JP2007199378A - 赤外線フィルタ及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】赤外線フィルタ1は、赤外線を透過する基板2と、基板2表面上に交互に多層積層されたGe膜及びHfO2膜とを備え、HfO2膜は(111)面と(−111)面を主とする面方向に配向した結晶構造を有する。これにより、多層膜構造を形成する際にZnSを使用しないので、製造時や廃棄時における赤外線フィルタの取り扱いを容易にすることができる。また、HfO2膜は(111)面と(−111)面を主とする面方向に配向した結晶構造を有するので、Ge膜とHfO2膜の密着力が高まり、高強度の赤外線フィルタを提供することができる。
【選択図】図1
Description
本発明の実施形態となる赤外線フィルタ1は、図1に示すように、赤外線を透過する基板2と、基板2表面上に交互に多層積層されたGe膜(ゲルマニウム膜)及びHfO2膜(ハフニウム酸化膜)とを備える。
上記赤外線フィルタ1は、図2に示すようなRFイオンビーム銃11からSiウェハ等の基板2表面に向けてイオンビームを照射しながら蒸着材料が充填された坩堝12を加熱することにより基板2表面上に成膜するイオンビームアシスト蒸着装置13により製造される。具体的には、基板2表面上にGe膜を成膜する際は、RFイオンビーム銃11からAr(アルゴン)イオンビームを照射しながら坩堝12を加熱することにより、基板2表面上にGeを蒸着させる。また、基板2表面上にHfO2膜を成膜する際は、RFイオンビーム銃11からO2(酸素)イオンビームを照射しながら坩堝12を加熱することにより、基板2表面上にHfO2を蒸着させる。なお、各膜の成膜レートは、水晶センサ14によって検出され、所定の大きさになるように調整されている。そして、赤外光源15から基板2の裏面に向けて赤外線光を照射し、基板2と多層膜を透過してきた赤外線光を赤外光センサ16によって検出すると共に、可視光センサ17によって基板2の裏面において反射した光を検出する光学センサ18によって、製造された赤外線フィルタ1の性能を評価する。
2:基板
11:RFイオン銃
12:坩堝
13:イオンビームアシスト蒸着装置
14:水晶センサ
15:赤外光源
16:赤外光センサ
17:可視光センサ
18:光学モニタ
21:Siウェハ
R:メッシュ域
Claims (2)
- 赤外線を透過する基板と、
前記基板表面上に交互に多層積層されたGe膜及びHfO2膜とを備え、
前記HfO2膜は(111)面と(−111)面を主とする面方向に配向した結晶構造を有すること
を特徴とする赤外線フィルタ。 - イオンビームアシスト蒸着法を利用して赤外線を透過する基板表面上にGe膜とHfO2膜を交互に多層積層する工程と、
HfO2膜が(111)面と(−111)面を主とする面方向に配向した結晶構造を有するようにイオン加速電圧を調整する工程と
を有することを特徴とする赤外線フィルタの製造方法。
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