JP2007528129A - ウエハレベルでの光−電子テスト装置および方法 - Google Patents
ウエハレベルでの光−電子テスト装置および方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007528129A JP2007528129A JP2007502910A JP2007502910A JP2007528129A JP 2007528129 A JP2007528129 A JP 2007528129A JP 2007502910 A JP2007502910 A JP 2007502910A JP 2007502910 A JP2007502910 A JP 2007502910A JP 2007528129 A JP2007528129 A JP 2007528129A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical
- wafer
- opto
- electronic
- test
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L22/00—Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/24—Coupling light guides
- G02B6/26—Optical coupling means
- G02B6/30—Optical coupling means for use between fibre and thin-film device
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/24—Coupling light guides
- G02B6/26—Optical coupling means
- G02B6/34—Optical coupling means utilising prism or grating
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
- G02B2006/12083—Constructional arrangements
- G02B2006/12107—Grating
Abstract
【解決手段】 シングル光−電子テストエレメントを用いたシリコン−オン−インシュレータ(SOI)ウエハ構造に形成された光−電子デバイスのウエハレベルテスト配列であって、光及び電気テストの双方を実行する配列。ビーム操縦光学部品をテストエレメントの上に形成しても良く、光プローブ信号と、SOI構造の上側表面の上に形成した光カップリングエレメント(例えば、プリズムカプラ、グレーティング)間のカップリングを容易にするために使用される。光テスト信号は、その後、SOI構造の上側層に形成した光導波管に向けられる。光電子テストエレメントは、また、光−電子デバイス上の複数のボンドパッドテスト部位と接触するように位置決めされ、電気テスト動作を行う複数の電気テストピンを具える。光テスト信号の結果は、SOI構造内で電気表示に変換され、従って、電気信号としてテストエレメントに戻る。
【選択図】 図1
Description
本出願は、2004年3月8日に出願した米国暫定出願第60/551,316号の利益を請求する。
本発明は、ウエハレベルテストの提供に関し、特に、単一のテストエレメントを用いて、シリコン−オン−インシュレータ(SOI)構造上に形成された様々なエレメントの光学的、電気的、および光−電子テストを提供する性能に関する。
半導体業界では、比較的大きなシリコンウエハ(一般的に直径数インチのオーダのもの)を処理して、複数の同じ集積回路を形成する。このウエハを完全に処理すると、「ダイス」に切って個別の集積回路を形成する。ほとんどの場合、数百個の同一回路がウエハ表面上に形成される。個別の回路の性能が、ダイスに切る前にテストされないと、「悪い」チップが更に処理されてパッケージングされることになり、貴重な時間と費用を無駄にすることになる。
従来技術に残る必要性に本発明は取り組んでいる。これは、ウエハレベルでのテストの提供に関し、特に、単一のテストエレメントを用いて、シリコン−オン−インシュレータ(SOI)構造の上に形成した様々なエレメントについての光学的、電気的及び光−電子テストを提供する性能に関するものであり、従来の電子部品のウエハ−レベルテストに関連する知識の主要部分に有利に影響を及ぼす。
上記に簡単に述べたとおり、SOIベースの光学構造用の光テストエレメントの開発における最大の挑戦は、繰り返し可能な態様で、テストする非常に薄い導波管に信頼性を持って光ビームをカップリングしなければならないことである。この薄い導波管に光が入射するのに必要な角度は、導波管の厚さと光信号の波長に強い相関関係があることが知られている(すなわち、SOI構造に入射する光のモード角を良く制御して、導波管内で特定のモードを励起する必要がある)。本発明の一の態様は、許容できるカップリングが、反復可能なベースで信頼性を持って実現できるような範囲にテスト信号の波長を「調整」する能力である。プロセスのバリエーションによって、ウエハごとに導波管層の厚さと、関連するエバネッセントカップリング層の厚さが変わる限り、本発明によるテスト波長をモニタして、「調整」する能力は、光−電子部品のウエハレベルでのテストにおける有意な進展であると考えられる。
Claims (26)
- シリコンウエハ上に形成した一体型光−電子シリコン−オン−インシュレータ(SOI)−ベース構造に用いるウエハ−レベルテスト配列において:
前記シリコンウエハの先端主表面に取り外し可能に接触させる光−電子テストエレメントであって、
少なくとも一の光テスト信号を前記SOI−ベース構造の方向に向ける少となくとも一の光入力信号路と;
テストされる前記光−電子SOI−ベース構造の表面上の複数のボンドパッドとパターンが合致するように配置され、テストされる前記光−電子SOI−ベース構造にエネルギィを与え、テストされる前記光−電子SOI−ベース構造へ電気テスト信号を提供し、テストされる前記光−電子SOI−ベース構造からの電気応答信号を提供する複数の電気テストピンと;
を具える光−電子テストエレメントと;
光−電子テストエレメントと、テストされる特定の前記光−電子SOI−ベース構造の表面との間に配置した光カップリング特徴であって、前記テストされる特定の前記光−電子SOI−ベース構造内に光テスト信号をカップリングする光カップリング特徴と;
を具えることを特徴とするウエハ−レベルテスト配列。 - 請求項1に記載のウエハ−レベルテスト配列において、前記少なくとも一の光入力信号路が、前記光−電子テストエレメントを通って所定の角度で配置された少なくとも一の光ファイバを具え、前記光カップリング特徴に所望の角度の光カップリングを提供することを特徴とするウエハ−レベルテスト配列。
- 請求項2に記載のウエハ−レベルテスト配列において、前記少なくとも一の光ファイバが、光ファイバアレイを具え、各ファイバが異なる光テスト信号を供給できることを特徴とするウエハ−レベルテスト配列。
- 請求項2に記載のウエハ−レベルテスト配列において、前記少なくとも一の光ファイバが少なくとも一のレンズ付光ファイバを具えることを特徴とするウエハ−レベルテスト配列。
- 請求項1に記載のウエハ−レベルテスト配列において、前記配列が更に:
少なくとも一の光テスト信号の波長を調整するチューニングエレメント;
を具えることを特徴とするウエハ−レベルテスト配列。 - 請求項1に記載のウエハ−レベルテスト配列において、前記光−電子テストエレメントが更に:
前記少なくとも一の光入力信号路と前記テストされる光−電子構造の先端主表面との間に光の方向/フォーカッシングを提供するビーム操縦/形成光学部品;
を具えることを特徴とするウエハ−レベルテスト配列。 - 請求項6に記載のウエハ−レベルテスト配列において、前記光−電子テストエレメントビーム操縦/形成光学部品が、電子的に制御可能な可動ミラーを具えることを特徴とするウエハ−レベルテスト配列。
- 請求項6に記載のウエハ−レベルテスト配列において、前記光−電子テストエレメントビーム操縦/形成光学部品が、偏光制御エレメントと、半波長板を具え、入力光テスト信号に偏光制御を提供することを特徴とするウエハ−レベルテスト配列。
- 請求項6に記載のウエハ−レベルテスト配列において、前記配列が更に:
前記シリコンウエハの表面に対する前記光信号の位置決めを調節するために前記SOI構造と前記ビーム操縦/形成光学部品との間に配置したフィードバック成分;
を具えることを特徴とするウエハ−レベルテスト配列。 - 請求項1に記載のウエハ−レベルテスト配列において、前記配列が更に:
前記光テスト入力信号の波長を調節して改善されたカップリング効率を提供するために、前記SOI構造と前記光入力信号路との間に配置したフィードバック成分;
を具えることを特徴とするウエハ−レベルテスト配列。 - 請求項1に記載のウエハ−レベルテスト配列において、前記光信号路が、偏波保持ファイバ、シングルモード光ファイバ、レンズ付偏波保持シングルモードファイバ、およびレンズ付シングルモードファイバからなる群から選択された導波管構造を具えることを特徴とするウエハ−レベルテスト配列。
- 請求項1に記載のウエハ−レベルテスト配列において、前記光カップリング特徴が、前記SOI構造の前記先端主表面の選択された領域の上に配置されたエバネッセントカップリング層を具え、当該エバネッセントカップリング層が、シリコンの屈折率より低い屈折率を示すことを特徴とするウエハ−レベルテスト配列。
- 請求項1に記載のウエハ−レベルテスト配列において、前記光カップリング特徴が、所定の入力光カップリング位置に配置された少なくとも一の光カップリングプリズムを具え、前記SOI構造にエバネッセントカップリングを提供することを特徴とするウエハ−レベルテスト配列。
- 請求項1に記載のウエハ−レベルテスト配列において、前記光カップリング特徴が、前記SOI構造内の所定の入力光カップリング位置に形成した少なくとも一の光グレーティングを具えることを特徴とするウエハ−レベルテスト配列。
- 請求項1に記載のウエハ−レベルテスト配列において、前記光−電子テストエレメントが更に、少なくとも一の光テスト応答信号を受信する少なくとも一の光出力信号路を具えることを特徴とするウエハ−レベルテスト配列。
- 請求項15に記載のウエハ−レベルテスト配列において、前記光カップリング特徴が更に、所定の出力光カップリング位置に配置した少なくとも一の光カップリングプリズムを具えることを特徴とするウエハ−レベルテスト配列。
- 請求項15に記載のウエハ−レベルテスト配列において、前記光カップリング特徴が更に、所定の出力光カップリング位置において前記SOI構造内に形成した少なくとも一の光グレーティングを具えることを特徴とするウエハ−レベルテスト配列。
- 請求項15に記載のウエハ−レベルテスト配列において、前記少なくとも一の光出力信号路が、偏波保持ファイバ、シングルモード光ファイバ、レンズ付偏波保持シングルモードファイバ、レンズ付シングルモードファイバ、マルチモードファイバ、およびレンズ付マルチモードファイバ、からなる群から選択されることを特徴とするウエハ−レベルテスト配列。
- シリコン−オン−インシュレータ(SOI)ウエハに形成した光−電子回路のウエハレベルでの光および電気テストを実行する方法であって、各光−電子回路が前記光−電子構造の表面導波管層へおよびこの表面導波管層から光カップリングを提供する少なくとも一のカップリングエレメントを具える方法において:
a)並進および回転移動が可能な多軸ステージ上に前記SOIウエハを位置決めするステップと;
b)光−電子テストエレメントを、個別SOI光−電子構造を規定する前記SOIウエハ表面の選択された領域に接触させるステップであって、前記光−電子テストエレメントが、前記個別SOI光−電子構造上の同じように配置された複数のボンドパッドと少なくとも一の光プローブ入力信号路を接触させるための複数の電気テストポイントを具え、少なくとも一の入力光テスト信号を前記個別SOI光−電子構造の前記少なくとも一のカップリングエレメント内にカップリングするステップと;
c)少なくとも一の光テスト信号と少なくとも一の電気テスト信号を前記個別SOI光−電子構造に前記光−電子テストエレメントを介して印加するステップと;
d)前記SOI光−電子構造からの少なくとも一の応答信号を前記光−電子テストエレメントを介して戻すステップと;
e)前記個別SOI光−電子構造の特性を決定する評価配列に、前記少なくとも一の応答信号を提供するステップと;
を具えることを特徴とする方法。 - 請求項19に記載の方法において、ステップd)を実行するに際して、少なくとも一の電気応答信号が前記光−電子テストエレメントに戻ることを特徴とする方法。
- 請求項19に記載の方法において、ステップd)を実行するに際して、少なくとも一の光応答信号が前記光−電子テストエレメントに戻ることを特徴とする方法。
- 請求項19に記載の方法において、ステップd)を実行するに際して、少なくとも一の光応答信号と少なくとも一の電気応答信号が前記光−電子テストエレメントに戻ることを特徴とする方法。
- 請求項19に記載の方法が更に:
f)前記光−電子テストエレメントの位置を前記シリコンウエハに対して並進させて、前記光−電子テストエレメントを別の個別SOI光−電子構造の上に位置させるステップと;
g)前記別の個別SOI光−電子構造についてステップb)乃至e)を繰り返すステップと;
を具えることを特徴とする方法。 - 請求項23に記載の方法が更に:
h)前記シリコンウエハ表面に形成されている各個別SOI光−電子構造について、ステップf)およびg)を繰り返すステップ;
を具えることを特徴とする方法。 - 請求項24に記載の方法が更に:
i)前記光及び電気応答信号を所定の受け入れ可能な値に評価するステップと;
j)ステップi)の評価に不適格な個別SOI光−電子構造を、続く廃棄用にマーキングするステップと;
を具えることを特徴とする方法。 - 請求項25に記載の方法が更に:
k)各個別SOI光−電子構造についてのテスト結果のソフトウエアベースでの記録を作るステップであって、当該ソフトウエアベースの記録が、テストされる特定のウエハのアイデンティティと、前記ウエハ表面の各個別SOI光−電子構造の一のマップを含むステップ;
を具えることを特徴とする方法。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US55131604P | 2004-03-08 | 2004-03-08 | |
US60/551,316 | 2004-03-08 | ||
US11/075,430 | 2005-03-08 | ||
US11/075,430 US7109739B2 (en) | 2004-03-08 | 2005-03-08 | Wafer-level opto-electronic testing apparatus and method |
PCT/US2005/007473 WO2005086786A2 (en) | 2004-03-08 | 2005-03-08 | Wafer-level opto-electronic testing apparatus and method |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007528129A true JP2007528129A (ja) | 2007-10-04 |
JP2007528129A5 JP2007528129A5 (ja) | 2008-04-03 |
JP4847440B2 JP4847440B2 (ja) | 2011-12-28 |
Family
ID=34915232
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007502910A Expired - Fee Related JP4847440B2 (ja) | 2004-03-08 | 2005-03-08 | ウエハレベルでの光−電子テスト装置および方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7109739B2 (ja) |
JP (1) | JP4847440B2 (ja) |
KR (1) | KR101141014B1 (ja) |
CA (1) | CA2558483C (ja) |
WO (1) | WO2005086786A2 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020030356A (ja) * | 2018-08-23 | 2020-02-27 | 富士通オプティカルコンポーネンツ株式会社 | 光デバイスおよび光送受信モジュール |
JP2020149022A (ja) * | 2019-03-15 | 2020-09-17 | 富士通オプティカルコンポーネンツ株式会社 | 光デバイス、これを用いた光モジュール、及び光デバイスの試験方法 |
JPWO2020255191A1 (ja) * | 2019-06-17 | 2020-12-24 | ||
US11293966B2 (en) | 2019-05-31 | 2022-04-05 | Advantest Corporation | Test apparatus for determining pass or fail of LEDs, test method and computer-readable medium |
US11788885B2 (en) | 2021-02-26 | 2023-10-17 | Advantest Corporation | Test apparatus, test method, and computer-readable storage medium |
US11800619B2 (en) | 2021-01-21 | 2023-10-24 | Advantest Corporation | Test apparatus, test method, and computer-readable storage medium |
WO2023243019A1 (ja) * | 2022-06-15 | 2023-12-21 | 日本電信電話株式会社 | 光半導体集積回路 |
Families Citing this family (55)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1436870A2 (en) * | 2001-10-09 | 2004-07-14 | Infinera Corporation | TRANSMITTER PHOTONIC INTEGRATED CIRCUITS (TxPIC) AND OPTICAL TRANSPORT NETWORKS EMPLOYING TxPICs |
US7184626B1 (en) * | 2003-04-07 | 2007-02-27 | Luxtera, Inc | Wafer-level testing of optical and optoelectronic chips |
US7672558B2 (en) * | 2004-01-12 | 2010-03-02 | Honeywell International, Inc. | Silicon optical device |
US7217584B2 (en) * | 2004-03-18 | 2007-05-15 | Honeywell International Inc. | Bonded thin-film structures for optical modulators and methods of manufacture |
US7149388B2 (en) * | 2004-03-18 | 2006-12-12 | Honeywell International, Inc. | Low loss contact structures for silicon based optical modulators and methods of manufacture |
US7177489B2 (en) * | 2004-03-18 | 2007-02-13 | Honeywell International, Inc. | Silicon-insulator-silicon thin-film structures for optical modulators and methods of manufacture |
US20050214989A1 (en) * | 2004-03-29 | 2005-09-29 | Honeywell International Inc. | Silicon optoelectronic device |
US7348786B2 (en) * | 2004-08-31 | 2008-03-25 | Georgia Tech Research Corporation | Probe module for testing chips with electrical and optical input/output interconnects, methods of use, and methods of fabrication |
WO2006030723A1 (ja) * | 2004-09-13 | 2006-03-23 | Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. | 半導体ウェーハの評価方法及び半導体ウェーハの評価装置 |
US20060063679A1 (en) * | 2004-09-17 | 2006-03-23 | Honeywell International Inc. | Semiconductor-insulator-semiconductor structure for high speed applications |
KR100990028B1 (ko) | 2005-10-18 | 2010-10-26 | 지에스아이 그룹 코포레이션 | 레이저 프로세싱 방법, 정렬 방법 및 레이저 프로세싱 시스템 |
US20070101927A1 (en) * | 2005-11-10 | 2007-05-10 | Honeywell International Inc. | Silicon based optical waveguide structures and methods of manufacture |
US7362443B2 (en) * | 2005-11-17 | 2008-04-22 | Honeywell International Inc. | Optical gyro with free space resonator and method for sensing inertial rotation rate |
US7442589B2 (en) * | 2006-01-17 | 2008-10-28 | Honeywell International Inc. | System and method for uniform multi-plane silicon oxide layer formation for optical applications |
US7514285B2 (en) * | 2006-01-17 | 2009-04-07 | Honeywell International Inc. | Isolation scheme for reducing film stress in a MEMS device |
US20070274655A1 (en) * | 2006-04-26 | 2007-11-29 | Honeywell International Inc. | Low-loss optical device structure |
US7454102B2 (en) * | 2006-04-26 | 2008-11-18 | Honeywell International Inc. | Optical coupling structure |
EP2009416A1 (en) * | 2007-06-29 | 2008-12-31 | Interuniversitair Microelektronica Centrum Vzw | Optical probe |
KR101334901B1 (ko) * | 2007-07-27 | 2013-12-02 | 삼성전자주식회사 | 전기 신호 전달 모듈 및 방법 그리고 전기 신호 전달모듈을 갖는 전기적 검사 장치 및 신호 전달 방법 |
KR20090053490A (ko) * | 2007-11-23 | 2009-05-27 | 삼성전자주식회사 | 광학 전송수단을 구비한 프루브 카드 및 메모리 테스터 |
DE102008011240B4 (de) * | 2008-02-26 | 2016-11-17 | Airbus Ds Electronics And Border Security Gmbh | Vorrichtung zur Kontaktierung eines T/R-Moduls mit einer Testeinrichtung |
KR101548176B1 (ko) * | 2009-02-02 | 2015-08-31 | 삼성전자주식회사 | 메모리 시스템, 메모리 테스트 시스템 및 이의 테스트 방법 |
US8952717B2 (en) * | 2009-02-20 | 2015-02-10 | Qmc Co., Ltd. | LED chip testing device |
US8248097B2 (en) * | 2009-04-02 | 2012-08-21 | International Business Machines Corporation | Method and apparatus for probing a wafer |
JP5735755B2 (ja) * | 2010-05-17 | 2015-06-17 | 株式会社アドバンテスト | 試験装置及び試験方法 |
US8654812B2 (en) * | 2011-01-25 | 2014-02-18 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Q-switched grating vertical-cavity surface-emitting laser system and method for fabricating the same |
US8625942B2 (en) * | 2011-03-30 | 2014-01-07 | Intel Corporation | Efficient silicon-on-insulator grating coupler |
SG11201501341WA (en) | 2012-09-12 | 2015-04-29 | Heptagon Micro Optics Pte Ltd | Testing of optical devices |
US9922887B2 (en) * | 2012-12-11 | 2018-03-20 | Acacia Communications, Inc. | Wafer-scale testing of photonic integrated circuits using horizontal spot-size converters |
KR20140095387A (ko) * | 2013-01-24 | 2014-08-01 | 삼성전자주식회사 | 광 소자를 포함하는 웨이퍼의 테스트 시스템 및 웨이퍼 테스트 방법 |
US9234854B2 (en) | 2013-03-15 | 2016-01-12 | International Business Machines Corporation | Single fiber noncritical-alignment wafer-scale optical testing |
CA2873573C (en) | 2013-12-10 | 2022-06-07 | University Of Ottawa | Metal-insulator-semiconductor devices based on surface plasmon polaritons |
US9383516B2 (en) * | 2014-09-02 | 2016-07-05 | Huawei Technologies Co., Ltd. | System and method for optical input/output arrays |
US9753220B2 (en) | 2014-09-02 | 2017-09-05 | Huawei Technologies Co., Ltd. | System and method for optical input/output arrays |
CN104362108B (zh) * | 2014-09-23 | 2017-05-24 | 华进半导体封装先导技术研发中心有限公司 | 光电测试装置 |
WO2016085473A1 (en) * | 2014-11-25 | 2016-06-02 | Hewlett Packard Enterprise Development Lp | Light redirecting test fixture |
WO2016201289A1 (en) * | 2015-06-10 | 2016-12-15 | Translarity, Inc. | Shaping of contact structures for semiconductor test, and associated systems and methods |
US10359567B2 (en) * | 2015-09-21 | 2019-07-23 | Elenion Technologies, Llc | Test systems and methods for chips in wafer scale photonic systems |
US10132999B2 (en) | 2016-06-30 | 2018-11-20 | International Business Machines Corporation | Sacrificial grating coupler for testing v-grooved integrated circuits |
DE112018004026A5 (de) | 2017-08-07 | 2020-05-28 | Jenoptik Optical Systems Gmbh | Lagetoleranzunempfindliches kontaktierungsmodul zur kontaktierung optoelektronischer chips |
JP6781120B2 (ja) | 2017-08-18 | 2020-11-04 | 株式会社日本マイクロニクス | 検査装置 |
CN108152864A (zh) * | 2017-12-14 | 2018-06-12 | 深圳市帝迈生物技术有限公司 | 样本试管类型的识别设备及样本试管类型的检测方法 |
DE102018108283A1 (de) * | 2018-04-09 | 2019-10-10 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Elektro-optische Leiterplatte zur Kontaktierung von photonischen integrierten Schaltungen |
US10429582B1 (en) | 2018-05-02 | 2019-10-01 | Globalfoundries Inc. | Waveguide-to-waveguide couplers with multiple tapers |
US10436982B1 (en) | 2018-07-18 | 2019-10-08 | Globalfoundries Inc. | Waveguide bends with field confinement |
KR102594414B1 (ko) | 2018-10-24 | 2023-10-30 | 삼성전자주식회사 | 프로브 장치 및 이를 포함하는 테스트 장치 |
TWI672480B (zh) | 2018-12-03 | 2019-09-21 | 財團法人工業技術研究院 | 光學量測裝置與方法 |
US11280959B2 (en) * | 2019-04-23 | 2022-03-22 | Ayar Labs, Inc. | Photonics systems to enable top-side wafer-level optical and electrical test |
US11906579B2 (en) | 2019-10-25 | 2024-02-20 | Jenoptik Gmbh | Wafer-level test method for optoelectronic chips |
TWI733226B (zh) * | 2019-10-25 | 2021-07-11 | 台灣愛司帝科技股份有限公司 | 發光二極體晶圓以及發光二極體晶圓檢測裝置與方法 |
US11243230B2 (en) * | 2019-12-30 | 2022-02-08 | Juniper Networks, Inc. | Compact opto-electric probe |
US10955614B1 (en) * | 2020-01-14 | 2021-03-23 | Globalfoundries U.S. Inc. | Optical fiber coupler structure having manufacturing variation-sensitive transmission blocking region |
CN112924143B (zh) * | 2021-01-29 | 2023-08-29 | 中国科学院微电子研究所 | 一种光子芯片晶圆级测试装置和方法 |
WO2023132785A1 (en) * | 2022-01-06 | 2023-07-13 | Compoundtek Pte. Ltd. | Apparatus for wafer level testing of semicondcutor device |
WO2024074782A1 (fr) * | 2022-10-06 | 2024-04-11 | Aryballe | Systeme de test en serie de puces destinees a l'analyse d'un analyte et elaborees sur des plaques en silicium |
Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0387705A (ja) * | 1989-06-13 | 1991-04-12 | Ricoh Co Ltd | 高効率プリズム結合装置及びその作成方法 |
GB2332775A (en) * | 1997-12-23 | 1999-06-30 | Lsi Logic Corp | Testing optical/electronic integrated circuits |
JP2002098849A (ja) * | 2000-09-25 | 2002-04-05 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光プローブ |
US20030040175A1 (en) * | 2001-05-17 | 2003-02-27 | Optronx, Inc. | Hybrid active and electronic circuit with evanescent coupling |
US20030123793A1 (en) * | 2001-12-28 | 2003-07-03 | Kjetil Johannessen | Optical probe for wafer testing |
WO2003067271A2 (en) * | 2002-02-01 | 2003-08-14 | Optonics, Inc. | Apparatus and method for dynamic diagnostic testing of integrated circuits |
US6686993B1 (en) * | 2001-03-05 | 2004-02-03 | Analog Devices, Inc. | Probe card for testing optical micro electromechanical system devices at wafer level |
US20040190826A1 (en) * | 2003-03-31 | 2004-09-30 | Margaret Ghiron | Permanent light coupling arrangement and method for use with thin silicon optical waveguides |
US20040213518A1 (en) * | 2003-04-28 | 2004-10-28 | Margaret Ghiron | Arrangements for reducing wavelength sensitivity in prism-coupled SOI-based optical systems |
US20050094939A1 (en) * | 2003-09-04 | 2005-05-05 | Margaret Ghiron | Interfacing multiple wavelength sources to thin optical waveguides utilizing evanescent coupling |
JP2006522943A (ja) * | 2003-04-10 | 2006-10-05 | シオプティカル インコーポレーテッド | ビーム成形と、薄いシリコン導波管への外部ソースおよび光学系の嵌合に関連する損失を減らす実用的方法 |
JP2006525677A (ja) * | 2003-04-21 | 2006-11-09 | シオプティカル インコーポレーテッド | シリコン・ベースの光デバイスの電子デバイスとのcmos互換集積化 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3777154A (en) * | 1972-02-07 | 1973-12-04 | R Lindsey | Optical data processing system |
US5119452A (en) * | 1989-06-13 | 1992-06-02 | Ricoh Company, Ltd. | High efficiency prism coupling device and method for producing the same |
US6577148B1 (en) * | 1994-08-31 | 2003-06-10 | Motorola, Inc. | Apparatus, method, and wafer used for testing integrated circuits formed on a product wafer |
US5841544A (en) | 1996-12-13 | 1998-11-24 | Lucent Technologies, Inc. | Method for positioning optical subassembly for testing |
US6337871B1 (en) | 1999-07-15 | 2002-01-08 | University Of Maryland Baltimore County (Umbc) | Multiple edge-emitting laser components located on a single wafer and the on-wafer testing of the same |
US6788847B2 (en) | 2001-04-05 | 2004-09-07 | Luxtera, Inc. | Photonic input/output port |
US6731122B2 (en) | 2001-08-14 | 2004-05-04 | International Business Machines Corporation | Wafer test apparatus including optical elements and method of using the test apparatus |
US6836135B2 (en) * | 2001-08-31 | 2004-12-28 | Cascade Microtech, Inc. | Optical testing device |
US6859587B2 (en) | 2001-12-28 | 2005-02-22 | Intel Corporation | Method and apparatus for wafer level testing of integrated optical waveguide circuits |
US6925238B2 (en) | 2002-07-16 | 2005-08-02 | Enablence Holdings Llc | Method and apparatus for on-wafer testing of an individual optical chip |
-
2005
- 2005-03-08 US US11/075,430 patent/US7109739B2/en active Active
- 2005-03-08 WO PCT/US2005/007473 patent/WO2005086786A2/en active Application Filing
- 2005-03-08 JP JP2007502910A patent/JP4847440B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2005-03-08 CA CA2558483A patent/CA2558483C/en active Active
- 2005-03-08 KR KR1020067019862A patent/KR101141014B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0387705A (ja) * | 1989-06-13 | 1991-04-12 | Ricoh Co Ltd | 高効率プリズム結合装置及びその作成方法 |
GB2332775A (en) * | 1997-12-23 | 1999-06-30 | Lsi Logic Corp | Testing optical/electronic integrated circuits |
JP2002098849A (ja) * | 2000-09-25 | 2002-04-05 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光プローブ |
US6686993B1 (en) * | 2001-03-05 | 2004-02-03 | Analog Devices, Inc. | Probe card for testing optical micro electromechanical system devices at wafer level |
US20030040175A1 (en) * | 2001-05-17 | 2003-02-27 | Optronx, Inc. | Hybrid active and electronic circuit with evanescent coupling |
US20030123793A1 (en) * | 2001-12-28 | 2003-07-03 | Kjetil Johannessen | Optical probe for wafer testing |
WO2003067271A2 (en) * | 2002-02-01 | 2003-08-14 | Optonics, Inc. | Apparatus and method for dynamic diagnostic testing of integrated circuits |
US20040190826A1 (en) * | 2003-03-31 | 2004-09-30 | Margaret Ghiron | Permanent light coupling arrangement and method for use with thin silicon optical waveguides |
JP2006522943A (ja) * | 2003-04-10 | 2006-10-05 | シオプティカル インコーポレーテッド | ビーム成形と、薄いシリコン導波管への外部ソースおよび光学系の嵌合に関連する損失を減らす実用的方法 |
JP2006525677A (ja) * | 2003-04-21 | 2006-11-09 | シオプティカル インコーポレーテッド | シリコン・ベースの光デバイスの電子デバイスとのcmos互換集積化 |
US20040213518A1 (en) * | 2003-04-28 | 2004-10-28 | Margaret Ghiron | Arrangements for reducing wavelength sensitivity in prism-coupled SOI-based optical systems |
JP2006526808A (ja) * | 2003-04-28 | 2006-11-24 | シオプティカル インコーポレーテッド | プリズム結合したsoiベースの光学系で波長感受性を下げるための構成 |
US20050094939A1 (en) * | 2003-09-04 | 2005-05-05 | Margaret Ghiron | Interfacing multiple wavelength sources to thin optical waveguides utilizing evanescent coupling |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020030356A (ja) * | 2018-08-23 | 2020-02-27 | 富士通オプティカルコンポーネンツ株式会社 | 光デバイスおよび光送受信モジュール |
US11320486B2 (en) | 2018-08-23 | 2022-05-03 | Fujitsu Optical Components Limited | Optical device and optical transceiver module |
JP7107094B2 (ja) | 2018-08-23 | 2022-07-27 | 富士通オプティカルコンポーネンツ株式会社 | 光デバイスおよび光送受信モジュール |
JP2020149022A (ja) * | 2019-03-15 | 2020-09-17 | 富士通オプティカルコンポーネンツ株式会社 | 光デバイス、これを用いた光モジュール、及び光デバイスの試験方法 |
JP7259431B2 (ja) | 2019-03-15 | 2023-04-18 | 富士通オプティカルコンポーネンツ株式会社 | 光デバイス、これを用いた光モジュール、及び光デバイスの試験方法 |
US11293966B2 (en) | 2019-05-31 | 2022-04-05 | Advantest Corporation | Test apparatus for determining pass or fail of LEDs, test method and computer-readable medium |
JPWO2020255191A1 (ja) * | 2019-06-17 | 2020-12-24 | ||
WO2020255191A1 (ja) * | 2019-06-17 | 2020-12-24 | 日本電信電話株式会社 | 光回路ウェハ |
JP7222425B2 (ja) | 2019-06-17 | 2023-02-15 | 日本電信電話株式会社 | 光回路ウェハ |
US11800619B2 (en) | 2021-01-21 | 2023-10-24 | Advantest Corporation | Test apparatus, test method, and computer-readable storage medium |
US11788885B2 (en) | 2021-02-26 | 2023-10-17 | Advantest Corporation | Test apparatus, test method, and computer-readable storage medium |
WO2023243019A1 (ja) * | 2022-06-15 | 2023-12-21 | 日本電信電話株式会社 | 光半導体集積回路 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CA2558483C (en) | 2015-01-06 |
WO2005086786A2 (en) | 2005-09-22 |
JP4847440B2 (ja) | 2011-12-28 |
WO2005086786A3 (en) | 2006-06-22 |
KR20060130679A (ko) | 2006-12-19 |
US20050194990A1 (en) | 2005-09-08 |
CA2558483A1 (en) | 2005-09-22 |
KR101141014B1 (ko) | 2012-05-02 |
US7109739B2 (en) | 2006-09-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4847440B2 (ja) | ウエハレベルでの光−電子テスト装置および方法 | |
EP3775936B1 (en) | Electro-optical circuit board for contacting photonic integrated circuits | |
US7020363B2 (en) | Optical probe for wafer testing | |
US5500540A (en) | Wafer scale optoelectronic package | |
JP2018506077A (ja) | 光集積回路の特性評価及びパッケージ化のためのマルチポート光学プローブ | |
US6859587B2 (en) | Method and apparatus for wafer level testing of integrated optical waveguide circuits | |
TW202001314A (zh) | 光子輸入/輸出耦合器對準 | |
CN100570386C (zh) | 晶片级光电测试装置及方法 | |
JP7177496B2 (ja) | マイクロ光学ベンチコンポーネントを用いる、面内光学軸を備えた光学mems構造のバッチ試験用の集積化光学プローブカード及びシステム | |
US11022521B2 (en) | Test device and heterogeneously integrated structure | |
Leijtens et al. | High density multi-channel passively aligned optical probe for testing of photonic integrated circuits | |
JP2000111756A (ja) | 光ファイバ―ブロックと平面光導波路素子の整列装置及びその制御方法 | |
WO2020255190A1 (ja) | 検査装置および方法 | |
US6057918A (en) | Laser testing probe | |
US20240077532A1 (en) | Managing photonic integrated circuit optical coupling | |
WO2023243019A1 (ja) | 光半導体集積回路 | |
US20230384520A1 (en) | Managing characterization of optical couplers in an integrated circuit | |
US20230393173A1 (en) | Opto-electrical probe card platform for wafer-level testing of optical mems structures | |
JP2003156655A (ja) | 平面光デバイスの導波路を通る光を結合させるシステムおよび方法 | |
US20230288475A1 (en) | Contacting module for having a mounting plate for contacting optoelectronic chips | |
JP3670654B2 (ja) | 光回路部品 | |
KR20040009924A (ko) | 영상 장치를 구비한 광축 정렬 장치 | |
JP2003194667A (ja) | 光ファイバ端面検査装置 | |
Huang et al. | Robust Edge Coupling Probe Applied in Wafer-Level Optical Testing | |
JPS58196434A (ja) | 光フアイバ端面検査装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080213 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080213 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20101227 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110118 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110412 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110524 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110822 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110927 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20111013 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141021 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4847440 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R370 | Written measure of declining of transfer procedure |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R370 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
|
R370 | Written measure of declining of transfer procedure |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R370 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |