書 米国特許第３９２３４５４号明細書 米国特許第４００１１８４号明細書 米国特許第４１２８３９６号明細書 米国特許第４１７９５４８号明細書 米国特許第４２１７４３８号明細書 米国特許第４２２０７０７号明細書 米国特許第４３３２８８０号明細書 米国特許第４４０４２５７号明細書 米国特許第４４９１５０８号明細書 米国特許第４５２３２０８号明細書 米国特許第４５７１６０５号明細書 米国特許第４８９１８００号明細書 米国特許第５３６８９８８号明細書 米国特許第５５３００８３号明細書 米国特許第５５５８８０８号明細書 米国特許第５５８３０４７号明細書 米国特許第５６２０８３９号明細書 米国特許第５７５３４１３号明細書 米国特許第５８１５４８４号明細書 米国特許第５８８２３５８号明細書 米国特許第６０１１７７２号明細書 米国特許第６１１７２８４号明細書 米国特許第６１３６３４７号明細書 米国特許第６１６８８４４号明細書 米国特許第６２２８４４０号明細書 米国特許第６３３８９３３号明細書 米国特許第６４７５５８８号明細書 米国特許第６４７５５８９号明細書 米国特許出願公開第２００３／０００２４３１号明細書 米国特許出願公開第２００３／０１９８８９２号明細書 米国特許出願公開第２００３／０２０５３２３号明細書 米国特許出願公開第２００５／００１３２３２号明細書 欧州特許出願公開第０４５５５８５号明細書 欧州特許出願公開第０６５８８０４号明細書 欧州特許出願公開第０８３１４７３号明細書 国際公開第９６／３９６９３号パンフレット 国際公開第９６／４０８５０号パンフレット 国際公開第９８／１１５３９号パンフレット 国際公開第９８／４１９７９号パンフレット 国際公開第０２／２９８０１号パンフレット 国際公開第０２／４９０１０号パンフレット 国際公開第０２／７５７３３号パンフレット 特開昭５５−０３０６０５号公報 特開昭６０−２１３９３８号公報 特開昭６０−０９３９８３号公報 特開平０５−２７３６９１号公報 特開平０６−６０４２２号公報 豪州特許第１９９６５７９０８号明細書 英国特許第１０６１９４８号明細書 独国特許第２２２２０５号明細書 ポーランド特許第１７０６３２号明細書 Ｆｌｅｘ Ｐｌａｙ Ｃｏａｔｉｎｇ Ｒｅｃｉｐｅ、Ａｐｒｉｌｉｓ、Ｉｎｃ． ａｎｄ Ｆｌｅｘ Ｐｌａｙ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ、Ｉｎｃ．、Ｒｉｃｈａｒｄ Ｍｉｎｕｓ、０３／２９／００ ｗｙｓｉｗｙｇ：／／１１９／ｈｔｔｐ：／／ｗｗｗ．ｍａｔｗｅｂ．．．．ｃＭａｔｅｒｉａｌＰｒｉｎｔ．ａｓｐ？ｂａｓｓｎｕｍ＝Ｃ、ＭａｔＷｅｂ．ｃｏｍ、Ｔｈｅ Ｏｎｌｉｎｅ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｄａｔａｂａｓｅ Ｏｖｅｒｖｉｅｗ − Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ、Ｏｐｔｉｃａｌ Ｇｒａｄｅ ＥＣＭＡ、Ｓｔａｎｄａｒｄｉｚｉｎｇ Ｉｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ ａｎｄ Ｃｏｍｍｕｎｉｃａｔｉｏｎ Ｓｙｓｔｅｍｓ、Ｓｔａｎｄａｒｄ ＥＣＭＡ − ２６７、３ｒｄ Ｅｄｉｔｉｏｎ − Ａｐｒｉｌ ２００１ Ａｒｉｅｎｔ、Ｊ． ａｎｄ Ｓｌａｖｉｋ、Ｖ．、Ｃｏｌｌｅｃｔ． Ｃｚｅｃｈ Ｃｏｍｍｕｎ．、３４、Ｆｅｂｒｕａｒｙ １３、１９６９、３５８２、"Ａｎｔｈｒａｑｕｉｎｏｎｅ Ｄｙｅｓ−Ｃｙｃｌｉｓａｔｉｏｎ ｏｆ １−Ｐｈｅｎｙｌａｍｉｎｏａｎｔｈｒａｑｕｉｎｏｎｅ Ｄｅｒｉｖａｔｉｖｅ ｉｎ Ａｌｕｍｉｎｕｍｃｈｌｏｒｉｄｅ Ｍｅｌｔ．" Ｌｏｒｄ、Ｗ．Ｍａｒｉｎ ａｎｄ Ａｒｎｏｌｄ Ｔ．Ｐｅｔｅｒｓ、Ｓｃｈｏｏｌ ｏｆ Ｃｏｌｏｕｒ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ、Ｔｈｅ Ｕｎｉｖｅｒｓｉｔｙ、Ｂｒａｎｄｆｏｒｄ ＢＤ７１ＤＰ、"Ｎｅｗ Ｉｎｔｅｒｍｅｄｉａｔｅｓ ａｎｄ Ｄｙｅｓｔｕｆｆ ｆｏｒ Ｓｙｎｔｈｅｔｉｃ Ｆｉｂｅｒｓ、Ｐａｒｔ ＶＩ．１−Ａｒｙｌ−ａｍｉｎｏａｎｔｈｒａｑｕｉｎｏｎｅｓ＞" Ｊ． Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ、Ｐｅｒｋｉｎ Ｔｒａｎ．（１９７０）、２０、２３０５−８ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ａｂｓｔｒａｃｔｓ、Ｖｏｌｕｍｅ １２６、Ｎｏ．２０、１９ Ｍａｙ １９９７、Ｃｏｌｕｍｂｕｓ、Ｏｈｉｏ．、Ａｂｓｔｒａｃｔ Ｎｏ．２６３９３１、Ｗａｌｃｚａｋ、Ａｎｔｏｎｉ ｅｔ ａｌ．、"Ｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎ ｏｆ ４−ｐｈｅｎｙｌｂｅｎｚｏｐｈｅｎｏｎｅ" Ｐ．Ｓｅｓｅｒｋｏ、ｅｔ ａｌ．"Ｔｒａｎｓｐａｒｅｎｔ Ｂａｒｒｉｅｒ Ｃｏａｔｉｎｇｓ ｂｙ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｂｅａｍ Ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎ−Ａｎ Ｕｐｄａｔｅ，" ４１ｓｔ Ａｎｎｕａｌ Ｔｅｃｈｎｉｃａｌ Ｃｏｎｆｅｒｅｎｃｅ Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ． Ｓｏｃ．ｏｆ Ｖａｃｕｕｍ Ｃｏａｔｅｒｓ、Ａｌｂｕｑｕｅｒｑｕｅ、ＮＭ、ＵＳＡ（１９９８）ＩＳＳＮ ０７３７−５９２１．ｐｐ．４２４−４２８ Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ ｏｆ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ ａｎｄ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ、Ｖｏｌ．１、Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ、Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ、Ｉｎｃ．、１９６４、ｐｐ．２４６、ｅｔ ｓｅｑ．

本明細書中には、限定再生型光記憶媒体、その製造方法、及び情報記憶媒体での限定再生方法の実施形態が開示されている。一実施形態では、データ用限定再生型光記憶媒体は、反射層と、光学的に透明なポリマー樹脂と吸光物質を含む制御部分であって、当該制御部分が６５０ｎｍで約７０％以上の光透過率、約０．１以上の硬化指数、及び約２．５以上の濾光指数を有すると共に、吸光物質が（ＣＨ_２Ｃｌ_２溶液中で測定して）６００ｎｍで１５００ｍｏｌ^−１・ｃｍ^−１・Ｌ以上の最小吸光係数、（ＣＨ_２Ｃｌ_２溶液中で測定して）６５０ｎｍで約１０００ｍｏｌ^−１・ｃｍ^−１・Ｌ未満の最大吸光係数、及び６５０ｎｍ／６００ｎｍで約０．１未満の吸光係数比を有する、制御部分と、反射層と制御部分との間に配設された反応層であって、酸素暴露後に（反応層の制御部分とは反対側に配設された）媒体上のデータにアクセスできる時間を限定するように設計された反応層とを含んでなる。

一実施形態では、限定再生型光記憶媒体の製造方法は、ポリマー樹脂と吸光物質とを混合して制御組成物を形成し、制御組成物から、６５０ｎｍで約７０％以上の光透過率、約０．５以上の硬化指数、及び約２．５以上の濾光指数を有する制御部分であって、吸光物質が（ＣＨ_２Ｃｌ_２溶液中で測定して）６００ｎｍで１５００ｍｏｌ^−１・ｃｍ^−１・Ｌ以上の最小吸光係数、（ＣＨ_２Ｃｌ_２溶液中で測定して）６５０ｎｍで約１０００ｍｏｌ^−１・ｃｍ^−１・Ｌ未満の最大吸光係数、及び６５０ｎｍ／６００ｎｍで約０．１未満の吸光係数比を有する制御部分を形成し、制御部分の一方の側に反射層及び反応層を配設すると共に、反応層が制御部分と反射層との間に配設され、反応層が酸素暴露後に（反応層の制御部分とは反対側に配設された）媒体上のデータにアクセスできる時間を限定するように設計されることを含んでなる。

上記その他の特徴は、以下の図面及び詳しい説明によって例示される。

図面の簡単な説明
次に、例示的であって限定的ではない図面について述べる。

図１は、限定再生型情報記憶媒体の１つの可能な構成を示す。

図２は、ベンゾピランレッドのＮＭＲスペクトルを示すグラフである。

図３は、ベンゾピランレッドの赤外スペクトルを示すグラフである。

図４は、単一の反射データ層及び単一の読出し側を有するＤＶＤ構造（ＤＶＤ−５構成）の略図である。

図５は、基板の中心の両側に配設された２つの反射データ層であって、各々が基板の相異なる側から読出し可能である２つの反射データ層を有するＤＶＤ構造（ＤＶＤ−１０構成）の略図である。

図６は、接着層の両側に配設された２つの反射データ層であって、両方が基板の同じ側から読出し可能である２つの反射データ層を有するＤＶＤ構造（標準ＤＶＤ−９構成）の略図である。

図７は、接着層の同じ側に配設された２つの反射データ層であって、両方が基板の同じ側から読出し可能である２つの反射データ層を有するＤＶＤ構造（「特殊」ＤＶＤ−９及びＤＶＤ−１４構成）の略図である。

図８は、２つずつが（接着層）の各側に配設され、２つずつが基板の各側から読出し可能である４つの反射データ層を有するＤＶＤ構造の略図である。

１つのタイプの限定再生型媒体では、反応性染料が使用される。例えば、反応性染料層は、酸素に暴露された場合に所望のレーザー波長での光学的性質を変化させる染料であり得る。即ち、酸化後には、反応性染料層はレーザー波長でメディアプレーヤーからの読出しを防止するのに十分な吸収を生み出す。可能な染料には、縮合環であり得る各種の置換基を任意に含むアジン系（チアジン、オキサジンなどを含む）のものがある。例えば、反応性染料は、酸素暴露後に徐々に酸化されて約６５０ナノメートル（ｎｍ）の読出しレーザー波長で吸光性となるロイコメチレンブルーから導くことができる。６５０ナノメートルの読出しレーザー波長で一定の吸光レベルを超えると、情報記憶媒体は読出し不可能になる。残念ながら、酸化したメチレンブルー層は光（例えば、日光、紫外線ランプなど）に暴露された場合に限られた安定性を有していて分解し始め、６５０ナノメートルの波長での吸光性が低下する。６５０ナノメートルでの吸光性が着実に低下すると、記憶媒体は再び読出し可能となる。このように、光情報記憶媒体が長期間にわたって光に暴露されれば、それは無効化される可能性がある。

本明細書中には、限定再生型光情報記憶媒体が開示される。かかる媒体は、基板、反応層、（任意にデータを含む）反射層、及び保護層又は追加の基板を含み得る。本質的に、反応層は反射層と媒体の読出面（即ち、媒体からの読出しを行う表面）との間に配設される。保護層及び／又は追加の基板（以後は「制御部分」という）は、反応層の反射層とは反対側に配設される（即ち、制御部分は光源と反応層との間に配設され、反応層は光源と反射層との間に配設される）。任意には、反応層の制御部分とは反対側にデータを配設できる。

言うまでもなく、様々なタイプの媒体（例えば、様々なタイプのディジタルヒデオ録画（ＤＶＤ））が存在しており、その若干例を図４〜８に示す。単一の層を読出面から読み出す場合（例えば、ＤＶＤ５、ＤＶＤ１０）では、スパッタリング又は他の蒸着方法により、スタンプ面が薄い反射データ層で覆われる（図４及び５を参照されたい）。同じ読出面７から読み出される二層ＤＶＤ（例えば、ＤＶＤ９、ＤＶＤ１４、ＤＶＤ１８）に関しては、第一の層を読み出す場合にはレーザーを第一の層から反射させなければならないが、第二の層を読み出す場合には第一の層を透過して集束させなければならない（ＤＶＤ９、ＤＶＤ１４及びＤＶＤ１８をそれぞれ示す図６、７及び８を参照されたい）。したがって、第一の層は半透明（即ち、半反射性）であるのに対し、第二の層は「全反射性」である。

「全反射性」層上の金属被膜の厚さに応じ、特に４５０ｎｍの波長では、若干の光が層を透過し得る。読出面の反対側から基板を透過する最大光量が約３００〜約８００ｎｍの範囲内の任意の波長で約５％以上である場合には、十分な無効化防止を保証するため、反応層の両側に制御部分を設けることが好ましい。透過率が約３％以上である場合には両側に制御部分を設けることがさらに好ましく、透過率が約１％以上である場合にはさらに一段と好ましい。

制御部分は、約４５０〜約６００ナノメートル（ｎｍ）の波長での光暴露による限定再生機能性の無効化を防止できる吸光物質を含んでいる。好ましくは、制御部分は約４５０〜約６５０ｎｍの波長での光暴露による限定再生機能性の無効化を防止できる。その吸光特性の結果として、一実施形態では、この制御部分は赤色、マゼンタ色又は紫色を有するのが通例である。しかし、６５０ｎｍを超える可視波長をカバーする吸光物質が添加されるならば、制御部分は黒色のような他の暗色も有し得ることに注意されたい。所望の吸光性能の選択は、限定再生機能性を無効化し得る波長での十分な吸光性能と、製造中に記憶媒体との適正な光硬化を可能にすることとのバランスである。換言すれば、吸光物質は、媒体を読み出すために使用するエネルギー（例えば、光）の透過を許しながら反応層の機能性を低下させ得る光を吸収できるものである。好ましくは、ディスクの再生可能性に関係する６５０ｎｍ／６００ｎｍでの吸光度比が約０．１以下であり、約０．０５以下の吸光度比が好ましく、約０．０２以下の吸光度比がさらに好ましい。

例えば、媒体の制御部分（厚さ０．６０ミリメートル（ｍｍ）の基板の形態を有する場合）は、約５００〜約６００ｎｍの波長で約３０％以下の光透過率を有しながら、読出波長での光透過を可能にする（例えば、約６５０ナノメートル（ｎｍ）の波長で約７０％以上の光を透過させる）。好ましくは、厚さ０．６０ミリメートル（ｍｍ）の基板の形態を有する場合の制御部分は、約６００ｎｍの波長で約３０％以下の光透過率を有すると共に、約５５０ｎｍの波長では約５％以下の光透過率を有するのが好ましく、さらに好ましくは約３％以下、さらに一段と好ましくは約１％以下である。また、制御部分はあらゆる加工温度及び使用温度で安定であるべきである。

好ましい制御部分特性は、さらに、硬化指数及び濾光指数に関して記述することができる。硬化指数は下記の式（１）に従って計算した。

式中、
％Ｔ_{ｃｏｌｏｒ}（λ）は、吸光物質を有する制御部分を含むディスク基板の各波長λ（ｎｍ）での光透過率を表す。

％Ｔ_{ｃｌｅａｒ}（λ）は、吸光物質が存在しない参照ディスク基板（例えば、透明ポリカーボネート基板）の各波長λ（ｎｍ）での光透過率を表す。

λは波長（ｎｍ）を表す。

ランプエネルギー（λ）は、実施例１０に説明するようにして計算した各波長での有効ランプエネルギーを表す。

約０．１以上の硬化指数が使用でき、約０．５以上が好ましく、約５以上がさらに好ましく、約１０以上がさらに一段と好ましく、約２０以上が特に好ましい。

制御部分の光漂白保護効率は、下記の式（２）に示すようにして計算される光漂白濾光指数で表すことができる。

式中、
％Ｔ_{ｃｏｌｏｒ}（λ）は、吸光物質を有する制御部分を含むディスク基板の各波長λ（ｎｍ）での光透過率を表す。

％Ｔ_{ｃｌｅａｒ}（λ）は、吸光物質が存在しない参照ディスク基板（例えば、透明ポリカーボネート基板）の各波長λ（ｎｍ）での光透過率を表す。

濾光指数は、例えば、樹脂組成物の濾光力を記述するものであって、無色の参照基板を通過する（４００ｎｍから６５０ｎｍまでのあらゆる波長での）全透過光の和を、着色基板（即ち、初期状態にある制御部分基板のみ（例えば、吸光物質を含むハーフディスク））を通過する（４００ｎｍから６５０ｎｍまでのあらゆる波長での）透過光の和で割った値である。約２．５以上の濾光指数が所望されるが、約４．０以上が好ましく、約５．０以上がさらに好ましく、約６．０以上がさらに一段と好ましく、約７．０以上が特に好ましい。

制御部分の追加の好ましい特徴は、光漂白（即ち、限定再生機能性の光劣化）を阻止できる吸光度（「Ａｂｓ」）比である。この吸光度比は、２つの基本波長（即ち、光漂白に対する制御波長（分子）及び硬化波長（分母））で透過モードで測定した制御部分の吸光度（又は光学濃度）の比（例えば、Ａｂｓ＠６００ｎｍ／Ａｂｓ＠３６５ｎｍ又はＡｂｓ＠６００ｎｍ／Ａｂｓ＠４００ｎｍ）である。反応層の所望の保護を達成するためには、制御部分を形成するために使用する吸光物質の１種以上が約３以上の吸光度比を有することが好ましい。この場合の吸光度比は、６００ｎｍ（即ち、光漂白に対する制御波長）と（使用する硬化装置に応じて）３６５ｎｍ又は４００ｎｍの光波長との比である。通例、かかる比はジクロロメタン（ＣＨ_２Ｃｌ_２）溶液中で測定されるが、プラスチック中での測定も可能である。６００ｎｍの制御波長は、情報記憶媒体（例えば、光ディスク、特にＤＶＤ）に関して上述した特定の実施形態では、制御部分の透過率は好ましくは６５０ｎｍで最大になる一方、最低の透過率は好ましくは６５０ｎｍ未満で達成されるという事実に基づいて選択されたことに注意されたい。６５０ｎｍの付近の波長での急激なスペクトル変化はかなり珍しいので、反応層の光漂白によって引き起こされる無効化からの保護能力に関して制御部分のスペクトル特性（例えば、赤色、マゼンタ色及び／又は紫色）を定義するためには、６００ｎｍは有用な波長であると思われた。

約６５０ｎｍの波長で読み出される記憶媒体に関しては、制御部分（好ましくは吸光物質）は６００ｎｍ／３６５ｎｍ（又は６００ｎｍ／４００ｎｍ）で約２以上、好ましくは約３以上、さらに好ましくは約５以上、さらに一段と好ましくは約１０以上、なお一層好ましくは約２０以上の吸光度比を有することが望ましい。また、吸光物質は６００ｎｍ／４００ｎｍで約０．１５以下、好ましくは約０．１０以下、さらに好ましくは約０．０７５以下、さらに一段と好ましくは約０．０５以下の吸光度比を有することも望ましい。特記しない限り、すべての吸光度比は、１センチメートル（ｃｍ）の光路長について０．８〜１．２単位の最大吸収を与える染料濃度で複光束分光光度計を用いて測定される。

さらに、吸光物質は媒体に追加の限定再生機能性を付与すること（即ち、所望波長（例えば、読出波長）での吸光物質の透過率が時間と共に減少すること）が好ましい。例えば、１，８−ビス（シクロヘキシルアミノ）アントラキノンは日光への暴露後に６５０ｎｍでのパーセント透過率の低下を示す。かかる吸光物質（及び類似の性質を有する他の吸光物質）は、光漂白保護をもたらすばかりでなく、媒体の読出し可能性を低下させることに積極的に貢献することで固有の無効化保護ももたらす「活性」物質である。

図１について説明すれば、光情報記憶媒体の１つの可能な構成では、ディジタル・バーサタイル・ディスク（例えば、ＤＶＤ−５）１は、通例はそれぞれ約０．３０〜約１．０ｍｍの厚さを有する２つの結合されたプラスチック基板（又は樹脂層）３、５を含んでいる。この範囲内では、約０．７ｍｍ以下の厚さが一般に好ましい。また、約０．４ｍｍ以上の厚さも好ましい。第一の基板は、一般にデータ層７の一方の側に配設された反射層８（例えば、反射層はピット及び溝を有している）を含むと共に、一般にディスクの限定再生特性を可能にし、所望ならば２つの基板を結合するためにも役立ち得る反応層９を含んでいる。反応層９は、一般に２つの基板３、５の間に配設されるか、又は基板３と被膜（図示せず）との間に配設される。反応層９は、媒体１からデータを読み出す際にレーザーが通過する基板表面１１と反対側に位置する基板５（読出側基板としても知られる）の読出面上に配設されている。

基板を形成するために使用できるポリマー樹脂は、非晶質、結晶質及び半結晶質の熱可塑性材料であり得る。かかる熱可塑性材料には、特に限定されないが、ポリ塩化ビニル、ポリオレフィン（特に限定されないが、線状及び環状ポリオレフィンを包含し、ポリエチレン、塩素化ポリエチレン、ポリプロピレンなどを含む）、ポリエステル（特に限定されないが、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリシクロヘキシルメチレンテレフタレートなどを含む）、ポリアミド、ポリスルホン（特に限定されないが、水素化ポリスルホンなどを含む）、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ＡＢＳ樹脂、ポリスチレン（特に限定されないが、水素化ポリスチレン、シンジオタクチック及びアタクチックポリスチレン、ポリシクロヘキシルエチレン、スチレン−コ−アクリロニトリル、スチレン−コ−無水マレイン酸などを含む）、ポリブタジエン、ポリアクリレート（特に限定されないが、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、メチルメタクリレート−ポリイミドコポリマーなどを含む）、ポリアクリロニトリル、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリフェニレンエーテル（特に限定されないが、２，６−ジメチルフェノールから導かれたもの、２，３，６−トリメチルフェノールとのコポリマーなどを含む）、エチレン−酢酸ビニルコポリマー、ポリ酢酸ビニル、液晶ポリマー、エチレン−テトラフルオロエチレンコポリマー、芳香族ポリエステル、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、ポリ塩化ビニリデン、ポリテトラフルオロエチレンなど、並びにこれらのポリマー樹脂の１種以上を含む組合せのようなものがある。

読出側に位置する基板は、干渉（例えば、光の散乱、顕著な吸光など）を生じることなしにレーザーの透過を可能にすべきである。したがって、読出しのためにレーザーを透過しなければならない基板は、一般に非晶質であると共に光学的に透明である。ＤＶＤ−５又はＤＶＤ−９のような片面ＤＶＤフォーマットでは、読出側と反対の基板は不透明であってよい。かかる場合には、非読出側は非晶質、結晶質又は半結晶質であり得ると共に、レーザー波長での光学的透明性に関わらない。

基板に使用できる好ましいポリマー樹脂はポリカーボネートである。本明細書中で使用する「ポリカーボネート」、「ポリカーボネート組成物」及び「芳香族カーボネート連鎖単位を含む組成物」という用語は、下記の式（Ｉ）の構造単位を有する組成物を包含する。

式中、Ｒ^１基の総数の約６０％以上は芳香族有機基であり、その残部は脂肪族、脂環式又は芳香族基である。好ましくは、Ｒ^１は芳香族有機基であり、さらに好ましくは下記の式（II）の基である。

式中、Ａ^１及びＡ^２の各々は単環式二価アリール基であり、Ｙ^１はＡ^１とＡ^２とを隔てる０、１つ又は２つの原子を有する橋かけ基である。例示的な実施形態では、１つの原子がＡ^１とＡ^２とを隔てている。この種の基の実例は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｓ(Ｏ)−、−Ｓ(Ｏ_２)−、−Ｃ(Ｏ)−、メチレン、シクロヘキシルメチレン、２−[２．２．１]−ビシクロヘプチリデン、エチリデン、イソプロピリデン、ネオペンチリデン、シクロヘキシリデン、シクロペンタデシリデン、シクロドデシリデン、アダマンチリデンなどである。別の実施形態では、０の原子がＡ^１とＡ^２とを隔てており、その実例はビフェノール（ＯＨ−ベンゼン−ベンゼン−ＯＨ）である。橋かけ基Ｙ^１は、炭化水素基又は飽和炭化水素基（例えばメチレン、シクロヘキシリデン又はイソプロピリデン）であり得る。

ポリカーボネートは、カーボネート前駆体とジヒドロキシ化合物との界面反応で製造できる。通例、水性塩基（例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウムなど）が、ジヒドロキシ化合物を含む水不混和性有機溶媒（例えば、ベンゼン、トルエン、二硫化炭素又はジクロロメタン）と混合される。反応を促進するため、一般に相間移動触媒が使用される。反応混合物には、分子量調整剤を単独で又は混合して添加できる。後述のような枝分れ剤も、単独で又は混合して添加できる。

ポリカーボネートは、ただ１つの原子がＡ^１とＡ^２とを隔てているジヒドロキシ化合物の界面反応で製造できる。本明細書中で使用する「ジヒドロキシ化合物」という用語は、例えば、下記の一般式（III）を有するビスフェノール化合物を包含する。

式中、Ｒ^ａ及びＲ^ｂは各々独立に水素、ハロゲン原子又は一価炭化水素基を表し、ｐ及びｑは各々独立に０〜４の整数であり、Ｘ^ａは下記の式（IV）の基の１つを表す。

式中、Ｒ^ｃ及びＲ^ｄは各々独立に水素原子又は一価線状若しくは環状炭化水素基を表し、Ｒ^ｅは二価炭化水素基である。

式（III）で表すことができる種類のビスフェノール化合物の例には、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタンや１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタンや２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（又はビスフェノールＡ）や２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタンや２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）オクタンや１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンや１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−ｎ−ブタンやビス（４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタンや２，２−ビス（４−ヒドロキシ−１−メチルフェニル）プロパンや１，１−ビス（４−ヒドロキシ−ｔ−ブチルフェニル）プロパンや２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−ブロモフェニル）プロパンなどのビス（ヒドロキシアリール）アルカン系列、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタンや１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサンなどのビス（ヒドロキシアリール）シクロアルカン系列など、及びこれらのビスフェノール化合物の１種以上を含む組合せがある。

式（III）で表すことができる他のビスフェノール化合物には、Ｘが−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−又は−ＳＯ_２−であるものがある。かかるビスフェノール化合物の若干の例は、４，４’−ジヒドロキシジフェニルエーテルや４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルフェニルエーテルなどのビス（ヒドロキシアリール）エーテル、４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルフィドや４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルスルフィドなどのビス（ヒドロキシジアリール）エーテル、４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンや４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルスルホンなどのビス（ヒドロキシジアリール）スルホンなど、及びこれらのビスフェノール化合物の１種以上を含む組合せである。

ポリカーボネートの重縮合で使用できる他のビスフェノール化合物は、下記の式（Ｖ）で表される。

式中、Ｒ^ｆはハロゲン原子、１〜１０の炭素原子を有する炭化水素基、又はハロゲン置換炭化水素基であり、ｎは０〜４の値である。ｎが２以上である場合、Ｒ^ｆは同一のものでも相異なるものでもよい。式（Ｖ）で表すことができる他のビスフェノール化合物の例は、レゾルシノール、３−メチルレゾルシンや３−エチルレゾルシンや３−プロピルレゾルシンや３−ブチルレゾルシンや３−ｔ−ブチルレゾルシンや３−フェニルレゾルシンや３−クミルレゾルシンや２，３，４，６−テトラフルオロレゾルシンや２，３，４，６−テトラブロモレゾルシンなどの置換レゾルシノール化合物、カテコール、ヒドロキノン、３−メチルヒドロキノンや３−エチルヒドロキノンや３−プロピルヒドロキノンや３−ブチルヒドロキノンや３−ｔ−ブチルヒドロキノンや３−フェニルヒドロキノンや３−クミルヒドロキノンや２，３，５，６−テトラメチルヒドロキノンや２，３，５，６−テトラ−ｔ−ブチルヒドロキノンや２，３，５，６−テトラフルオロヒドロキノンや２，３，５，６−テトラブロモヒドロキノンなどの置換ヒドロキノンなど、及びこれらのビスフェノール化合物の１種以上を含む組合せである。

下記の式（VI）で表される２，２，２’，２’−テトラヒドロ−３，３，３’，３’−テトラメチル−１，１’−スピロビ−［１Ｈ−インデン］−６，６’−ジオールのようなビスフェノール化合物も使用できる。

好ましいビスフェノール化合物はビスフェノールＡである。

典型的なカーボネート前駆体には、ハロゲン化カルボニル（例えば、塩化カルボニル（ホスゲン）及び臭化カルボニル）、ビス−ハロギ酸エステル（例えば、ビスフェノールＡやヒドロキノンなどの二価フェノールのビス−ハロギ酸エステル、及びエチレングリコールやネオペンチルグリコールのようなグリコール類のビス−ハロギ酸エステル）、及びジフェノールカーボネートやジ（トリル）カーボネートやジ（ナフチル）カーボネートのようなジアリールカーボネートがある。界面反応用の好ましいカーボネート前駆体は塩化カルボニルである。

また、ホモポリマーではなくカーボネートコポリマーの使用が所望される場合には、２種以上の二価フェノールの重合で得られるポリカーボネート、或いは二価フェノールとグリコール、ヒドロキシ−若しくは酸−末端停止ポリエステル、二塩基酸、ヒドロキシ酸又は脂肪族二酸とのコポリマーを使用することも可能である。一般に、有用な脂肪族二酸は約２〜約４０の炭素原子を有する。好ましい脂肪族二酸はドデカン二酸である。

シロキサン−ポリカーボネートブロックコポリマーは低温延性及び難燃性を有することが認められており、発光顔料を混入するための母材としても使用できる。これらのブロックコポリマーは、二価フェノール（例えば、ＢＰＡ）とヒドロキシアリール末端停止ポリジオルガノシロキサンとの混合物中に界面反応条件下でホスゲンを導入することで製造できる。反応体の重合は、第三アミン触媒の使用で促進できる。

使用できるヒドロキシアリール末端停止ポリジオルガノシロキサンの若干例には、下記の式（VII）のフェノール−シロキサンがある。

式中、各Ｒは同一のものでも相異なるものでもよく、水素、ハロゲン、Ｃ_{（１−８）}アルコキシ、Ｃ_{（１−８）}アルキル及びＣ_{（６−１３）}アリールからなる基群から選択され、Ｒ^１はＣ_{（２−８）}二価脂肪族基であり、Ｒ^２は同一又は相異なるＣ_{（１−１３）}一価有機基から選択され、ｎは１以上、好ましくは約１０以上、さらに好ましくは約２５以上、最も好ましくは約４０以上の整数である。また、ｎは１０００以下、好ましくは１００以下、さらに好ましくは約７５以下、最も好ましくは約６０以下であることも好適である。一実施形態では、ｎは５０以下である。特に好ましいヒドロキシアリール末端停止ポリジオルガノシロキサンは、Ｒ^２がメチルであり、Ｒが水素又はメトキシであって、フェノール性置換基に対してオルト位にあり、Ｒ^１がプロピルであって、フェノール性置換基に対してオルト位又はパラ位にあるものである。

上記式（VII）中のＲに含まれる基の若干例は、水素、ブロモやクロロのようなハロゲン基、メチルやエチルやプロピルのようなアルキル基、メトキシやエトキシやプロポキシのようなアルコキシ基、及びフェニルやクロロフェニルやトリルのようなアリール基である。Ｒ^１に含まれる基は、例えば、ジメチレン、トリメチレン及びテトラメチレンである。Ｒ^２に含まれる基は、例えば、Ｃ_{（１−１３）}アルキル基、トリフルオロプロピルのようなハロアルキル基、シアノアルキル基、及びフェニルやクロロフェニルやトリルのようなアリール基である。Ｒ^２は、好ましくはメチル、又はメチルとトリフルオロプロピルとの混合物、又はメチルとフェニルとの混合物である。

シロキサン−ポリカーボネートブロックコポリマーは、約１００００以上、好ましくは約２００００以上の重量平均分子量（例えば、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー、超遠心又は光散乱で測定されるＭｗ）を有する。また、約２０００００以下、好ましくは約１０００００以下の重量平均分子量も好適である。ポリオルガノシロキサン単位は、シロキサン−ポリカーボネートコポリマーの全重量の約０．５〜約８０ｗｔ％を占めることが一般に望ましい。シロキサンブロックの鎖長は、約１０〜約１００の化学結合したオルガノシロキサン単位に相当している。これらは、例えば米国特許第５５３００８３号（その開示内容は援用によって本明細書の内容の一部をなす）に記載されたようにして製造できる。

ポリアリーレート及びポリエステル−カーボネート樹脂又はこれらのブレンドも使用できる。枝分れポリカーボネート並びに線状ポリカーボネートと枝分れポリカーボネートとのブレンドも有用である。枝分れポリカーボネートは、重合時に枝分れ剤を添加することで製造できる。

これらの枝分れ剤は、ヒドロキシル、カルボキシル、カルボン酸無水物、ハロホルミル、及びこれらの枝分れ剤の１種以上を含む混合物であり得る３以上の官能基を含む多官能性有機化合物からなり得る。その具体例には、トリメリト酸、トリメリト酸無水物、トリメリト酸三塩化物、トリス−ｐ−ヒドロキシフェニルエタン、イサチン−ビスフェノール、トリス−フェノールＴＣ（１，３，５−トリス（ｐ−ヒドロキシフェニル）イソプロピル）ベンゼン）、トリス−フェノールＰＡ（４（４（１，１−ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）エチル）−α，α−（ジメチルベンジル）フェノール）、４−クロロホルミルフタル酸無水物、トリメシン酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸など、並びにこれらの枝分れ剤の１種以上を含む組合せがある。枝分れ剤は、基板の全重量を基準にして約０．０５〜約２．０ｗｔ％のレベルで添加できる。

一実施形態では、ポリカーボネートはジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとの溶融重縮合反応で製造できる。ポリカーボネートを製造するために使用できる炭酸ジエステルの例は、シフェニルカーボネート、ビス（２，４−ジクロロフェニル）カーボネート、ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）カーボネート、ビス（２−シアノフェニル）カーボネート、ビス（ｏ−ニトロフェニル）カーボネート、ジトリルカーボネート、ｍ−クレジルカーボネート、ジナフチルカーボネート、ビス（ジフェニル）カーボネート、ジエチルカーボネート、ジメチルカーボネート、ジブチルカーボネート、ジシクロヘキシルカーボネートなど、並びにこれらの炭酸ジエステルの１種以上を含む組合せである。好ましい炭酸ジエステルはジフェニルカーボネートである。

好ましくは、ポリカーボネートの重量平均分子量は約５０００〜約１０００００原子質量単位（ａｍｕ）である。この範囲内では、約１００００原子質量単位以上、好ましくは約１５０００原子質量単位以上の重量平均分子量を有することが望ましい。また、約６５０００原子質量単位以下、さらに好ましくは約３５０００原子質量単位以下の分子量も望ましい。

吸光物質は、基板（例えば、読出面）中及び／又は反応層と読出面との間に配設される被膜中に混入される。若干の可能な吸光物質には、特に限定されないが、アントラキノン誘導体、ベンゾピラン誘導体、又は上記の透過率及び吸光特性を有するこれらの誘導体の１種以上を含む組合せがある。典型的なアントラキノン誘導体は、下記の一般式（VIII）で表すことができる。

式中、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５、Ｒ_６、Ｒ_７及びＲ_８は同一のもの又は相異なるものであり、水素原子、ヒドロキシル基、脂肪族基、芳香族基、複素環式基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−ＣＯＲ_９、−ＳＲ_１０、−ＣＯＯＲ_９、−ＮＲ_９Ｒ_１０、−ＮＲ_１０ＣＯＲ_１１、−ＮＲ_１０ＳＯ_２Ｒ_１１、−ＣＯＮＲ_９Ｒ_１０、−ＣＯＮＨＳＯ_２Ｒ_１０又はＳＯ_２ＮＨＣＯＲ_１１（式中、Ｒ_９及びＲ_１０の各々は水素原子、脂肪族基、芳香族基又は複素環式基を表し、Ｒ_１１は脂肪族基、芳香族基及び複素環式基を表し、Ｒ_９及びＲ_１０は互いに結合して五員環又は六員環を形成し得る。）であり得ると共に、Ｒ_１及びＲ_２、Ｒ_２及びＲ_３、Ｒ_３及びＲ_４、Ｒ_５及びＲ_６、Ｒ_６及びＲ_７、又はＲ_７及びＲ_８は互いに結合して環を形成し得る。

好ましいアントラキノン誘導体には、下記の式（IX）、（Ｘ）及び（XI）で示される１，４−、１，５−及び１，８−アントラキノン誘導体がある。

式中、Ｒ_２〜Ｒ_７は上述の通りである一方、Ｒは水素、炭素原子数１〜２０のアルキル基（例えば、メチル、エチル、ｎ−ブチル、イソプロピル、２−エチルヘキシル、ｎ−デシル、ｎ）−オクタデシル）、炭素原子数３〜２０のシクロアルキル基（例えば、シクロペンチル、シクロヘキシル）、例えばハロゲン原子（例えば、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）のような置換基を含み得る炭素原子数３〜２０のアリル基、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボン酸、炭素原子数６〜１０のアリール基（例えば、フェニル、ナフチル）、炭素原子数０〜２０のアミノ基（例えば、−ＮＨ_２、−ＮＨＣＨ_３、−Ｎ(Ｃ_２Ｈ_５)_２、−Ｎ(Ｃ_４Ｈ_９)_２、−Ｎ(Ｃ_８Ｈ_１７)_２、アニリノ、４−メトキシアニリノ）、炭素原子数１〜２０のアミド基（例えば、アセチルアミノ、ヘキサノイルアミノ、ベンゾイルアミノ、オクタデカノイルアミノ）、炭素原子数１〜２０のカルバモイル基（例えば、非置換カルバモイル、メチルカルバモイル、エチルカルバモイル、オクチルカルバモイル、ヘキサデシルカルバモイル）、炭素原子数２〜２０のエステル基（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、フェノキシカルボニル、ｎ−ブトキシカルボニル、ドデシルオキシカルボニル）、炭素原子数１〜２０のアルコキシ又はアリールオキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、ブトキシ、イソプロポキシ、ベンジルオキシ、フェノキシ、オクタデシルオキシ）、炭素原子数１〜２０のスルホンアミド基（例えば、メタンスルホンアミド、エタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド、オクタンスルホンアミド）、０〜２０の原子を含むスルファモイル基（例えば、非置換スルファモイル、メチルスルファモイル、ブチルスルファモイル、デシルスルファモイル）、五員又は六員複素環（例えば、ピリジル、ピラゾリル、モルホリノ、ピペリジノ、ピロリル、ベンゾオキサゾリル）などである。上記１，４−、１，５−及び１，８−アントラキノン誘導体の若干の例には、１，５−及び１，８−ビス（シクロヘキシルアミノ）アントラキノン、１，５−及び１，８−ビス（イソプロピルアミノ）アントラキノン、１，４−ジイソプロピルアミノ−２，３−ジフェノキシ−９，１０−アントラセンジオン、１，８−ビス（２−エチルヘキシルアミノ）アントラキノン、１，８−ビス（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ−プロピルアミノ）アントラキノン、１，８−ビス（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ−エチルアミノ）アントラキノン、及びこれらの誘導体など、並びにこれらの１種以上を含む反応生成物及び組合せがある。

基板中に使用できる他の吸光物質は、下記の式（XII）を有するベンゾピラン誘導体である。

式中、Ｒは非置換又は置換アリール基（単環式、二環式、三環式又は複素環式）であり、Ｒ_８はアルコキシカルボニル、ニトロ、シアノ、アルキルスルホニル、ベンゾイミダゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾオキサゾリル又はキノキサリニルであり得、Ｒ_１及びＲ_２は水素又は非置換若しくは置換アルキル基（ここで、置換基はＣ_１〜Ｃ_１５一価ヒドロカルビル、アルコキシ、シアノ、ハロ、カルボキシル又はカルボアルコキシであり得る。）であり、Ｒ_３〜Ｒ_７は水素、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜２０のシクロアルキル基、炭素原子数３〜２０のアリル基、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボン酸、炭素原子数６〜１０のアリール基、炭素原子数２０以下のアミノ基、炭素原子数１〜２０のアミド基、炭素原子数１〜２０のカルバモイル基、炭素原子数２〜２０のエステル基、炭素原子数１〜２０のアルコキシ又はアリールオキシ基、炭素原子数１〜２０のスルフィド基、炭素原子数１〜２０のスルホンアミド基、２０以下の原子を含むスルファモイル基、五員複素環及び六員複素環からなる群から選択される。

ベンゾピラン染料の一例は、下記の式（XIII）で示されるベンゾピランレッドである。

基板中に使用できる別の吸光物質は、下記の式（XIV）で示される建染紫色染料である。

式中、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３及びＲ_４は同一のもの又は相異なるものであり、水素、ハロゲン、アルキル、アリール、アルコキシ、アルコイル（例えば、アシル、ベンゾイルなど）、アミド、アルコール、ニトリル、ニトロ、エステル、エーテルなどである。アントラキノン誘導体をベンゾピラン誘導体又は紫色建染染料或いはその両方と組み合わせて添加することが望ましい場合もある。

広義のアントラキノン染料族に属する別の吸光物質は、下記の式（XV）である。

かかる染料族の一例は下記の式（XVI）のソルベントレッド５２であって、これは（例えば、キセノンランプを用いる）約４００ｎｍの好ましい硬化波長を有する制御部分組成物中で好ましく使用される。

上述の吸光物質は、赤色、マゼンタ色又は紫色を有することが望ましい。好ましくは、かかる吸光物質は約５００〜約６３０ｎｍの範囲内に最大吸収を有し、約５３０〜約６００ｎｍの範囲内の最大吸収が好ましく、約５４０〜約５９０ｎｍの範囲がさらに一段と好ましい。一般に吸光物質は、６００ｎｍの波長で１５００リットル／モル／センチメートル（ｍｏｌ^−１・ｃｍ^−１・Ｌ）以上、好ましくは約３０００ｍｏｌ^−１・ｃｍ^−１・Ｌ以上、さらに好ましくは約４５００ｍｏｌ^−１・ｃｍ^−１・Ｌ以上、最も好ましくは約６０００ｍｏｌ^−１・ｃｍ^−１・Ｌ以上の吸光係数を有することが望ましい。また、吸光物質は、約６５０ｎｍの波長で約１０００ｍｏｌ^−１・ｃｍ^−１・Ｌ以下、好ましくは約８００ｍｏｌ^−１・ｃｍ^−１・Ｌ以下、さらに好ましくは約６００ｍｏｌ^−１・ｃｍ^−１・Ｌ以下の吸光係数を有することも望ましい。特記しない限り、すべての吸光係数は、１センチメートル（ｃｍ）の光路長について０．８〜１．２単位の最大吸収を与える染料濃度で複光束分光光度計を用いて測定される。

理論に限定されることはないが、上述の赤色、マゼンタ色及び紫色の吸光物質の発色団の性質上、一般に約６００ｎｍの波長では高い吸光係数が得られるのに対し、約６５０ｎｍの波長では低い吸光係数が得られる。なお、塩化メチレン（ジクロロメタン又はＣＨ_２Ｃｌ_２ともいう）の溶液中では、約５２０ｎｍ以上、好ましくは約５４０ｎｍ以上、さらに好ましくは約５６０ｎｍ以上の波長に最大吸収が位置している。

吸光物質は、媒体の読出特性に悪影響を及ぼすことなしに反応層を光劣化から保護するのに十分な量でポリマー樹脂に添加することが一般に望ましい。通例、制御部分の全重量を基準にして約０．００１〜約５．０ｗｔ％の吸光物質量が使用できる。この範囲内では、大抵の吸光物質について約３ｗｔ％以下の吸光物質量が使用でき、約１ｗｔ％以下が好ましく、約０．４ｗｔ％以下がさらに好ましい。やはりこの範囲内では、約０．０５ｗｔ％以上の吸光物質量が好ましく、約０．０７ｗｔ％以上がさらに好ましく、約０．１ｗｔ％以上が特に好ましい。制御部分中に使用する染料の実際の量は、染料の効率、即ち上述の波長（例えば、所望の透過波長（以後は遮断される波長）、光漂白に対する制御波長、及び硬化波長）での質量吸光率に依存する。一般に、染料と樹脂との間に反応が起こる危険性及び成形工程中にポリマー母材から染料が浸出する危険性（「プレートアウト」の問題）を低減させるため、少ない量の染料を使用することが好ましい。

制御部分は、一般に、各種の前駆体を十分に混合し得る反応器（例えば、一軸又は二軸押出機、ニーダー、ブレンダー、ロールミルなど）を用いて製造できる。一般に、ポリマー樹脂は吸光物質と共に押出機の供給口に加えればよい。一実施形態では、ポリマー樹脂は押出機の供給口に加える一方、吸光物質は供給口の下流側で加えることもできる。ポリマー樹脂は押出機内で吸光物質とブレンドできるが、成形機内で直接にポリマー樹脂を吸光物質とブレンドするのが望ましい場合もある。

記憶媒体の形成は、各種の成形技術及び／又は加工技術を用いて実施できる。可能な技術には、射出成形、フィルムキャスティング、押出し、プレス成形、スタンピングなどがある。基板を製造した後、電気めっき、被覆技術（例えば、スピンコート法、吹付け塗り、蒸着、スクリーン印刷、塗装、浸し塗りなど）、ラミネーション、スパッタリングなど、並びにこれらの加工技術の１以上を含む組合せのような追加の加工を用いて基板上に所望の層（例えば、任意には制御部分を含む）を配設できる。

限定再生型ポリカーボネート情報記憶媒体の一例は２以上のポリマー基板を含んでいて、少なくとも情報記憶媒体の読出側を構成する基板が吸光物質を含んでいる。これら２つの基板の間には、データ層、誘電体層、反応層、ＵＶ層、半反射層及び／又は反射層、並びにこれらの層の１以上を含む組合せのような各種の層が配設されている。例えば、かかる層は、基板から見て、反射層、任意の誘電体層、データ記憶層、任意の誘電体層、反応層及び制御部分を含み得ると共に、制御部分上には任意の保護層及び／又は潤滑層を配設できる。情報記憶媒体の形態はディスク形に限定されず、読出装置に適応し得る任意の寸法及び形状であり得ることは言うまでもない。典型的な情報記憶媒体は、約６５〜約１３０ｍｍの外径と共に約１．０〜約１．３ｍｍの総合厚さを有している。

別の実施形態では、吸光物質を有する制御部分は光学的に透明なプラスチック（例えば、ポリカーボネート、ポリアクリレートなど）と混合され、かかる制御部分は反応層と読出面との間に配設される。記憶媒体が両面型である場合（即ち、データを媒体の両側から回収できる場合）には、反応媒質の両側に制御部分を配設することが好ましい。換言すれば、制御部分を反応層とすべての可能な光漂白源との間に配設することが好ましい。制御部分は、オングストローム（Å）程度の厚さ（例えば、約５０Å（例えば、被膜）ないし約１．０ｍｍほどの厚さ）を有する被膜であり得る。制御部分は、自立した基板（例えば、自立するのに十分な厚さ（例えば、約０．３ｍｍ以上の厚さであって、約０．５〜約１．３５ｍｍの厚さが一般に好ましい）を有する基板でもあり得る。好ましくは、ディスク製造プロセスを簡略化すると共に、エンドユーザーが制御部分を改変する能力を制限するため、制御部分はディスク基板中に組み込まれる。

データ記憶層は、光層、磁気層又は光磁気層のような、回収可能なデータを記憶し得る任意の材料からなり得る。データ記憶層は、スパッタリング（又は他の堆積方法）で通例約１００ｎｍ以下の薄層を形成できると共に、レーザー読出波長でフォーマットに関するディスク規格を満たすのに十分な反射率を与える金属、合金及び酸化物を含み得る。可能な材料には、酸化物（例えば、酸化ケイ素）、希土類元素−遷移金属合金、ニッケル、コバルト、クロム、銀、タンタル、白金、テルビウム、ガドリニウム、鉄、ホウ素、有機染料（例えば、シアニン系又はフタロシアニン系染料）、無機相変化化合物（例えば、ＴｅＳｅＳｎ、ＩｎＡｇＳｂなど）など、並びにこれらの１種以上を含む合金及び組合せがある。経済性及び純度の点で、酸化ケイ素、アルミニウム、金、銀、銀合金など、及びこれらの材料の１種以上を含む組合せのような材料が通例使用される。

粉塵、油及びその他の夾雑物からの保護を行う保護層は、約１００ミクロン（μｍ）超から約１０Å未満までの厚さを有し得るが、若干の実施形態では約３００Å以下の厚さが好ましく、約１００Å以下の厚さが特に好ましい。保護層の厚さは、通常、少なくとも一部では、使用する読出し／書込み機構の種類（例えば、磁気機構、光機構又は光磁気機構）によって決定される。可能な保護層には、中でも、金、銀、窒化物（例えば、特に窒化ケイ素や窒化アルミニウム）、炭化物（例えば、炭化ケイ素など）、酸化物（例えば、二酸化ケイ素など）、ポリマー材料（例えば、ポリアクリレートやポリカーボネート）、炭素フィルム（ダイヤモンド、ダイヤモンド様炭素など）、及びこれらの材料の１種以上を含む組合せのような耐食性材料がある。

データ記憶層の片側又は両側に配設されてしばしば熱制御体として使用される誘電体層は、通例、約１０００Åまで又はそれを超えると共に、最小では約２００Å以下の厚さを有し得る。可能な誘電体層には、環境に適合すると共に、好ましくは周囲の層との反応性をもたない材料のうち、窒化物（例えば、窒化ケイ素、窒化アルミニウムなど）、酸化物（例えば、酸化アルミニウム）、炭化物（例えば、炭化ケイ素）、及びこれらの材料の１種以上を含む組合せがある。

反射層は、データ回収を可能にするのに十分な量のエネルギー（例えば、光）を反射するのに十分な厚さを有するべきである。通例、反射層は約７００Å程度までの厚さを有し得るが、約３００〜約６００Åの厚さが一般に好ましい。可能な反射層には、金属（例えば、アルミニウム、銀、金、チタン、及びこれらの金属の１種以上を含む合金や混合物など）をはじめとして、特定のエネルギー場を反射し得る任意の材料がある。

キャリヤー及び反応性物質を共に含む反応層は、最初は媒体読出装置によるデータ回収を可能にするのに十分な透過性を有し、後には該装置によるデータ回収を阻止する層（例えば、所定装置内のレーザーの波長で十分な量の光（即ち、入射光及び／又は反射光）を吸収する層）を形成すべきである。通例、反射層からの初期パーセント反射率をＤＶＤ−５については約４５％以上とし、ＤＶＤ−９については約１８％以上とする層が使用でき、ＤＶＤ−５については約５０％以上、ＤＶＤ−９については約２０％以上の初期パーセント反射率が好ましく、ＤＶＤ−５については約５５％以上、ＤＶＤ−９については約２２％以上の初期パーセント反射率がさらに好ましい。ＤＶＤ−５については約６０％以上、ＤＶＤ−９については約２４％以上の初期パーセント反射率値がさらに一段と好ましい。ＤＶＤ−５及びＤＶＤ−９についての反射率値は「全」反射層（Ｌ１）に関するものであることに注意されたい。限定再生型ＤＶＤ−９の構造上、Ｌ０（即ち、半反射層）が反応層と読出側との間に位置する場合には、その反射率は空気暴露後に変化しない。一般に、反射されて読出装置に戻るパーセント反射光量は、ＤＶＤ−５については約４５〜約８５％であり、ＤＶＤ−９については約１８〜約３０％である。ＤＶＤ−５及びＤＶＤ−９について、それぞれ約５０〜約８０％及び約２０〜約２８％のパーセント反射光量が特に好ましく、約５５〜約７５％及び約２２〜約２６％が最も好ましい。

所望の期間（例えば、媒体の所望許容再生時間）にわたって媒体が酸素（例えば、空気）に暴露された後には、該層は媒体を読出し不可能にするパーセント反射率を有することが好ましい。通例、ＤＶＤ−５については、約３０％以下のパーセント反射率が好ましく、約２０％以下がさらに好ましく、約１０％以下が特に好ましい。ＤＶＤ−９については、約１５％以下のパーセント反射率が好ましく、約１２％以下がさらに好ましく、約１０％以下が特に好ましい。大抵の媒体については、約１０％以下のパーセント反射率では媒体がブータブルでなくなり、したがって読出し不可能となる。

キャリヤーは、反応層の全重量を基準にして約６５〜約８５ｗｔ％の量で存在し得る。この範囲内では、約７０ｗｔ％以上の量が好ましい。やはりこの範囲内では、約８０ｗｔ％以下の量が好ましい。可能なキャリヤーには、熱可塑性アクリルポリマー、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリチオレン、ＵＶ硬化性有機樹脂、ポリウレタン、熱硬化性アクリルポリマー、アルキド樹脂、ビニル樹脂など、並びにこれらのキャリヤーの１種以上を含む組合せがある。ポリエステルには、例えば、例えばフマール酸又はマレイン酸をはじめとする脂肪族ジカルボン酸と、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコールなどのグリコール類との反応生成物、並びにこれらの１種以上を含む反応生成物及び混合物がある。

キャリヤーとして使用できる若干のエポキシ樹脂には、１つ又は複数のエポキシ官能基を含むモノマー、ダイマー、オリゴマー又はポリマーのエポキシ材料がある。その例には、ビスフェノールＡとエピクロロヒドリンとの反応生成物、エピクロロヒドリンとフェノール−ホルムアルデヒド樹脂との反応生成物、などがある。その他の有機樹脂は、米国特許第３６９７３９５号及び同第３６９７４０２号（Ｋｅｈｒら）に示されているようなポリオレフィンとポリチオールとの混合物の形態のものであり得る。

本明細書中で使用する熱可塑性アクリルポリマーという用語は、１種以上のアクリル酸エステルモノマー及びメタクリル酸エステルモノマーの重合で得られる熱可塑性ポリマーをその範囲内に包含するものである。これらのモノマーは、下記の一般式XVIIで表される。

式中、Ｗは水素又はメチル基であり、Ｒ^ｆはアルキル基、好ましくは炭素原子数約１〜約２０のアルキル基である。Ｒ^ｆで表されるアルキル基の若干の非限定的な例には、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ヘキシルなどがある。

式XVで表されるアクリル酸エステルモノマーの若干の非限定的な例には、アクリル酸メチル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸ｎ−プロピル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸２−エチルヘキシルなどがある。式XVIIで表されるメタクリル酸エステルモノマーの若干の非限定的な例には、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸プロピルなど、並びにこれらの１種以上を含む反応生成物及び組合せがある。

上記のアクリル酸エステルモノマー及びメタクリル酸エステルモノマーのコポリマーも、本明細書中で使用される熱可塑性アクリルポリマーという用語の範囲内に包含される。好ましくは、熱可塑性アクリルポリマーはポリ（メタクリル酸メチル／メタクリル酸）のコポリマーである。アクリル酸エステルモノマー及びメタクリル酸エステルモノマーの重合による熱可塑性アクリルポリマーの製造は、任意の公知重合技術で行うことができる。熱可塑性アクリルポリマーは、普通には約０．３００立方センチメートル／グラム（ｃｍ^３／ｇ）以下、さらに普通には約０．２５０ｃｍ^３／ｇ以下、最も普通には約０．２００ｃｍ^３／ｇ以下の固有粘度を有する。

可能な反応性物質には、上述のパーセント反射率を生み出すことができる任意の物質が包含される。反応層は、空気酸化後に光学的性質の変化を受ける物質であって、その変化がレーザー読出波長での光の吸収を引き起こすことで再生不可能なディスクを生じる物質を含み得る。反応性物質の若干の例は、ロイコ形（又は還元形）のアジン族のもの（例えば、チアジン類、オキサジン類など、並びにこれらの誘導体及びこれらの１種以上を含む組合せ）であり、これらは縮合環置換基を含み得る。好ましくは、反応性物質はレーザー波長±５０ｎｍに位置する最大吸収を有しており、レーザー波長の±３０ｎｍが好ましく、レーザー波長の±１０ｎｍがさらに一段と好ましい。

例えば、酸素感受性のロイコ形又は還元形のメチレンブルー、ブリリアントクレジルブルー、ベーシックブルー３及びトルイジン０、並びにこれらの物質の１種以上を含む反応生成物及び組合せが使用できる。これらの物質の若干例の構造を以下に式（XVIII）〜（XXI）として示す。

反応性物質は、さらに、上述の反応性物質の１種以上を含む混合物を含み得る。

さらに、反応層はポリヒドロキシ化合物のような光漂白抑制剤を含み得る。好適なポリヒドロキシ化合物には、ビフェノール、ビフェノール誘導体、トリヒドロキシベンゼン誘導体、又はこれらの組合せがある。ポリヒドロキシ化合物は光漂白を効果的に低減させる。本明細書中で使用する「光漂白を効果的に低減させる」とは、ポリヒドロキシ化合物を含む限定再生型記憶媒体がメディアプレーヤーでの再生を停止する反射率に達するのに要する時間が、反応層中にポリヒドロキシ化合物を含まないデータ用限定再生型情報記憶媒体がメディアプレーヤーでの再生を停止する反射率に達するのに要する時間より長いことをいう。普通には、所望の反射率は約２０％未満であり、さらに普通には、反射率は約１０％未満である。

好適なポリジヒドロキシ化合物には、特に限定されないが、下記の式（XXII）で表されるものがある。

式中、Ｅ^１はフェニレン、ビフェニレン、ナフチレンなどの芳香族基を表す。Ｚ^１は、特に限定されないがハロゲン（フッ素、臭素、塩素、ヨウ素）をはじめとする無機原子、特に限定されないがニトロをはじめとする無機基、特に限定されないがアルキル、アリール、アラルキル、アルカリール又はシクロアルキルのような一価炭化水素基をはじめとする有機基、或いはＯＲ^２（式中、Ｒ^２は水素或いはアルキル、アリール、アラルキル、アルカリール又はシクロアルキルのような一価炭化水素基である。）のようなオキシ基であり得る。若干の特定の実施形態では、Ｚ^１はハロ基又はＣ_１〜Ｃ_６アルキル基からなる。文字「ｍ」は０（この値を含む）から置換のために利用できるＥ^１上の位置の数までの任意の整数を表し、「ｔ」は１以上の整数を表し、「ｕ」は０又は１以上の整数である。ただし、「ｕ」が０であれば、「ｍ」は２（この値を含む）から置換のために利用できるＥ^１上の位置の数までの任意の整数を表すことを条件とする。

上記の式（VI）で表されるように２以上のＺ^１置換基が存在する場合、これらは同一のものでも相異なるものでもよい。芳香族残基の２以上の環内炭素原子がＺ^１及びヒドロキシル基で置換される場合、芳香族残基Ｅ^１上のヒドロキシル基及びＺ^１の位置は、オルト位、メタ位又はパラ位に変化し得ると共に、基は隣接関係、対称関係又は非対称関係にあり得る。

ポリヒドロキシ化合物の例には、特に限定されないが、４，４’−ビフェノール、３，３’−ビフェノール、２，２’−ビフェノール、２，２’，６，６’−テトラメチル−３，３’，５，５’−テトラブロモ−４，４’−ビフェノール、２，２’，６，６’−テトラメチル−３，３’，５−トリブロモ−４，４’−ビフェノール、３，３’−ジメチルビフェニル−４，４’−ジオール、３，３’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルビフェニル−４，４’−ジオール、３，３’，５，５’−テトラブロモビフェニル−４，４’−ジオール、２，２’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−５，５’−ジメチルビフェニル−４，４’−ジオール、３，３’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−５，５’−ジメチルビフェニル−４，４’−ジオール、３，３’，５，５’−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチルビフェニル−４，４’−ジオール、２，２’，３，３’，５，５’−ヘキサメチルビフェニル−４，４’−ジオール、２，２’，３，３’，５，５’，６，６’−オクタメチルビフェニル−４，４’−ジオール、３，３’−ジ−ｎ−ヘキシルビフェニル−４，４’−ジオール、３，３’−ジ−ｎ−ヘキシル−５，５’−ジメチルビフェニル−４，４’−ジオール、１，２，４−トリヒドロキシベンゼンなどがある。普通には、ポリヒドロキシ化合物は反応層の全重量を基準にして約１〜約２０重量％の範囲内、さらに普通には約３〜約１５重量％の範囲内、最も普通には約５〜約１０重量％の範囲内で存在する。

上記の反応性物質に加え、その他多数の染料及び遮光性物質を合成し、情報記憶媒体を限定再生型にするために役立てることができる。例えば、若干の他の可能な反応性物質を米国特許第４４０４２５７号及び同第５８１５４８４号に見出し得る。反応性物質は、さらに、上述の反応性物質の任意の１種以上を含む混合物を含み得る。

反応層中の反応性物質の量は、情報記憶媒体の所望寿命と共に、媒体の酸素透過性（即ち、例えばＵＶ被膜、空気流路又は他の層を通しての反応層への酸素到達）に依存する。厚さ２〜約３０マイクロメートル（μｍ）のＵＶ硬化性被膜を用いて約３日までの寿命を得るためには、反応層中の反応性物質の量は、反応層の全重量を基準にして約０．１〜約１２重量パーセント（ｗｔ％）であり得る。この範囲内では、約３ｗｔ％以上の量が好ましく、約４ｗｔ％以上がさらに好ましい。やはりこの範囲内では、約１０ｗｔ％以下の量が好適であり、約７ｗｔ％以下が好ましく、約６ｗｔ％以下がさらに好ましく、約５ｗｔ％以下がさらに一段と好ましい。一般に２つの基板（その一方は読出側基板である）の間に配置される反応層は、所望ならば２つの層の結合を助けることができる。ある種の添加剤は酸化速度を促進し、ひいては再生可能時間を短縮し得ることに注意されたい。好ましい実施形態では、反応層は約４０〜約７０マイクロメートルの厚さを有するＵＶ硬化性接着剤であり、ディスク基板同士を結合するために使用される。通例、ＵＶ硬化性接着剤については約５５マイクロメートルの厚さが使用される。この場合には、反応層の全重量を基準にして約１〜約２重量パーセント（ｗｔ％）の反応性染料添加量を使用することで、ディスクを４８時間にわたり再生可能にすることができる。

情報記憶媒体の形成の一実施形態では、データは原基板（例えば、プラスチック、ガラス、金属又は他の基板）の一方の側において原基板と反応層との間に配設される。反応層は、情報記憶媒体を所定の時間だけ限定再生型にするために十分な媒体部分を覆う。次いで、反応層のデータとは反対側に制御部分が配設される。制御部分は、光漂白に対する十分な保護をもたらすことで反応層の限定再生機能性の無効化を阻止するため（例えば、反応層の劣化を防止するため）に十分な反応層部分を覆う。媒体は、（保護期間（例えば、約７日以上）にわたる光暴露の後にも）読出し不可能になってその状態に保たれる必要があることは言うまでもない。任意には、基板上に他の層が配設される。例えば、制御部分が被膜であれば、原基板のデータと同じ側に（例えば、データ（例えば、反射層）と反応層との間、反応層と制御部分との間、制御部分の反応層とは反対側などに）第二の光学的に透明な基板を配設することが望ましい場合がある。追加の反射層、誘導体層、潤滑層などのような他の層も使用できる。

限定再生型光ディスクの色は、標準実施法ＡＳＴＭ １１６４及び方法ＡＳＴＭ Ｅ１３３１に従い、色分光光度計を用いて測定できる。例えば、Ｇｒｅｔａｇ ＭａｃＢｅｔｈ社（米国ニューヨーク州ニューウィンザー）から入手できるＣｏｌｏｒ Ｅｙｅ ７０００Ａ分光光度計が使用できる。各種試料の色を測定するためには、積分球構造を標準装備した測定器が通例使用される。測定前に、測定器は一般に製造者から提供される白色の較正タイル及び光トラップを用いて較正される。また、Ｄ６５光源をシミュレートするため、ＭａｃＢｅｔｈ ＣＥ７０００Ａ操作マニュアルに従ってＵＶフィルターの位置も通例較正される（ＵＶＤ６５設定）。すべての測定値（反射率及び透過率モード）は、含まれる光の鏡面成分（ＳＣＩ）、含まれる較正済みＵＶ（ＵＶＤ６５）、大きい視野開口（ＬＡＶ）及び大きい視野面積（ＬＡＶ）を用いて求めるのが好ましい。各々の特定色空間に関する色座標は、Ｇｒｅｔａｇ ＭａｃＢｅｔｈ ＰｒｏＰａｌｅｔｔｅ Ｏｐｔｉｖｉｅｗ ５．２ソフトウェアにより、３６０ｎｍと７５０ｎｍとの間で記録したスペクトル曲線から１０度観測者に関して計算される。計算のためには、以下の色空間が一般に使用される。

ＣＩＥ（Ｃｏｍｍｉｓｓｉｏｎ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌｅ ｄｅ ｌ’Ｅｃｌａｉｒａｇｅ）１９３１（Ｙｘｙ座標ともいう）、
透過率及び反射率測定のためのＣＩＥ１９７６又はＣＩＥＬａｂ系（即ち、Ｌ^＊ａ^＊ｂ^＊座標）、並びに
透過率及び反射率測定のためのＣＩＥ１９７６ＬＣｈ系（即ち、明度（Ｌ^＊）、彩度（Ｃ^＊）及び色相（ｈ°）座標）。

ソフトウェアが存在しない場合には、ＡＳＴＭ Ｅ３０８に従って色座標を計算できることに注意されたい。

一実施形態では、限定再生型ディスクの読出側は、酸素暴露前（又は無酸素環境中でのディスクの保管を保証する密封パッケージを開封した直後）には赤色、紫色又はマゼンタ色を有している。ＣＩＥ１９７６ＬＣｈ系で表した場合、限定再生型ディスクは最初は３７以下の明度値（Ｌ^＊）及び４６以下の彩度値（Ｃ^＊）を有している。酸素暴露で再生不可能となった後には、限定再生型ディスクは通例は一層濃い色に変わる。ディスク（以後は「期間満了」ディスクという）が完全に再生不可能となってから１週間以上後に測定した場合、その色は約３３以下の明度値（Ｌ^＊）及び約３０以下の彩度値に相当する。例えば、「期間満了」ディスクは、約３０以下の明度値及び約１０以下の彩度値に相当する黒色を有しており、約５以下の彩度値がさらに一段と好ましい。

例示的であって限定的ではない以下の実施例は、各種の材料及び装置を用いた限定再生型情報記憶媒体の様々な実施形態に関係する組成物及び製造方法を例示する。

実施例１〜８については、Ｂｒｕｋｅｒ ３００ＭＨｚ Ａｖａｎｃｅ分光計を用いて核磁気共鳴（ＮＭＲ）スペクトルを記録し、Ｐｅｒｋｉｎ−Ｅｌｍｅｒ Ｌａｍｂｄａ ９００ ＵＶ／ＶＩＳ／ＮＩＲ（近赤外）分光光度計を用いて紫外（ＵＶ）−可視（ＶＩＳ）スペクトル測定を行った。ＵＶ−ＶＩＳスペクトル測定用の溶媒として塩化メチレンを使用した。高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）分析は測定器Ａｇｉｌｅｎｔ １１００上で行った。すべての融点は測定器Ｅｌｅｃｔｒｏｔｈｅｒｍａｌ ＭＥＬ−ＴＥＭＰ ３を用いて記録し、補正していない。吸光係数は下記の式（XXIII）を用いて計算した。

式中、ε＝吸光係数
Ａ＝吸光度
Ｂ＝ｃｍ単位の光路長
Ｃ＝濃度（モル／リットル単位のモル濃度）
実施例１
この実施例では、１，５−ビス（イソプロピルアミノ）アントラキノンの合成を詳述する。３．００グラム（ｇ）（０．０１１モル（ｍｏｌ））の１，５−ジクロロアントラキノン、３０ミリグラム（ｍｇ）の銅粉末、３０ｍｇのヨウ化銅（Ｉ）及び２０ミリリットル（ｍｌ）（０．２３５モル）のイソプロピルアミンを３０ｍｌのエチレングリコールに添加し、得られた懸濁液を油浴中に保持した密封容器内で１６０℃に加熱した。加熱を１６０℃で１６時間続けた後、加熱を停止し、室温に達するまで容器を放置した。その後、２０ｍｌのメタノールを容器に添加し、内容物を室温で３０分間攪拌した。次いで、得られた混合物を５０グラム（ｇ）の１５％（重量／体積（ｗｔ／ｖｏｌ））氷冷（即ち、約５℃の）ＨＣｌ溶液中にゆっくりと注ぎ込んだ。次いで、沈殿を濾別し、水を用いて酸を含まないように洗い、１００℃で真空乾燥した。収量は３．００ｇであった。こうして得られた粗生成物を、８０％のｎ−ヘキサン及び２０％の酢酸エチルを含む溶離剤系を用いるカラムクロマトグラフィーで精製した。ＨＰＬＣを用いて測定したところ、８０％の純度が得られた。プロトンＮＭＲ（^１Ｈ ＮＭＲ）分光法（３００メガヘルツ（ＭＨｚ）、重水素化クロロホルム（ＣＤＣｌ_３））を用いて生成物の特性決定を行ったところ、化学シフト（δ）１．３６（二重線（ｄ），１２プロトン（Ｈ））、δ３．８６（多重線（ｍ），２Ｈ）、δ６．９９（ｄ，２Ｈ）、δ７．５３（ｍ，４Ｈ）、δ９．７５（窒素に結合したプロトン（ＮＨ））であった。

実施例２
この実施例では、１，５−ビス（２−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ−エチルアミノ）アントラキノンの合成を詳述する。５．５０ｇ（０．０２モル）の１，５−ジクロロアントラキノン、６０ｍｇの銅粉末及び２０ｇ（０．１７モル）のＮ，Ｎ−ジエチルエチレンジアミンを含む混合物を、大気圧（約１０^５パスカル（Ｐａ））下で約１２０〜約１２５℃に５時間加熱した。次いで、得られた溶液を５０℃に冷却した後、４０ｍｌのメタノールでトリチュレートし、５０℃でさらに１時間攪拌した。次いで、こうして得られた生成物塊を１００ｍｌの氷冷水中にゆっくりと注ぎ込んだ。次いで、沈殿を濾別し、水で洗い、５０℃で１晩乾燥した。収量は６．５０ｇであった。ＨＰＬＣを用いて測定したところ、９８％の純度が得られた。^１Ｈ ＮＭＲ分光法（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）で生成物の特性決定を行ったところ、δ１．０８（三重線（ｔ），１２Ｈ）、δ２．６５（四重線（ｑ），８Ｈ）、δ２．８２（ｍ，４Ｈ）、δ３．４０（ｍ，４Ｈ）、δ６．９８（ｄ，２Ｈ）、δ７．５４（ｍ，４Ｈ）、δ９．７５（ＮＨ）であった。

実施例３
この実施例では、１，８−ビス（シクロヘキシルアミノ）アントラキノンの合成を詳述する。２８．００ｇ（０．１０１モル）の１，８−ジクロロアントラキノン、０．３ｇの銅粉末及び２８０ｍｌ（２．４５モル）のシクロヘキシルアミンを含む混合物を、大気圧下で１６０℃に１５時間加熱した。次いで、得られた溶液を６０℃に冷却した後、１５０ｍｌのメタノールでトリチュレートし、その温度でさらに１時間攪拌した。次いで、こうして得られた生成物塊を１０００ｍｌの１５％（ｗｔ／ｖｏｌ）氷冷ＨＣｌ溶液中にゆっくりと注ぎ込んだ。次いで、沈殿した生成物を濾別し、水を用いて酸を含まないように洗い、１００℃で真空乾燥した。収量は３７．００ｇであった。

次いで、こうして得られた粗生成物を２００ｍｌのメタノール中に懸濁し、１時間還流した後、混合物を室温に冷却した。生成物を濾別し、２０ｍｌの冷メタノール（１０℃）で洗い、吸引下で乾燥した。この段階で、９０ｖｏｌ％の石油エーテル及び１０ｖｏｌ％の酢酸エチルからなる溶離剤系を用いてＴＬＣ（薄層クロマトグラフィー）を実施したところ、低率のモノ縮合生成物が存在することがわかった。メタノール処理を繰り返して一置換生成物を完全に除去した。次いで、こうして得られた生成物を４リットル（Ｌ）の塩化メチレンに小分けして溶解し、そのたびに加熱還流し、Ｇ−２焼結漏斗を用いてセライト（けいそう土）層で濾過した。得られた溶液を減圧下で蒸発させることで、３４ｇの純粋な（即ち、ＨＰＬＣを用いて測定して純度９８％の）生成物を得た。^１Ｈ ＮＭＲ分光法（３００ＭＨｚ、重水素化ジクロロメタン（ＣＤ_２Ｃｌ_２）で生成物の特性決定を行ったところ、δ１．３３〜２．１２（ｍ，２０Ｈ）、δ３．５５（ｍ，２Ｈ）、δ７．１１（ｄ，２Ｈ）、δ７．４８（ｍ，４Ｈ）、δ９．７３（ＮＨ）であった。

実施例４
この実施例では、１，８−ビス（イソプロピルアミノ）アントラキノンの合成を詳述する。３．００ｇ（０．０１１モル）の１，８−ジクロロアントラキノン、３０ｍｇの銅粉末、３０ｍｇのヨウ化銅（Ｉ）及び２５ｍｌ（０．２９モル）のイソプロピルアミンを含む混合物を２０ｍｌ（０．３４モル）のエチレングリコールに添加し、得られた懸濁液を密封容器内で１６０℃に１５時間加熱した。次いで、得られた溶液を室温（約２３℃）に冷却し、内容物を１００ｍｌの１５％氷冷酢酸溶液中にゆっくりと注ぎ込んだ。次いで、沈殿した生成物を濾別し、酸を含まないように洗い、１００℃で真空乾燥した。収量は３．００ｇであった。次いで、試料の一部に対し、８０体積パーセント（ｖｏｌ％）のｎ−ヘキサン及び２０ｖｏｌ％の酢酸エチルを含む混合溶媒を溶離剤系として用いるカラムクロマトグラフィーを施すことで、純粋な状態の生成物を得た。ＨＰＬＣで測定して９３％の純度で３４ｇの収量が得られた。^１Ｈ ＮＭＲ分光法（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）で生成物の特性決定を行ったところ、δ１．３９（ｄ，１２Ｈ）、δ３．８６（ｍ，２Ｈ）、δ７．０７（ｄ，２Ｈ）、δ７．５０（ｍ，４Ｈ）、δ９．７３（ＮＨ）であった。

実施例５
この実施例では、１，８−ビス（２−エチルヘキシルアミノ）アントラキノンの合成を詳述する。４．００ｇ（０．０１４モル）の１，８−ジクロロアントラキノン、６０ｍｇの銅粉末及び１０ｇ（０．０７７モル）の２−エチルヘキシルアミンをフラスコ内で３５ｍｌのエチレングリコールに添加し、得られた懸濁液を１６０℃に１６時間加熱した。次いで、フラスコの内容物を室温に放冷した後、３０ｍｌのメタノールを添加して３０分間攪拌した。次いで、得られた混合物を５０ｇの１５％氷冷ＨＣｌ溶液中にゆっくりと注ぎ込んだ。生じた沈殿を濾別し、酸を含まないように洗い、１００℃で真空乾燥した。収量は３．５０ｇであった。次いで粗生成物を、８０ｖｏｌ％のｎ−ヘキサン及び２０ｖｏｌ％の酢酸エチルからなる溶離剤系を用いるカラムクロマトグラフィーで精製した。ＨＰＬＣを用いて測定したところ、９３％の純度が得られた。^１Ｈ ＮＭＲ分光法（３００ＭＨｚ、重水素化ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯＤ_６））で生成物の特性決定を行ったところ、δ０．９５（ｍ，１２Ｈ）、δ１．３５〜１．７２（ｍ，１８Ｈ）、δ３．２２（ｍ，４Ｈ）、δ７．０５（ｄ，２Ｈ）、δ７．５０（ｍ，４Ｈ）、δ９．７３（ＮＨ）であった。

実施例６
この実施例では、１，８−ビス（３−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ−プロピルアミノ）アントラキノンの合成を詳述する。５．００ｇ（０．０１８モル）の１，８−ジクロロアントラキノン、５０ｍｇの銅粉末及び４０ｇ（０．３９モル）のＮ，Ｎ−ジメチルアミノ−３−プロピルアミンを含む混合物を、大気圧下で１２０℃に３時間加熱した。次いで、得られた溶液を６０℃に冷却し、２０ｍｌのメタノールを用いてトリチュレートし、その温度で１時間攪拌した。次いで、こうして得られた生成物塊を２００ｍｌの氷冷水中にゆっくりと注ぎ込んだ。次いで、生じた沈殿を濾別して２ｇの生成物を得た。次いで、粗試料の一部に対し、８０ｖｏｌ％のｎ−ヘキサン及び２０ｖｏｌ％の酢酸エチルを含む混合溶媒を溶離剤系として用いるカラムクロマトグラフィーを施すことで、純粋な状態の生成物を得た。ＨＰＬＣで測定したところ、９８％の純度が得られた。^１Ｈ ＮＭＲ分光法（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）で生成物の特性決定を行ったところ、δ１．９４（ｍ，４Ｈ）、δ２．２９（一重線（ｓ），１２Ｈ）、δ２．４６（ｔ，４Ｈ）、δ３．４０（ｍ，４Ｈ）、δ７．０７（ｄ，２Ｈ）、δ７．５２（ｍ，４Ｈ）、δ９．７５（ＮＨ）であった。

実施例７
この実施例では、１，８−ビス（２−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ−エチルアミノ）アントラキノンの合成を詳述する。１０．００ｇ（０．０３６モル）の１，８−ジクロロアントラキノン、０．３ｇの銅粉末及び６０ｇ（０．５１モル）のＮ，Ｎ−ジエチルエチレンジアミンを含む混合物を、大気圧下で１３０℃に５時間加熱した。次いで、得られた溶液を６０℃に冷却した後、２５ｍｌのメタノールでトリチュレートし、その温度でさらに１時間攪拌した。次いで、こうして得られた生成物塊を１００ｍｌの氷冷水中にゆっくりと注ぎ込んだ。次いで、沈殿した生成物を濾別し、水で洗い、５０℃で１晩乾燥した。全収量は８．００ｇであった。ＨＰＬＣを用いて測定したところ、９７％の純度が得られた。^１Ｈ ＮＭＲ分光法（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）で生成物の特性決定を行ったところ、δ１．１１（ｔ，１２Ｈ）、δ２．６５（ｑ，８Ｈ）、δ２．８２（ｔ，４Ｈ）、δ３．４０（ｍ，４Ｈ）、δ７．０３（ｄ，２Ｈ）、δ７．５１（ｍ，４Ｈ）、δ９．７２（ＮＨ）であった。

実施例８
この実施例では、ベンゾピランレッドの合成を詳述する。下記の式（XXIV）のイミノ化合物９．００ｇ（０．０１７モル）を、３０分間攪拌することで１５０ｍｌのピリジンに溶解した。

次いで、６．４ｇ（０．０３３６モル）の塩化１−ナフトイルを細い流れとして添加した後、反応塊の温度をさらに１．５時間にわたり１００℃に維持した。この段階で、３０ｖｏｌ％の石油エーテル及び７０ｖｏｌ％の酢酸エチルからなる溶離剤系を用いてＴＬＣによる分析を行ったところ、反応は完結していないことがわかった。この段階で、２．０ｇ（０．０１モル）の塩化ナフトイルを添加し、加熱を１００℃でさらに３０分間続けたところ、イミノ化合物からナフトイル誘導体への完全な転化がＴＬＣで確認された。次いで、生成物塊を室温に放冷し、攪拌下で８００ｍｌの水中にゆっくりと注ぎ込み、攪拌を３０分以上続けることで生成物を完全に沈殿させた。次いで、沈殿した生成物を濾別し、２００ｍｌの水で洗い、吸引下で乾燥した。次いで、粗生成物を精製するため、７０ｖｏｌ％の酢酸エチル及び３０ｖｏｌ％の石油エーテルを含む混合溶媒１００ｍｌ中で１時間還流した後、内容物を室温に冷却し、濾過し、５０ｍｌの石油エーテルで洗った。生成物をさらに精製するため、５０ｖｏｌ％の酢酸エチル及び５０ｖｏｌ％の石油エーテルを含む混合溶媒１００ｍｌ中で１時間還流した後、内容物を室温で濾過し、５０ｍｌの石油エーテルで洗い、１００℃で１晩真空乾燥した。生成物は８．６ｇの重量を有しており、２５４ｎｍで吸収を示さなかった。ＨＰＬＣを用いて測定したところ、９８％の純度が得られた。さらに、^１Ｈ ＮＭＲ分光法（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）（δ１．１８（ｔ，６Ｈ）、δ３．６（ｑ，４Ｈ）、δ６．８５（ｓ，１Ｈ）、δ７．１０（ｄ，１Ｈ）、δ７．３９〜８．５７（ｍ，１１Ｈ）、δ９．０４（ｓ，１Ｈ）、δ９．２７（ｄ，１Ｈ））及びＩＲ分光法で生成物の特性決定を行った。

実施例１〜８について求めたＨＰＬＣデータに関しては、３つの方法を使用した。これの方法のすべてで、１ミリリットル／分（ｍｌ／ｍｉｎ）の流量及び２５℃のカラム温度を使用した。方法Ｉでは、４．６×１５０ミリメートル（ｍｍ）で５マイクロメートル（μｍ）のＺｏｒｂａｘ Ｅｃｌｉｐｓｅ ＸＤＢ−Ｃ１８（Ａｇｉｌｅｎｔ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社（米国カリフォルニア州パロアルト）製のＨＰＬＣカラム）、及び表２に示す溶媒勾配を使用した。方法IIでは、４．６×１５０ｍｍで５マイクロメートルのＺｏｒｂａｘ Ｅｃｌｉｐｓｅ ＸＤＢ−Ｃ１８、及び表３に示す溶媒勾配を使用した。方法IIIでは、４．６×２５０ｍｍで５マイクロメートルのＺｏｒｂａｘ Ｅｃｌｉｐｓｅ ＲＸ−ＳＩＬ、及び１５ｖｏｌ％のアセトニトリルと８５ｖｏｌ％のジクロロメタンとからなる溶媒組成を使用した。

実施例９
この実施例では、数種のアントラキノン誘導体を製造し、複光束ＵＶ／ＶＩＳ Ｐｅｒｋｉｎ−Ｅｌｍｅｒ Ｌａｍｂｄａ９００ ＵＶ／ＶＩＳ／ＮＩＲ分光光度計を用いて３００〜８００ｎｍの波長域内におけるそのＵＶ−ＶＩＳスペクトル特性を塩化メチレン溶液中で測定した。アントラキノン誘導体の構造を表４に示すが、光学的性質は上記表１に示されている。

表１からわかる通り、すべてのアントラキノン類は６００ｎｍ／３６５ｎｍの波長で約１．５以上の吸光度比を示す。しかし、６００ｎｍ／３６５ｎｍの波長で約３以上の吸光度比を示すのは、１，５−アントラキノン類の一部にすぎない。１，８−アントラキノン類は一般に６００ｎｍ／３６５ｎｍの波長で約３以上の吸光度比を示すので、レーザービーム又は任意の他の光源（例えば、発光ダイオード）が通過する層上にＵＶ硬化性接着剤が位置している光記憶媒体（非限定再生型）及びセンサー用途（例えば、センサー窓）のような、高い吸光度比の値を要求する特定の専門用途では、これらの１，８−アントラキノン類が１，５−アントラキノン類より好ましい場合がある。６００ｎｍ及び３６５ｎｍは波長の例である。異なる硬化装置及び読出装置では、異なる波長が要求されることがある。この点で、６００ｎｍ／３６５ｎｍの波長でそれぞれ２２．４及び１６．３の高い吸光度比を示す試料Ｎｏ．７及び４はさらに好ましい。

すべてのアントラキノン誘導体に関する６５０ｎｍ／６００ｎｍの波長での吸光度比は百分率として表されていて、一般に１０％未満である。１，５−アントラキノン誘導体は、６５０ｎｍで１，８−アントラキノン誘導体より低い吸光係数を示す。１，５−アントラキノン誘導体を１，８−アントラキノン誘導体と混合することで、吸光度比を所望の値に微調整することが可能な場合がある。このように吸光度比を微調整できることは、約５５０ｎｍの波長での吸収を増加させながら約６５０ｎｍの波長での媒体（例えば、ディスク基板）の透過率を高めることが望ましい場合に有用となり得る。

実施例１０
この実施例では、表５に示す処方を用いて光学品質の組成物（試料９〜１２）を製造した。１，８−アントラキノン誘導体は、前述の実験手順に従って合成した。１，５−アントラキノン誘導体の一部は、前節に記載したようにして合成した。１，５−ビス（シクロヘキシルアミノ）アントラキノンだけは、Ｋｅｙｓｔｏｎｅ Ａｎｉｌｉｎｅ社（米国）からソルベントレッド２０７のカラーインデックス名で購入した。建染紫色染料も、Ｋｅｙｓｔｏｎｅ Ａｎｉｌｉｎｅ社からバットバイオレット３のカラーインデックス名で入手した。試料１２中では、実施例８からのベンゾピランレッドを使用した。ホスファイト系安定剤はＤｏｖｅｒ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社から入手したＤｏｖｅｒｐｈｏｓ Ｓ−９２２８であり、離型剤はＭｉｔｓｕｂｉｓｈｉ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ社から入手したグリセロールモノステアレートであった。

ソルベントレッド５２及びディスパースオレンジ４７は、Ｂａｙｅｒ社（米国ペンシルバニア州ピッツバーグ）からそれぞれＭａｃｒｏｌｅｘ Ｒｅｄ ５Ｂ及びＯｒａｎｇｅ Ｒの商品名で入手した。次いで、表５に示す組成物を押し出して、±１０％の相対厚さ許容差を有する厚さ０．６０ミリメートルのフィルムを形成し、これらを基板として使用した。基板の光学的性質は、Ｖａｒｉａｎ社（米国カリフォルニア州パロアルト）製のＵＶ−可視複光束分光光度計（モデルＣａｒｙ ３００ ＢＩＯ）を透過モードで用いて測定した。性質（即ち、パーセント透過率（％Ｔ）及び吸光度（Ａｂｓ）比）を表６に示す。これらの試料については、キセノン硬化指数及び光漂白濾光指数も計算し、表６中に報告する。

キセノン電球及び典型的なＩｒｇａｃｕｒｅ光開始剤（Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社（米国ニューヨーク州ターリータウン）製）に関し、硬化指数（上記式（１））の計算のための基準を表７に示す。Ｉｒｇａｃｕｒｅ光開始剤の吸光度は、３３０〜４５０ｎｍの範囲内で和が合計１００になるように正規化した。この波長範囲を選択したのは、ポリカーボネートのような透明ポリマー母材を通して接着剤層の硬化を行う場合にそれが普通だからである。キセノンランプに関する３３０〜４５０ｎｍでの典型的な分光照度分布（出力）を表７に示す。接着剤の硬化のために適したキセノンランプは、Ｘｅｎｏｎ社（米国マサチューセッツ州ウォーバーン）から入手できる。有効ランプエネルギーは、各波長についてランプ出力に開始剤の正規化効率（吸光度）を掛けることで計算される。開始剤の効率が不明の場合には、３３０〜４５０ｎｍで等しい感度を有する光開始剤をシミュレートするため、各波長について０．８２６４５の正規化効率値を使用すべきである。さらに、硬化ランプのランプ出力に関するデータが存在しない場合には、表７に示すキセノンランプ出力エネルギーを有効ランプエネルギーの計算のためのデフォルト値として使用すべきである。

表６からわかる通り、すべての試料について、６００ｎｍ／３６５ｎｍ又は６００ｎｍ／４００ｎｍの波長での吸光度比は約２以上である。実際には、約２．５以上であると共に、約５以上が好ましくて達成されている。６５０ｎｍ／６００ｎｍの波長での吸光度比は、すべての試料について約０．１５以下である。実際には、約０．１０以下であると共に、約０．０７５以下が好ましくて達成されている。すべての試料は、６５０ｎｍの波長で７０％を超える透過率、６００ナノメートルの波長で約３０％未満（実際には約１０％以下）の透過率、及び５５０ナノメートルの波長で約５％未満（実際には約２％以下）の透過率を示している。試料９〜１３は、約０．５以上のキセノン硬化指数を示していることに注意されたい。硬化指数は、実際にはすべての試料について５を超えており、１０を超える値さえ好ましくて達成されている。さらに、試料９〜１３は約２．５以上の光漂白濾光指数（上記式（２）も参照されたい）を示しており、約４．０以上が好ましくて達成されており、約５．０超がさらに好ましくて達成されている。

実施例１１
この実施例では、光情報記憶媒体（ＤＶＤ）基板を成形するのに適した真の光学品質樹脂を高収量で製造するため、制御雰囲気（「クラス１００」清浄度等級）を有する施設内において１０マイクロメートルの細孔を有するフィルターを備えた溶融濾過ライン上で実施例１０からの試料Ｎｏ．１０を押し出した。押出機は、Ｗｅｒｎｅｒ ａｎｄ Ｐｆｌｅｉｄｅｒｅｒ社（米国ニュージャージー州）から商業的に入手できるタイプＺＳＫ−３０（即ち、３０ｍｍ押出機）であった。押出条件は、区画１＝４８０°Ｆ／区画２＝５００°Ｆ／区画３＝５２０°Ｆ／区画４＝５４０°Ｆ／区画５＝５５０°Ｆ／ダイヘッド＝５５０°Ｆ／スクリュー速度＝４００〜４５０回転／分（ｒｐｍ）であった。

標準的な手順を用いてペレット化材料からＤＶＤ−５ディスクを製造した。実施例１０からの試料１０に記載した組成物に対応する同一のペレット化材料から、Ｌ０及びＬ１基板の両方を成形した。Ｄａｉｃｕｒｅ ＳＤ−６９８ ＵＶ硬化性接着剤を用いてディスク基板同士を接着した。（Ｌ０及びＬ１基板の両方をこの材料から製造すると共に、完成ディスクの組成物には完全な電気的試験（ＡｕｄｉｏＤｅｖ ＵＳＡ社（米国カリフォルニア州ウッドランドヒルズ）から入手できるＡｕｄｉｏＤｅｖ ＤＶＤＰｒｏ ＳＡ３００ Ｐｕｌｓｅｔｅｃｈ Ｄｒｉｖｅ）及び機械的試験（Ｄｒ．Ｓｃｈｅｎｋ社（米国ミネソタ州ウッドベリー）から入手できるＤｒ．Ｓｃｈｅｎｋ ＰＲＯｍｅｔｅｕｓ ＭＴ１３６）を施したことに注意されたい。）試験の詳しい結果を表８に報告する。

表８中に示したパラメーターは、Ｉｎｄｕｓｔｒｙ Ｓｔａｎｄａｒｄ ＥＣＭＡ出版物番号２６７（ｗｗｗ．ｅｃｍａ−ｉｎｅｒｎａｔｉｏｎａｌ．ｏｒｇからオンラインで入手できる「１２０ｍｍ ＤＶＤ Ｒｅａｄ Ｏｎｌｙ ｄｉｓｋ ３ｒｄ ｅｄｉｔｉｏｎ」、２００１年４月）中に詳述されている通り、ＤＶＤディスクに関して規定された標準的なパラメーターに対応している。光学的／機械的パラメーターは、Ｄｒ．Ｓｃｈｅｎｋ ＰＲＯｍｅｔｅｕｓ ＭＴ１３６を用いて測定した。電気的パラメーターは、ＡｕｄｉｏＤｅｖ ＤＶＤＰｒｏ ＳＡ３００ Ｐｕｌｓｅｔｅｃｈ ｄｒｉｖｅを用いて測定した。

かかる組成物が限定再生型光情報記憶媒体の光漂白保護をもたらす可能性をさらに証明するため、透明基板を有する使用済みの限定再生型光情報記憶ディスク（ＤＶＤ）上に組成物（試料９〜１２）から製造した基板を配設し、促進耐候試験を施した。対照として透明な光学品質のフィルムを使用した。試験は、Ａｔｌａｓ社（米国イリノイ州シカゴ）製のウェザロメーター（Ｗ−ｏ−Ｍ）モデルＣｉ４０００内で行った。Ｗ−ｏ−Ｍの設定は表９に「促進暴露」として示すが、Ｗ−ｏ−Ｍ内での約２．８６時間（ｈｒｓ）はフロリダで屋外南面日光に１日暴露することに相当している。表９の設定を用いて、再生不可能になった後の限定再生型ディスクの光漂白抵抗性を試験した。反射率が１０％の値に達するまで反応層を酸化させるためにディスクを酸素（例えば、空気）に暴露し、次いでＷ−ｏ−Ｍでの試験前にディスクを酸素の存在下で１週間保存した。促進耐候試験の結果を変化させる危険（無効化波長の光への予備暴露）を回避するため、ディスクは光の不存在下で保存した。Ｗ−ｏ−Ｍでの試験は、最大約２８日間にわたるフロリダでの屋外南面日光暴露をシミュレートするため、約８０時間にわたり行った（８０時間の促進暴露）。（約７日間のフロリダでの屋外南面日光暴露をシミュレートする）約２０時間の促進暴露後、ディスクをＷ−ｏ−Ｍから取り出してディスクの反応率を測定し、次いでさらに約２０時間にわたり再びＷ−ｏ−Ｍ内に配置した（約１４日間のフロリダでの屋外南面日光暴露をシミュレートする合計約４０時間の促進暴露）。反射率を測定した後、ディスクをさらに約４０時間にわたり再びＷ−ｏ−Ｍ内に配置し（約２８日間のフロリダでの屋外南面日光暴露をシミュレートする合計約８０時間の促進暴露）、最後には約８０時間の暴露後に取り出してディスクの反射率を測定した。

Ｄｒ Ｓｃｈｅｎｋ Ｐｒｏｍｅｔｈｅｕｓ １３６（Ｄｒ Ｓｃｈｅｎｋ社（米国ミネソタ州ウッドベリー）から市販）を用いて、６５０ｎｍでのディスク反射率を測定した。参照ディスクの反射率は、Ｗ−ｏ−Ｍ内でのわずか２０時間の暴露後に６５０ｎｍの波長で約２２％に達した。試料９〜１２の組成物で保護された光情報記憶ディスクに関しては、対照試料で保護されたディスクと同じレベルの反射率に到達するのに（即ち、反射率が６５０ｎｍの波長で約２２％に増加した点まで光漂白されるのに）約８０時間を要した。最も高感度のＤＶＤプレーヤーは１０％という低い反射率値を有するディスクを読み出し得ることを知れば、かかる組成物は２週間以上のフロリダでの日光暴露に相当する光漂白に対しての顕著な追加の保護をもたらすことができる（即ち、１４日間のフロリダでの南面日光暴露又は（例えば、表９に示す条件下にあるＷ−ｏ−Ｍ内での）約４０時間の促進暴露と同等以上の処理を施しても、ディスクは読出し不可能のままである（１０％未満の反射率（９０％を超える吸光度）を有している）。さらに、制御部分及び好ましくは吸光物質が最初は６５０ｎｍで約７０％以上の光透過率を有するが、１６０時間の促進暴露後には６５０ｎｍでの初期光透過率が約５％以上減少し、好ましくは約１０％以上減少することも注目される。また、最初の８０時間の促進暴露後にも６５０ｎｍでの光透過率が２％以上減少することが好ましく、約５％以上がさらに好ましく、約１０％以上がさらに好ましい。

上記の実施例からわかる通り、プラスチックと、６５０ナノメートルの波長で７０％以上、６００ナノメートルの波長で約３０％以下、及び５５０ナノメートルの波長で約５％以下の透過率を有する吸光物質とを含む組成物を使用すれば、ＤＶＤのような光情報記憶媒体に光漂白保護をもたらすことができる。かかる組成物はまた、６００ｎｍ／３６５ｎｍ（又は６００ｎｍ／４００ｎｍ）の波長で約２以上、好ましくは約３以上、さらに好ましくは約５以上、さらに一段と好ましくは約１０以上の吸光度比を有している。

一般に、高い光漂白濾光指数を与える組成物の能力は、光情報記憶媒体で使用する反応層の効率的な保護をもたらす。６００ｎｍ／３６５ｎｍ又は６００ｎｍ／４００ｎｍの波長での高い吸光度比と組み合わせた場合、制御部分は接着剤層の硬化を達成するために使用する波長（即ち、通例は約３６５ｎｍ又は４００ｎｍ）で十分な放射を透過させる。これらの組成物は、光情報記憶媒体用の厚さ約０．１〜約１．０ミリメートルの読出側基板に成形した場合、約４８時間以上にわたり光漂白に対する保護をもたらすことができる。なお、約１週間以上が可能であり、約２週間以上が容易に達成でき、約４週間以上の直射日光による光漂白保護が可能である。さらに、かかる組成物は約６５０ｎｍ／約６００ｎｍの波長で約０．１以下の限られた吸光度比を示すので、それはレーザーを濾光することでレーザー読出波長を顕著に妨害することはない。

実施例１２：記憶媒体の特性決定
記憶媒体の限定再生機能性は、様々な方法で決定できる。記憶媒体の限定再生機能性を測定する１つの方法は、パッケージからディスクを取り出し、ＤＶＤの場合であればＰＲＯＭｅｔｅｕｓ ＤＶＤテスター（例えば、Ｄｒ．Ｓｃｈｅｎｋ社から入手できるＰＲＯＭｅｔｅｕｓモデル１４６）のような光媒体検査装置を用いてレーザー波長（例えば、ＤＶＤに関しては６５０ｎｍ）での初期反射率を測定することを含んでいる。次いで、漸増的な酸素暴露後にディスク反射率を時間の関数として測定できる。ディスク反射率が酸素暴露の増加と共に低下するならば、それはディスク上でデータにアクセスできる時間を限定する反応層の存在を示している。光媒体検査装置を用いてディスク反射率を測定できるという事実は、ディスクが反射層を含むことを示している。

大抵のディスク構造では、反射層は人間の目に見える。人間の目に見えないならば、光学顕微鏡又は電子顕微鏡検査技術を用いて反射層の存在を決定できる。若干の例では、エネルギー分散型Ｘ線分光法と結合した走査電子顕微鏡検査を使用することで、反射層（及び該当する場合には半反射層）に関する元素組成のような追加の情報を得ることができる。制御部分が他の層から分離している場合（下記参照）、反応層に直接アクセス可能であり、その組成に関する定性的及び定量的情報を得るためにＡＴＲ分光法で分析できることに注意されたい。

記憶媒体の様々な層の相対位置を決定するための１つの方法は、媒体（例えば、ディスク）の横断面を見ることである。光学顕微鏡検査又はＳＥＭを用いて様々な層を明確に同定することができる。若干の例では、酸素暴露前のディスクの横断面と再生不可能になった後のディスクの横断面とを比較するのが容易である。これは、通常は反応層の色が酸素暴露後に変化し、したがってその位置を一層容易に決定できるからである。紫外（ＵＶ）域、可視（Ｖｉｓ）域、近赤外（ＮＩＲ）域又は赤外域での減衰全反射（ＡＴＲ）分光法を用いれば、反応層がディスクの外面に位置していないことを確認できる点に注意されたい。通例は材料の表面を分析するために使用されるこの技術を用いて、例えば、酸素暴露前及び酸素暴露後のディスクを比較すればよい。もし反応層がディスクの外面に位置していれば、ＡＴＲ分光法でスペクトル応答の顕著な変化が検出されるであろう。

制御部分の性質の決定は、好ましくは制御部分が媒体の残部から分離された状態で行われる。制御部分を他の層に結合（例えば、接着）する前に分析することが好ましい。さもなければ、制御部分を他の層から機械的に分離した後に分析してレーザー波長での光透過率を測定することが好ましい。複光束ＵＶ／Ｖｉｓ又はＵＶ／Ｖｉｓ／ＮＩＲ分光光度計（例えば、Ｖａｒｉａｎ社から入手できるＣａｒｙ３００測定器）を用いて、レーザー波長（例えば、ＤＶＤに関しては６５０ｎｍ）での光のパーセント透過率を確認できる。分光光度計により透過モードで記録された制御部分の分光データから、上記実施例１０に例示したようにして硬化指数及び濾光指数を計算できる。

制御部分中の吸光物質のモル吸光係数は、塩化メチレン溶液中での測定で求められる。この係数を求めるためには、様々な方法が使用できる。例えば、ポリマー樹脂中の吸光物質の性質を決定することができる。最も簡単な場合には、光透過率、硬化指数及び濾光指数の計算のため以前に求めたスペクトルデータが、各吸光物質の正確な化学的性質（及び場合によっては添加量）を決定するのに十分である。固体状態でのスペクトルデータが吸光物質の同定を可能にしなければ、制御部分を塩化メチレンに溶解してさらに分析を行うことができる。吸光物質の性質及び／又は添加量を決定するためには、液体クロマトグラフィー（ＬＣ）、高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）、核磁気共鳴（ＮＭＲ）分光法又はＵＶ／Ｖｉｓ／ＮＩＲ分光法をはじめとする技術を単独で又は組み合わせて使用できる。ＬＣ／ＭＳ（液体クロマトグラフィー／質量分析法）又はＧＣ／ＭＳ（ガスクロマトグラフィー／質量分析法）のような複合技術を使用すれば、吸光物質の性質及び／又は分子量に関する追加の細目に到達することができる。さらに、吸光物質の実際の添加量を決定するため、特定の分析技術に関して検量線を作成することができる。さもないと、特性決定又は添加量決定に際しては、分析用の吸光物質をさらに単離するために定量的クロマトグラフィー分離（例えば、分取用高速液体クロマトグラフィー）が必要となろう。

制御部分の他の成分から吸光物質を単離した場合には、溶媒を蒸発させて吸光物質を秤量することで、制御部分中でのその初期添加量を計算することが可能である。吸光物質を単離した場合には、質量分析法のような分析技術を用いて、少なくとも化合物の分子量及び（場合によっては）化学式を求めることが可能である。この時点で、吸光物質を既知量の塩化メチレンに再溶解し、ＵＶ／Ｖｉｓ又はＵＶ／Ｖｉｓ／ＮＩＲ複光束分光光度計を用いてスペクトルデータを記録することで、吸光係数を容易に測定できる。

吸光物質が同定されれば、モル吸光係数は履歴データから検索できるか、或いは純粋な吸光物質の塩化メチレン溶液から出発して再測定できる。本明細書中に説明される通り、複光束分光光度計を用いて、物質の溶解度が問題にならない限りは０．８〜１．２単位の吸光度値（又は光学濃度）に相当する希釈度で吸光物質溶液のスペクトルデータを記録するのが通例である。次いで、各染料の分子量及び特定の波長で記録された吸光度を与えるため溶液中に使用した量を知れば、ベールの法則を用いて吸光係数を容易に計算できる。

制御部分中に複数の未知吸光物質が存在し、しかも同定のため（又は吸光係数の個別測定のため）互いに分離することができない場合には、平均分子量及び平均吸光係数の測定が可能である。吸光物質の平均分子量は、ＧＣ／ＭＳ実験、ＧＰＣ又は他の技術から得たデータを用いて計算できる。もちろん、平均値は利用できる分析データから最もよく推定される各吸光物質の相対濃度を反映する必要がある。この場合の吸光係数測定は、単一の独立した吸光物質に関する計算に類似していて、違いは吸光物質の合計重量（又は全重量）及び平均分子量を用いて塩化メチレン溶液中の吸光物質のモル濃度を計算する点だけである。

一般に、光媒体では、媒体を高強度の光（例えば、直射日光）に長期間（通例は最大１週間まで）暴露することで限定再生機能性を無効化し得ることが判明している。日光への暴露は反応層（例えば、反応層はロイコメチレンブルーの誘導体を含むが、これは酸素暴露後に徐々に酸化して読出レーザー波長で光を吸収するようになる。）を劣化させる結果、反応層は読出レーザー波長でもはや光を吸収しなくなる。換言すれば、最初は読出レーザー波長で透明である反応性物質が記憶媒体の反射層と読出面との間に配設される。反応性物質と読出面との間に制御部分（例えば、基板、層及び／又は被膜）が配設される。媒体パッケージが開封されると、反応性物質は（例えば、酸素と）反応し始めて、読出レーザー波長でのその光透過率が低下する。結局、媒体は読出し不可能になる（即ち、反応性物質によるレーザー光の吸収のために媒体からデータを回収できなくなる）。

媒体の限定再生能力が高強度の光（例えば、日光）への媒体の長期暴露で無効化されるのを防止するために制御部分が使用される。制御部分は、読出レーザー波長で約６０％以上の透過率を有しており、約７０％以上が好ましく、約７８％以上がさらに好ましく、約８２％以上がさらに一段と好ましい。制御部分は、基本制御波長（例えば、６００ｎｍ）／硬化波長（例えば、３６５ｎｍ又は４００ｎｍ）で約２以上の吸光度比も有しており、約３以上が好ましく、約５以上がさらに好ましく、約１０以上が最も好ましい。好ましくは、制御部分は高強度光の波長（例えば、限定再生機能性を無効化するために使用する光の波長（無効化波長））で約３０％以下の透過率を有しており、約２０％以下がさらに好ましく、約１０％以下がさらに一段と好ましく、約５％以下が最も好ましい。大抵の場合には、限定再生機能性は比較的広い範囲の波長で無効化できる。このような場合、又は実際の無効化波長が明確に確認できない場合には、レーザー波長より５０ｎｍ低い無効化波長（又は基本制御波長）（例えば、６５０ｎｍのレーザー波長に対しては６００ｎｍ）を選択することが好ましい。

本発明の媒体及び吸光物質の使用に関する別の利点は、これらの物質の一部が媒体の限定再生性を増強し得ることである。換言すれば、かかる吸光物質は制御部分に時間の経過と共に（例えば、無効化波長への暴露後に）低下するパーセント透過率を付与する。これらの吸光物質は、固有の無効化保護を提供し得る。かかる物質の例は１，８−ビス（シクロヘキシルアミノ）アントラキノンである。ポリカーボネート樹脂を基材とする基板中に吸光物質として使用した場合、６５０ｎｍでの光透過率は直射日光への暴露時間が増加するのに伴って減少する。

以上、例示的な実施形態に関して本発明を説明してきたが、当業者であれば、本発明の技術的範囲から逸脱せずに様々な変更及び均等物による構成要素の置換を行い得ることが理解されよう。加えて、本発明の本質的な範囲から逸脱することなく、特定の状況又は材料を本発明の教示に適合させるために数多くの修正を行うこともできる。したがって、本発明は本発明を実施するために想定される最良の形態として開示された特定の実施形態に限定されず、特許請求の範囲内に含まれるすべての実施形態を包含するものである。

限定再生型情報記憶媒体の１つの可能な構成を示す。 ベンゾピランレッドのＮＭＲスペクトルを示すグラフである。 ベンゾピランレッドの赤外スペクトルを示すグラフである。 単一の反射データ層及び単一の読出し側を有するＤＶＤ構造（ＤＶＤ−５構成）の略図である。 基板の中心の両側に配設された２つの反射データ層であって、各々が基板の相異なる側から読出し可能である２つの反射データ層を有するＤＶＤ構造（ＤＶＤ−１０構成）の略図である。 接着層の両側に配設された２つの反射データ層であって、両方が基板の同じ側から読出し可能である２つの反射データ層を有するＤＶＤ構造（標準ＤＶＤ−９構成）の略図である。 接着層の同じ側に配設された２つの反射データ層であって、両方が基板の同じ側から読出し可能である２つの反射データ層を有するＤＶＤ構造（「特殊」ＤＶＤ−９及びＤＶＤ−１４構成）の略図である。 ２つずつが（接着層）の各側に配設され、２つずつが基板の各側から読出し可能である４つの反射データ層を有するＤＶＤ構造の略図である。

符号の説明

１ ディジタル・バーサタイル・ディスク
３ 基板
５ 基板
７ データ層
８ 反射層
９ 反応層
１１ 基板表面

Claims (15)

1. 反射層（８）と、
   光学的に透明なポリマー樹脂と吸光物質を含む制御部分であって、当該制御部分が６５０ｎｍで約７０％以上の光透過率、約０．１以上の硬化指数、及び約２．５以上の濾光指数を有すると共に、吸光物質が（ＣＨ_２Ｃｌ_２溶液中で測定して）６００ｎｍで１５００ｍｏｌ^−１・ｃｍ^−１・Ｌ以上の最小吸光係数、（ＣＨ_２Ｃｌ_２溶液中で測定して）６５０ｎｍで約１０００ｍｏｌ^−１・ｃｍ^−１・Ｌ未満の最大吸光係数、及び６５０ｎｍ／６００ｎｍで約０．１未満の吸光係数比を有する、制御部分と、
   反射層（８）と制御部分との間に配設された反応層（９）であって、酸素暴露後に（反応層（９）の制御部分とは反対側に配設された）媒体上のデータにアクセスできる時間を限定するように設計された反応層（９）と
   を含んでなるデータ用限定再生型光記憶媒体。
2. 吸光物質が（６００ｎｍ／３６５ｎｍ）又は（６００ｎｍ／４００ｎｍ）で約５以上の吸光度比の１以上を有する、請求項１記載の記憶媒体。
3. 反応層（９）が酸化された場合の媒体は、約２０時間以上の促進暴露後に再生不可能であるという特性を有する、請求項１又は請求項２記載の記憶媒体。
4. 制御部分が約４．０以上の濾光指数を有する、請求項１乃至請求項３のいずれか１項記載の記憶媒体。
5. 制御部分が約５以上の硬化指数を有する、請求項１乃至請求項４のいずれか１項記載の記憶媒体。
6. 吸光物質が、アントラキノン誘導体、ベンソピラン誘導体、建染紫色染料、及びこれらの吸光物質の１種以上を含む組合せからなる群から選択される、請求項１乃至請求項５のいずれか１項記載の記憶媒体。
7. 吸光物質が、それぞれ下記の式（IX）、（Ｘ）及び（XI）を有する１，４−、１，５−及び１，８−アントラキノン誘導体並びにこれらのアントラキノン誘導体の１種以上を含む組合せからなる群から選択されるアントラキノン誘導体を含む、請求項１乃至請求項６のいずれか１項記載の記憶媒体。
   

   

   （式中、Ｒ_１〜Ｒ_７は水素原子、ヒドロキシル基、脂肪族基、芳香族基、複素環式基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−ＣＯＲ_９、−ＣＯＯＲ_９、−ＮＲ_９Ｒ_１０、−ＮＲ_１０ＣＯＲ_１１、−ＮＲ_１０ＳＯ_２Ｒ_１１、−ＣＯＮＲ_９Ｒ_１０、−ＣＯＮＨＳＯ_２Ｒ_１０及びＳＯ_２ＮＨＣＯＲ_１１（式中、Ｒ_９及びＲ_１０は水素原子、脂肪族基、芳香族基及び複素環式基からなる群から独立に選択され、Ｒ_１１は脂肪族基、芳香族基及び複素環式基からなる群から選択される。）からなる群から独立に選択され、Ｒは水素、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜２０のシクロアルキル基、炭素原子数３〜２０のアリル基、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボン酸、炭素原子数６〜１０のアリール基、炭素原子数２０以下のアミノ基、炭素原子数１〜２０のアミド基、炭素原子数１〜２０のカルバモイル基、炭素原子数２〜２０のエステル基、炭素原子数１〜２０のアルコキシ又はアリールオキシ基、炭素原子数１〜２０のスルホンアミド基、２０以下の原子を含むスルファモイル基、五員複素環及び六員複素環からなる群から選択される。）
8. 吸光物質が１，８−ビス（シクロヘキシルアミノ）アントラキノンを含む、請求項７記載の記憶媒体。
9. 吸光物質が下記の式（XII）を有するベンゾピラン誘導体を含む、請求項６乃至請求項８のいずれか１項記載の記憶媒体。
   

   

   （式中、Ｒは非置換又は置換アリール基であり、Ｒ_８はアルコキシカルボニル、ニトロ、シアノ、アルキルスルホニル、ベンゾイミダゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾオキサゾリル及びキノキサリニルからなる群から選択され、Ｒ_１及びＲ_２は水素及び非置換又は置換アルキル基（ここで、置換基はＣ_１〜Ｃ_１５一価ヒドロカルビル、アルコキシ、シアノ、ハロ、カルボキシル及びカルボアルコキシからなる群から選択される。）からなる群から独立に選択される。）
10. 吸光物質が下記の式（XIV）を有する建染紫色染料を含む、請求項６乃至請求項９のいずれか１項記載の記憶媒体。
    

    

    （式中、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３及びＲ_４は水素、ハロゲン、アルキル、アリール、アルコキシ、アルコイル、アミド、アルコール、ニトリル、ニトロ、エステル及びエーテルからなる群から独立に選択される。）
11. 吸光物質が下記の式（XV）のアントラキノン誘導体を含む、請求項６乃至請求項１０のいずれか１項記載の記憶媒体。
    

    

    （式中、Ｒ_１は水素、脂肪族基、芳香族基及び複素環式基からなる群から選択され、Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５、Ｒ_６、Ｒ_７、Ｒ_８及びＲ_９は水素、１〜２０の炭素原子を有するアルキル基、３〜２０の炭素原子を有するシクロアルキル基、３〜２０の炭素原子を有するアリル基、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボン酸、６〜１０の炭素原子を有するアリール基、２０以下の炭素原子を有するアミノ基、１〜２０の炭素原子を有するアミド基、１〜２０の炭素原子を有するカルバモイル基、２〜２０の炭素原子を有するエステル基、１〜２０の炭素原子を有するアルコキシ又はアリールオキシ基、１〜２０の炭素原子を有するスルフィド基、１〜２０の炭素原子を有するスルホンアミド基、２０以下の原子を有するスルファモイル基、五員複素環及び六員複素環からなる群から独立に選択され、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５、Ｒ_６、Ｒ_７、Ｒ_８及びＲ_９の１以上の基は水素原子と異なる。）
12. 制御部分が５５０ｎｍの波長で約０．１％以下の透過率を有する、請求項１乃至請求項１１のいずれか１項記載の記憶媒体。
13. 限定再生型光記憶媒体の製造方法であって、
    ポリマー樹脂と吸光物質とを混合して制御組成物を形成し、
    制御組成物から、６５０ｎｍで約７０％以上の光透過率、約０．１以上の硬化指数、及び約２．５以上の濾光指数を有する制御部分であって、吸光物質が（ＣＨ_２Ｃｌ_２溶液中で測定して）６００ｎｍで１５００ｍｏｌ^−１・ｃｍ^−１・Ｌ以上の最小吸光係数、（ＣＨ_２Ｃｌ_２溶液中で測定して）６５０ｎｍで約１０００ｍｏｌ^−１・ｃｍ^−１・Ｌ未満の最大吸光係数、及び６５０ｎｍ／６００ｎｍで約０．１未満の吸光係数比を有する制御部分を形成し、
    制御部分の一方の側に反射層（８）及び反応層（９）を配設すると共に、反応層（９）が制御部分と反射層（８）との間に配設され、反応層（９）が酸素暴露後に（反応層（９）の制御部分とは反対側に配設された）媒体上のデータにアクセスできる時間を限定するように設計される
    ことを含んでなる方法。
14. 反射層（８）と、
    光学的に透明なポリマー樹脂と吸光物質を含む制御部分であって、当該制御部分が最初は６５０ｎｍで約７０％以上の光透過率を有するが、１６０時間の促進暴露後には光透過率が６５０ｎｍでの初期光透過率から約５％以上減少する、制御部分と、
    反射層（８）と制御部分との間に配設された反応層（９）であって、酸素暴露後に（反応層（９）の制御部分とは反対側に配設された）媒体上のデータにアクセスできる時間を限定するように設計された反応層（９）と
    を含んでなるデータ用限定再生型光記憶媒体。
15. ８０時間の促進暴露後に光透過率が約１０％以上減少する、請求項１４記載の記憶媒体。

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