JP2007220878A - 炭化珪素半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 本発明の炭化珪素半導体装置は、第1導電型の炭化珪素基板20と、該炭化珪素基板の一方の面にアノードのための電極30と、炭化珪素基板の他方の面にカソードのための電極40と、炭化珪素基板の一方の面側の層の所定位置で所定の間隔を有してアノード電極と電気的なコンタクトを得る第2導電型の炭化珪素領域50と、炭化珪素基板の他方の面側の層において、一方の面層からの空乏層のリーチスルーを誘因すべく、第2導電型の領域に対向する位置でカソード電極と電気的なコンタクトを得る第1導電型の高濃度領域をリーチスルー誘因領域60として備える。
【選択図】 図1
Description
従って、本発明は上記した事情に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は低い逆電力で素子破壊を招くことが無いように、逆方向電圧においてはPiN接合を用いた半導体装置として機能させて素子破壊を防止し得る炭化珪素半導体装置を提供することにある。
本発明の炭化珪素半導体装置は、第1導電型の炭化珪素基板と、該炭化珪素基板の一方の面にアノードのための電極と、炭化珪素基板の他方の面にカソードのための電極と、炭化珪素基板の一方の面側の層の所定位置で所定の間隔を有してアノード電極と電気的なコンタクトを得る第2導電型の炭化珪素領域と、を備えた炭化珪素半導体装置において、炭化珪素基板の他方の面側の層において、一方の面層からの空乏層のリーチスルーを誘因すべく、第2導電型の領域に対向する位置でカソード電極と電気的なコンタクトを得る第1導電型の高濃度領域をリーチスルー誘因領域として備えることを特徴とする。
炭化珪素基板は、一方の面側に低濃度層を他方の面側に高濃度層を有することを特徴とする。
炭化珪素基板の一方の面側の層の所定の間隔に、所定の微細間隔で配置される第2導電型の微細炭化珪素領域を備えることを特徴とする。
低濃度層21は例えば層厚が10μmで形成されており、当該低濃度層21はドリフト領域と称されている。
アノード電極30に順方向電圧が印加されると、当該アノード電極30下のガードリング50間に位置するチャネル領域において電位障壁を移動する電子により、図1の位置Bで示される箇所でアノード電極30およびカソード電極40間に電流が流れ、いわゆるSBDとして機能する。
アノード電極30に逆方向の電圧が印加されると、炭化珪素半導体装置10は先ずSBDとして機能する。すなわちアノード電極30下にあるガードリング50の形状に応じてアノード電極30からカソード電極40に向かって伸長する空乏層がドリフト領域に形成される。
20 炭化珪素半導体基板
21 低濃度層
22 高濃度層
30 アノード電極
31 チタン層
32 アルミ層
33 オーミック接触領域
40 カソード電極
50 ガードリング
51 高濃度のp型領域
52 p型領域
60 リーチスルー誘因領域
70 パッシベーション層
Claims (4)
- 第1導電型の炭化珪素基板と、該炭化珪素基板の一方の面にアノードのための電極と、前記炭化珪素基板の他方の面にカソードのための電極と、前記炭化珪素基板の一方の面側の層の所定位置で所定の間隔を有して前記アノード電極と電気的なコンタクトを得る第2導電型の炭化珪素領域と、を備えた炭化珪素半導体装置において、
前記炭化珪素基板の他方の面側の層において、前記一方の面層からの空乏層のリーチスルーを誘因すべく、前記第2導電型の領域に対向する位置で前記カソード電極と電気的なコンタクトを得る第1導電型の高濃度領域をリーチスルー誘因領域として備えることを特徴とする炭化珪素半導体装置。 - 前記炭化珪素領域は、ガードリングであることを特徴とする請求項1記載の炭化珪素半導体装置。
- 前記炭化珪素基板は、前記一方の面側に低濃度層を前記他方の面側に高濃度層を有することを特徴とする請求項1記載の炭化珪素半導体装置。
- 前記炭化珪素基板の一方の面側の層の前記所定の間隔に、所定の微細間隔で配置される第2導電型の微細炭化珪素領域を備えることを特徴とする請求項1記載の炭化珪素半導体装置。
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