JPH07191215A - レーザマスクおよびその製造方法 - Google Patents
レーザマスクおよびその製造方法Info
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- JPH07191215A JPH07191215A JP34850193A JP34850193A JPH07191215A JP H07191215 A JPH07191215 A JP H07191215A JP 34850193 A JP34850193 A JP 34850193A JP 34850193 A JP34850193 A JP 34850193A JP H07191215 A JPH07191215 A JP H07191215A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 高精度のパターン開口と高いレーザ耐力を有
するレーザマスクを実現する。 【構成】 基板１の表面に高屈折率材料のλ／４膜２ａ
と低屈折率材料のλ／４膜２ｂを交互に積層して第１の
交互多層反射膜２を成膜し、その上に低屈折率材料のλ
／４膜からなる第１のスペーサ層３ａを積層し、その上
に金属膜４を成膜し、エッチングによって開口部４ａを
形成したのち、第２のスペーサ層３ｂを積層し、その上
に高屈折率材料のλ／４膜５ａと低屈折率材料のλ／４
膜５ｂを交互に積層して第２の交互多層反射膜５を設け
る。各交互多層反射膜２，５の金属膜４の開口部４ａに
重なる部分は、所定の波長の光に対して高い透過率を有
するファブリペロ型の干渉フィルタを構成する。
するレーザマスクを実現する。 【構成】 基板１の表面に高屈折率材料のλ／４膜２ａ
と低屈折率材料のλ／４膜２ｂを交互に積層して第１の
交互多層反射膜２を成膜し、その上に低屈折率材料のλ
／４膜からなる第１のスペーサ層３ａを積層し、その上
に金属膜４を成膜し、エッチングによって開口部４ａを
形成したのち、第２のスペーサ層３ｂを積層し、その上
に高屈折率材料のλ／４膜５ａと低屈折率材料のλ／４
膜５ｂを交互に積層して第２の交互多層反射膜５を設け
る。各交互多層反射膜２，５の金属膜４の開口部４ａに
重なる部分は、所定の波長の光に対して高い透過率を有
するファブリペロ型の干渉フィルタを構成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、レーザによる穴あけ
や、溶接、切断、焼きなましその他の材料加工等に用い
られるレーザマスクおよびその製造方法に関するもので
ある。
や、溶接、切断、焼きなましその他の材料加工等に用い
られるレーザマスクおよびその製造方法に関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】レーザによる穴あけや、溶接、切断、焼
きなましその他の材料加工等においては、各用途ごとに
異なる種類のレーザが用いられるが、これらはいずれも
高出力のレーザであり、従って、レーザマスクにも高い
レーザ耐力が要求される。現在、材料加工等に広く使用
されているレーザは、炭酸ガスレーザ、ネオジウムＹＡ
Ｇレーザ、ネオジウムガラスレーザ、ルビーレーザ等で
あり、これらに用いるレーザマスクは主にＡｌ，Ｔｉ，
Ｎｉ，Ｃｒ等の金属マスクや各種誘電体マスクである
が、いずれの場合も高精度の微細なパターン開口と高い
レーザ耐力が必要である。
きなましその他の材料加工等においては、各用途ごとに
異なる種類のレーザが用いられるが、これらはいずれも
高出力のレーザであり、従って、レーザマスクにも高い
レーザ耐力が要求される。現在、材料加工等に広く使用
されているレーザは、炭酸ガスレーザ、ネオジウムＹＡ
Ｇレーザ、ネオジウムガラスレーザ、ルビーレーザ等で
あり、これらに用いるレーザマスクは主にＡｌ，Ｔｉ，
Ｎｉ，Ｃｒ等の金属マスクや各種誘電体マスクである
が、いずれの場合も高精度の微細なパターン開口と高い
レーザ耐力が必要である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の技術によれば、金属マスクや誘電体マスクに微細なパ
ターン開口を形成するのが難しく、また、耐久性やレー
ザ耐力も充分ではない。特に、金属マスクについてはレ
ーザ耐力が著しく不足する傾向がある。
の技術によれば、金属マスクや誘電体マスクに微細なパ
ターン開口を形成するのが難しく、また、耐久性やレー
ザ耐力も充分ではない。特に、金属マスクについてはレ
ーザ耐力が著しく不足する傾向がある。
【０００４】本発明は上記従来の技術の有する問題点に
鑑みてなされたものであり、高精度のパターン開口を設
けるのが容易であり、かつ、レーザ耐力を大幅に向上さ
せることのできるレーザマスクおよびその製造方法を提
供することを目的とするものである。
鑑みてなされたものであり、高精度のパターン開口を設
けるのが容易であり、かつ、レーザ耐力を大幅に向上さ
せることのできるレーザマスクおよびその製造方法を提
供することを目的とするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め本発明のレーザマスクは、開口部を有する金属膜と、
該金属膜の少なくとも片面に積層されたスぺーサ層と、
該スぺーサ層と前記金属膜を挟んで互に対向する一対の
多層反射膜を有することを特徴とする。
め本発明のレーザマスクは、開口部を有する金属膜と、
該金属膜の少なくとも片面に積層されたスぺーサ層と、
該スぺーサ層と前記金属膜を挟んで互に対向する一対の
多層反射膜を有することを特徴とする。
【０００６】また、本発明のレーザマスクの製造方法
は、基板の表面に第１の多層反射膜を成膜する工程と、
成膜された第１の多層反射膜のうえにスペーサ層を成膜
する工程と、成膜されたスペーサ層のうえに金属膜を成
膜する工程と、成膜された金属膜の一部分をエッチング
して開口部を形成する工程と、エッチングされた金属膜
のうえに第２の多層反射膜を成膜する工程を有すること
を特徴とする。
は、基板の表面に第１の多層反射膜を成膜する工程と、
成膜された第１の多層反射膜のうえにスペーサ層を成膜
する工程と、成膜されたスペーサ層のうえに金属膜を成
膜する工程と、成膜された金属膜の一部分をエッチング
して開口部を形成する工程と、エッチングされた金属膜
のうえに第２の多層反射膜を成膜する工程を有すること
を特徴とする。
【０００７】
【作用】両多層反射膜の金属膜の開口部を挟んで対向す
る部分はスペーサ層の厚さに等しい間隔をへだてて向き
あっており、所定の波長の光に対して高い透過率を有す
るファブリペロ型の干渉フィルタを構成する。
る部分はスペーサ層の厚さに等しい間隔をへだてて向き
あっており、所定の波長の光に対して高い透過率を有す
るファブリペロ型の干渉フィルタを構成する。
【０００８】また、各多層反射膜の残りの部分は増反射
膜として金属膜とともに基板側から入射する光やその反
対側から入射する光を高反射率で反射する。金属膜の開
口部をエッチングによって形成すれば、開口部の形状を
高精度で制御することが容易である。
膜として金属膜とともに基板側から入射する光やその反
対側から入射する光を高反射率で反射する。金属膜の開
口部をエッチングによって形成すれば、開口部の形状を
高精度で制御することが容易である。
【０００９】また、各多層反射膜を構成する材料を適切
に組合わせることによってレーザ耐力を大幅に向上させ
ることができる。
に組合わせることによってレーザ耐力を大幅に向上させ
ることができる。
【００１０】
【実施例】本発明の実施例を図面に基いて説明する。
【００１１】（第１実施例）図１は第１実施例によるレ
ーザマスクＥ−１を示す模式断面図であって、これは、
真空室内において基板１の表面に高屈折率材料のλ／４
膜２ａと低屈折率材料のλ／４膜２ｂを交互に積層して
第１の多層反射膜である交互多層反射膜２を成膜し、そ
の上に低屈折率材料のλ／４膜からなる第１のスペーサ
層３ａを積層し、次いで所定の膜厚の金属膜４を積層し
たのち真空室から取りだして公知のエッチングによって
金属膜４に開口部４ａを形成し、再び真空室にもどして
低屈折率材料のλ／４膜からなる第２のスペーサ層３ｂ
を成膜し、その上に高屈折率材料のλ／４膜５ａと低屈
折率材料のλ／４膜５ｂを交互に積層した第２の多層反
射膜である交互多層反射膜５を設けたものであり、金属
膜４を挟んだ２つのスペーサ層３ａ，３ｂは、金属膜４
の開口部４ａにおいてλ／２膜厚の中間層を構成し、各
交互多層反射膜２，５の中央部分は前記中間層の膜厚に
等しい間隔で互に向きあってファブリペロ型の干渉フィ
ルタを構成し、特定の波長の光に対してのみ高い透過率
を有する。また、各交互多層反射膜２，５の残りの部分
は、金属膜４の増反射膜として基板１側から入射する光
やその反対側から入射する光を高反射率で反射する役目
をする。
ーザマスクＥ−１を示す模式断面図であって、これは、
真空室内において基板１の表面に高屈折率材料のλ／４
膜２ａと低屈折率材料のλ／４膜２ｂを交互に積層して
第１の多層反射膜である交互多層反射膜２を成膜し、そ
の上に低屈折率材料のλ／４膜からなる第１のスペーサ
層３ａを積層し、次いで所定の膜厚の金属膜４を積層し
たのち真空室から取りだして公知のエッチングによって
金属膜４に開口部４ａを形成し、再び真空室にもどして
低屈折率材料のλ／４膜からなる第２のスペーサ層３ｂ
を成膜し、その上に高屈折率材料のλ／４膜５ａと低屈
折率材料のλ／４膜５ｂを交互に積層した第２の多層反
射膜である交互多層反射膜５を設けたものであり、金属
膜４を挟んだ２つのスペーサ層３ａ，３ｂは、金属膜４
の開口部４ａにおいてλ／２膜厚の中間層を構成し、各
交互多層反射膜２，５の中央部分は前記中間層の膜厚に
等しい間隔で互に向きあってファブリペロ型の干渉フィ
ルタを構成し、特定の波長の光に対してのみ高い透過率
を有する。また、各交互多層反射膜２，５の残りの部分
は、金属膜４の増反射膜として基板１側から入射する光
やその反対側から入射する光を高反射率で反射する役目
をする。
【００１２】本実施例によれば、金属膜４の開口部４ａ
をエッチングによって形成するものであるため、その形
状を高精度で制御することが容易であるとともに、一対
の多層反射膜である第１および第２の交互多層反射膜を
形成する誘電体材料を適切に組合わせることによってレ
ーザ耐力を大幅に向上させることができる。
をエッチングによって形成するものであるため、その形
状を高精度で制御することが容易であるとともに、一対
の多層反射膜である第１および第２の交互多層反射膜を
形成する誘電体材料を適切に組合わせることによってレ
ーザ耐力を大幅に向上させることができる。
【００１３】次に本実施例の具体例を説明する。
【００１４】（第１具体例）図２に示すように真空室内
で直径４０ｍｍの石英製の基板２１の表面に高屈折率材
料のＺｒＯ2 のλ／４膜である第１層２２ａと、低屈折
率材料のＳｉＯ2 のλ／４膜である第２層２２ｂと、高
屈折率材料のＺｒＯ2 のλ／４膜である第３層２２ｃか
らなる第１の交互多層反射膜２２を成膜し、その上に、
低屈折率材料のＳｉＯ2 からなる第１のスペーサ層２３
ａとＡｌの金属膜２４を積層したうえで真空室から取り
だして開口部２４ａをエッチングし、再び真空室へもど
して低屈折率材料のＳｉＯ2 からなる第２のスぺーサ層
２３ｂを成膜したうえで高屈折率材料のＨｆＯ2 のλ／
４膜である第１層２５ａと、低屈折率材料のＳｉＯ2 の
λ／４膜である第２層２５ｂと、高屈折率材料のＨｆＯ
2 のλ／４膜である第３層２５ｃからなる第２の交互多
層反射膜２５を設けることで、ネオジウムＹＡＧレーザ
基本波（１０６４ｎｍ）用のレーザマスクＳ−１を製作
した。
で直径４０ｍｍの石英製の基板２１の表面に高屈折率材
料のＺｒＯ2 のλ／４膜である第１層２２ａと、低屈折
率材料のＳｉＯ2 のλ／４膜である第２層２２ｂと、高
屈折率材料のＺｒＯ2 のλ／４膜である第３層２２ｃか
らなる第１の交互多層反射膜２２を成膜し、その上に、
低屈折率材料のＳｉＯ2 からなる第１のスペーサ層２３
ａとＡｌの金属膜２４を積層したうえで真空室から取り
だして開口部２４ａをエッチングし、再び真空室へもど
して低屈折率材料のＳｉＯ2 からなる第２のスぺーサ層
２３ｂを成膜したうえで高屈折率材料のＨｆＯ2 のλ／
４膜である第１層２５ａと、低屈折率材料のＳｉＯ2 の
λ／４膜である第２層２５ｂと、高屈折率材料のＨｆＯ
2 のλ／４膜である第３層２５ｃからなる第２の交互多
層反射膜２５を設けることで、ネオジウムＹＡＧレーザ
基本波（１０６４ｎｍ）用のレーザマスクＳ−１を製作
した。
【００１５】上記の成膜工程において、酸素分圧は１〜
２×１０-4Ｔｏｒｒ、蒸着レートは２〜５Å／ｓｅｃ、
基板温度は２００℃にそれぞれ制御し、また、金属膜２
４の開口部２４ａのエッチングは、直径５ｍｍの開口部
２４ａを除く金属膜２４の表面にレジストを塗布したう
えで基板全体をエッチング溶液に浸し、露出した部分の
金属膜２４が溶けたのを確認して引きあげたのち、レジ
ストを剥した。エッチング溶液にはＫＯＨ溶液を用い
た。
２×１０-4Ｔｏｒｒ、蒸着レートは２〜５Å／ｓｅｃ、
基板温度は２００℃にそれぞれ制御し、また、金属膜２
４の開口部２４ａのエッチングは、直径５ｍｍの開口部
２４ａを除く金属膜２４の表面にレジストを塗布したう
えで基板全体をエッチング溶液に浸し、露出した部分の
金属膜２４が溶けたのを確認して引きあげたのち、レジ
ストを剥した。エッチング溶液にはＫＯＨ溶液を用い
た。
【００１６】図３はこのようにして製作したレーザマス
クＳ−１の開口部２４ａの透過率の分光特性を示すもの
で、このグラフから波長１０６４ｎｍのレーザ光に対し
て高い透過率を示すことが解る。さらに、レーザエネル
ギー０．２〜０．５Ｊ／ｃｍ2 のネオジウムＹＡＧレー
ザ基本波を用いてショット数１０7 のレーザ耐力テスト
を行って外観上の変化を調べたところ損傷は皆無であ
り、また、透過率の分光特性も不変であった。
クＳ−１の開口部２４ａの透過率の分光特性を示すもの
で、このグラフから波長１０６４ｎｍのレーザ光に対し
て高い透過率を示すことが解る。さらに、レーザエネル
ギー０．２〜０．５Ｊ／ｃｍ2 のネオジウムＹＡＧレー
ザ基本波を用いてショット数１０7 のレーザ耐力テスト
を行って外観上の変化を調べたところ損傷は皆無であ
り、また、透過率の分光特性も不変であった。
【００１７】図４はレーザマスクＳ−１の基板側から金
属膜２４の開口部２４ａ以外の部分にレーザ光を照射し
て反射率の分光特性を調べたもの、図５は同じくその反
対側からレーザ光を照射して反射率の分光特性を調べた
結果である。これらのグラフから、レーザマスクＳ−１
のいずれの側からレーザ光を照射しても開口部２４ａ以
外の部分ではレーザ光を効果的に遮断できることが判明
した。また、Ａｌの替わりにＳｉやＡｇを用いたレーザ
マスクを製作してレーザ耐力や透過率を調べたところ、
いずれも良好な結果が得られた。
属膜２４の開口部２４ａ以外の部分にレーザ光を照射し
て反射率の分光特性を調べたもの、図５は同じくその反
対側からレーザ光を照射して反射率の分光特性を調べた
結果である。これらのグラフから、レーザマスクＳ−１
のいずれの側からレーザ光を照射しても開口部２４ａ以
外の部分ではレーザ光を効果的に遮断できることが判明
した。また、Ａｌの替わりにＳｉやＡｇを用いたレーザ
マスクを製作してレーザ耐力や透過率を調べたところ、
いずれも良好な結果が得られた。
【００１８】（第２具体例）第１具体例のＡｌの替わり
にＣｒを用いた以外はすべて同じ構成のＫｒＦレーザ
（２４８ｎｍ）用のマスクを製作した。各交互多層反射
膜、スペーサ層および金属膜の成膜条件等はＣｒのエッ
チング溶液に希硫酸を用いた以外はすべて第１具体例と
同様であった。第１具体例と同様の方法でレーザ耐力を
調べたところ結果は良好であり、また、開口部の透過率
の分光特性は図６に示すとおりであった。この図から波
長２４８ｎｍの光に対して高い透過率を有することが解
る。
にＣｒを用いた以外はすべて同じ構成のＫｒＦレーザ
（２４８ｎｍ）用のマスクを製作した。各交互多層反射
膜、スペーサ層および金属膜の成膜条件等はＣｒのエッ
チング溶液に希硫酸を用いた以外はすべて第１具体例と
同様であった。第１具体例と同様の方法でレーザ耐力を
調べたところ結果は良好であり、また、開口部の透過率
の分光特性は図６に示すとおりであった。この図から波
長２４８ｎｍの光に対して高い透過率を有することが解
る。
【００１９】さらに、図７は基板側からレーザマスクの
開口部以外の部分にレーザ光を照射して反射率の分光特
性を調べたもの、図８は同じくその反対側からレーザ光
を照射して反射率の分光特性を調べたものである。これ
らのグラフから波長２４８ｎｍの光に対しては８０％近
い反射率であることが解る。なお、Ｃｒの替わりにＣｕ
やＧｅを用いたレーザマスクを製作してレーザ耐力や透
過率を調べた結果も良好であった。
開口部以外の部分にレーザ光を照射して反射率の分光特
性を調べたもの、図８は同じくその反対側からレーザ光
を照射して反射率の分光特性を調べたものである。これ
らのグラフから波長２４８ｎｍの光に対しては８０％近
い反射率であることが解る。なお、Ｃｒの替わりにＣｕ
やＧｅを用いたレーザマスクを製作してレーザ耐力や透
過率を調べた結果も良好であった。
【００２０】（第２実施例）図９は第２実施例によるレ
ーザマスクＥ−２を示す模式断面図であって、これは真
空室内で基板３１の表面に第１実施例と同様の高屈折率
材料のλ／４膜３２ａと低屈折率材料のλ／４膜３２ｂ
を交互に積層した第１の交互多層反射膜３２を成膜し、
その上にλ／２膜厚のスペーサ層３３を積層したうえで
金属膜３４を成膜し、次いで真空室の外へ取りだして開
口部３４ａのエッチングを行い、再び真空室へもどして
高屈折率材料のλ／４膜３５ａと低屈折率材料のλ／４
膜３５ｂを交互に積層して第２の交互多層反射膜３５を
成膜したものである。このように金属膜３４をスペーサ
層３３の片側に配設しても、開口部３４ａにおける第
１、第２の交互多層反射膜３２，３５とスペーサ層３３
は第１実施例と同様のファブリペロ型の干渉フィルタを
構成する。なお、本実施例においては金属膜３４を基板
３１から遠い方のスペーサ層３３の表面に設けたが、そ
の反対側の表面に設けることも可能であることはいうま
でもない。本実施例によればスペーサ層を成膜する工程
が一回ですむため、製造工程の簡略化を促進できる。そ
の他の点は第１実施例と同様であるので説明は省略す
る。
ーザマスクＥ−２を示す模式断面図であって、これは真
空室内で基板３１の表面に第１実施例と同様の高屈折率
材料のλ／４膜３２ａと低屈折率材料のλ／４膜３２ｂ
を交互に積層した第１の交互多層反射膜３２を成膜し、
その上にλ／２膜厚のスペーサ層３３を積層したうえで
金属膜３４を成膜し、次いで真空室の外へ取りだして開
口部３４ａのエッチングを行い、再び真空室へもどして
高屈折率材料のλ／４膜３５ａと低屈折率材料のλ／４
膜３５ｂを交互に積層して第２の交互多層反射膜３５を
成膜したものである。このように金属膜３４をスペーサ
層３３の片側に配設しても、開口部３４ａにおける第
１、第２の交互多層反射膜３２，３５とスペーサ層３３
は第１実施例と同様のファブリペロ型の干渉フィルタを
構成する。なお、本実施例においては金属膜３４を基板
３１から遠い方のスペーサ層３３の表面に設けたが、そ
の反対側の表面に設けることも可能であることはいうま
でもない。本実施例によればスペーサ層を成膜する工程
が一回ですむため、製造工程の簡略化を促進できる。そ
の他の点は第１実施例と同様であるので説明は省略す
る。
【００２１】図１０は第２実施例の一具体例Ｓ−２を示
すもので、これはＫｒＦレーザ（２４８ｎｍ）用のマス
クであって、真空室内で石英製の基板４１上に低屈折率
材料であるＳｉＯ2 のλ／４膜４２ａと高屈折率材料で
あるＺｒＯ2 のλ／４膜４２ｂを２層ずつ交互に積層し
た第１の交互多層反射膜４２と、低屈折率材料であるＳ
ｉＯ2 のスペーサ層４３と、Ａｌの金属膜４４を設けた
うえで真空室から取りだしてＫＯＨ溶液によるエッチン
グを行い、再び真空室へもどして高屈折率材料であるＺ
ｒＯ2 のλ／４膜４５ａと低屈折率材料であるＳｉＯ2
のλ／４膜４５ｂを交互に２層ずつ積層して第２の交互
多層反射膜４５を成膜したものである。
すもので、これはＫｒＦレーザ（２４８ｎｍ）用のマス
クであって、真空室内で石英製の基板４１上に低屈折率
材料であるＳｉＯ2 のλ／４膜４２ａと高屈折率材料で
あるＺｒＯ2 のλ／４膜４２ｂを２層ずつ交互に積層し
た第１の交互多層反射膜４２と、低屈折率材料であるＳ
ｉＯ2 のスペーサ層４３と、Ａｌの金属膜４４を設けた
うえで真空室から取りだしてＫＯＨ溶液によるエッチン
グを行い、再び真空室へもどして高屈折率材料であるＺ
ｒＯ2 のλ／４膜４５ａと低屈折率材料であるＳｉＯ2
のλ／４膜４５ｂを交互に２層ずつ積層して第２の交互
多層反射膜４５を成膜したものである。
【００２２】図１１はエッチングによって形成された金
属膜４４の開口部４４ａの透過率の分光特性を調べたも
ので、この図から波長２４８ｎｍのレーザ光に対して高
い透過率を有することが解る。また、前述と同様のレー
ザ耐力テストの結果も良好であった。さらに、基板４１
から遠い側の金属膜４４の表面に向ってレーザ光を照射
して反射率の分光特性を調べたものを図１２に示し、前
記と反対側と金属膜４４の表面に向ってレーザ光を照射
して反射率の分光特性を調べたものを図１３に示す。こ
れらのグラフから、波長２４８ｎｍにおいてはいずれの
場合も９０％以上の反射率であることが解る。
属膜４４の開口部４４ａの透過率の分光特性を調べたも
ので、この図から波長２４８ｎｍのレーザ光に対して高
い透過率を有することが解る。また、前述と同様のレー
ザ耐力テストの結果も良好であった。さらに、基板４１
から遠い側の金属膜４４の表面に向ってレーザ光を照射
して反射率の分光特性を調べたものを図１２に示し、前
記と反対側と金属膜４４の表面に向ってレーザ光を照射
して反射率の分光特性を調べたものを図１３に示す。こ
れらのグラフから、波長２４８ｎｍにおいてはいずれの
場合も９０％以上の反射率であることが解る。
【００２３】なお、金属膜を構成する材料には、Ａｌ，
Ｃｒ，Ｓｉ，Ａｇ以外にも、Ａｕ，Ｃｕ，Ｇｅ，Ｔｉ，
Ｎｉ等を用いてもよいし、また、スペーサ層もＳｉＯ2
に限らず、ＺｒＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 ，ＨｆＯ2 ，ＴｉＯ
2 ，Ｔａ2 Ｏ5 ，ＭｇＦ2 ，ＧｅＯ2 ，ＴｉＯ，ＺｒＴ
ｉＯ4 ，ＺｎＳ，ＰｂＦ2 ，ＮｄＦ3 ，ＭｇＯ，ＧｅＦ
3 ，ＣｄＴｅ，ＣｄＳｅを用いることができる。
Ｃｒ，Ｓｉ，Ａｇ以外にも、Ａｕ，Ｃｕ，Ｇｅ，Ｔｉ，
Ｎｉ等を用いてもよいし、また、スペーサ層もＳｉＯ2
に限らず、ＺｒＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 ，ＨｆＯ2 ，ＴｉＯ
2 ，Ｔａ2 Ｏ5 ，ＭｇＦ2 ，ＧｅＯ2 ，ＴｉＯ，ＺｒＴ
ｉＯ4 ，ＺｎＳ，ＰｂＦ2 ，ＮｄＦ3 ，ＭｇＯ，ＧｅＦ
3 ，ＣｄＴｅ，ＣｄＳｅを用いることができる。
【００２４】
【発明の効果】本発明は上述のように構成されているの
で、以下に記載するような効果を奏する。
で、以下に記載するような効果を奏する。
【００２５】高精度のパターン開口を備えており、か
つ、高いレーザ耐力を有するレーザマスクを実現でき
る。
つ、高いレーザ耐力を有するレーザマスクを実現でき
る。
【図１】第１実施例によるレーザマスクを示す模式断面
図である。
図である。
【図２】第１実施例の第１具体例によるレーザマスクを
示す模式断面図である。
示す模式断面図である。
【図３】図２のレーザマスクの開口部の透過率の分光特
性を示すグラフである。
性を示すグラフである。
【図４】図２のレーザマスクの金属膜の基板から遠い側
の表面に向ってレーザ光を照射したときの反射率の分光
特性を示すグラフである。
の表面に向ってレーザ光を照射したときの反射率の分光
特性を示すグラフである。
【図５】図２のレーザマスクの金属膜の基板に近い側の
表面に向ってレーザ光を照射したときの反射率の分光特
性を示すグラフである。
表面に向ってレーザ光を照射したときの反射率の分光特
性を示すグラフである。
【図６】第１実施例の第２具体例によるレーザマスクの
開口部の透過率の分光特性を示すグラフである。
開口部の透過率の分光特性を示すグラフである。
【図７】第１実施例の第２具体例によるレーザマスクの
金属膜の基板から遠い側の表面に向ってレーザ光を照射
したときの反射率の分光特性を示すグラフである。
金属膜の基板から遠い側の表面に向ってレーザ光を照射
したときの反射率の分光特性を示すグラフである。
【図８】第１実施例の第２具体例によるレーザマスクの
金属膜の基板に近い側の表面に向ってレーザ光を照射し
たときの反射率の分光特性を示すグラフである。
金属膜の基板に近い側の表面に向ってレーザ光を照射し
たときの反射率の分光特性を示すグラフである。
【図９】第２実施例によるレーザマスクを示す模式断面
図である。
図である。
【図１０】第２実施例の一具体例によるレーザマスクを
示す模式断面図である。
示す模式断面図である。
【図１１】図１０のレーザマスクの開口部の透過率の分
光特性を示すグラフである。
光特性を示すグラフである。
【図１２】図１０のレーザマスクの金属膜の基板から遠
い側の表面に向ってレーザ光を照射したときの反射率の
分光特性を示すグラフである。
い側の表面に向ってレーザ光を照射したときの反射率の
分光特性を示すグラフである。
【図１３】図１０のレーザマスクの金属膜の基板から遠
い側の表面に向ってレーザ光を照射したときの反射率の
分光特性を示すグラフである。
い側の表面に向ってレーザ光を照射したときの反射率の
分光特性を示すグラフである。
１，２１，３１，４１ 基板 ２，２２，３２，４２ 第１の交互多層反射膜 ２ａ，５ａ，３２ａ，３５ａ，４２ａ，４５ａ 高屈
折率材料のλ／４膜 ２ｂ，５ｂ，３２ｂ，３５ｂ，４２ｂ，４５ｂ 低屈
折率材料のλ／４膜 ３ａ，３ｂ，２３ａ，２３ｂ，３３，４３ スペーサ
層 ４，２４，３４，４４ 金属膜 ４ａ，２４ａ，３４ａ，４４ａ 開口部 ５，２５，３５，４５ 第２の交互多層反射膜
折率材料のλ／４膜 ２ｂ，５ｂ，３２ｂ，３５ｂ，４２ｂ，４５ｂ 低屈
折率材料のλ／４膜 ３ａ，３ｂ，２３ａ，２３ｂ，３３，４３ スペーサ
層 ４，２４，３４，４４ 金属膜 ４ａ，２４ａ，３４ａ，４４ａ 開口部 ５，２５，３５，４５ 第２の交互多層反射膜
Claims (6)
- 【請求項１】 開口部を有する金属膜と、該金属膜の少
なくとも片面に積層されたスぺーサ層と、該スぺーサ層
と前記金属膜を挟んで互に対向する一対の多層反射膜を
有することを特徴とするレーザマスク。 - 【請求項２】 金属膜がＡｕ，Ａｇ，Ｃｕ，Ａｌ，Ｃ
ｒ，Ｇｅ，Ｓｉ，Ｔｉ，Ｎｉのうちの少なくとも１つを
含む材料によって作られていることを特徴とする請求項
１記載のレーザマスク。 - 【請求項３】 各多層反射膜およびスペーサ層が、それ
ぞれ、ＳｉＯ2 ，ＺｒＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 ，ＨｆＯ2 ，Ｔ
ｉＯ2 ，Ｔａ2 Ｏ5 ，ＭｇＦ2 ，ＧｅＯ2 ，ＴｉＯ，Ｚ
ｒＴｉＯ4 ，ＺｎＳ，ＰｂＦ2 ，ＮｄＦ3 ，ＭｇＯ，Ｇ
ｅＦ3 ，ＣｄＴｅ，ＣｄＳｅのうちの少なくとも１つを
含む誘電体によって作られていることを特徴とする請求
項１または２記載のレーザマスク。 - 【請求項４】 基板の表面に第１の多層反射膜を成膜す
る工程と、成膜された第１の多層反射膜のうえにスペー
サ層を成膜する工程と、成膜されたスペーサ層のうえに
金属膜を成膜する工程と、成膜された金属膜の一部分を
エッチングして開口部を形成する工程と、エッチングさ
れた金属膜のうえに第２の多層反射膜を成膜する工程を
有するレーザマスクの製造方法。 - 【請求項５】 基板の表面に第１の多層反射膜を成膜す
る工程と、成膜された第１の多層反射膜のうえに金属膜
を成膜する工程と、成膜された金属膜の一部分をエッチ
ングして開口部を形成する工程と、エッチングされた金
属膜のうえにスぺーサ層を成膜する工程と、成膜された
スペーサ層のうえに第２の多層反射膜を成膜する工程を
有するレーザマスクの製造方法。 - 【請求項６】 基板の表面に第１の多層反射膜を成膜す
る工程と、成膜された第１の多層反射膜のうえに第１の
スペーサ層を成膜する工程と、成膜された第１のスペー
サ層のうえに金属膜を成膜する工程と、成膜された金属
膜の一部分をエッチングして開口部を形成する工程と、
エッチングされた金属膜のうえに第２のスぺーサ層を成
膜する工程と、成膜された第２のスペーサ層のうえに第
２の多層反射膜を成膜する工程を有するレーザマスクの
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34850193A JPH07191215A (ja) | 1993-12-27 | 1993-12-27 | レーザマスクおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34850193A JPH07191215A (ja) | 1993-12-27 | 1993-12-27 | レーザマスクおよびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07191215A true JPH07191215A (ja) | 1995-07-28 |
Family
ID=18397440
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34850193A Pending JPH07191215A (ja) | 1993-12-27 | 1993-12-27 | レーザマスクおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07191215A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100355417B1 (ko) * | 2000-04-25 | 2002-10-11 | 안지양 | 레이저와 레이저마스크에 의한 회로기판의 회로 형성방법 |
| WO2005093471A1 (de) * | 2004-03-20 | 2005-10-06 | Robert Bosch Gmbh | Filterchip mit integrierter blende |
| JP2006317737A (ja) * | 2005-05-13 | 2006-11-24 | Dainippon Printing Co Ltd | 露光用マスク |
| JP2007199378A (ja) * | 2006-01-26 | 2007-08-09 | Matsushita Electric Works Ltd | 赤外線フィルタ及びその製造方法 |
| WO2019230194A1 (ja) * | 2018-06-01 | 2019-12-05 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 投影マスク、およびレーザ照射装置 |
-
1993
- 1993-12-27 JP JP34850193A patent/JPH07191215A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100355417B1 (ko) * | 2000-04-25 | 2002-10-11 | 안지양 | 레이저와 레이저마스크에 의한 회로기판의 회로 형성방법 |
| WO2005093471A1 (de) * | 2004-03-20 | 2005-10-06 | Robert Bosch Gmbh | Filterchip mit integrierter blende |
| JP2006317737A (ja) * | 2005-05-13 | 2006-11-24 | Dainippon Printing Co Ltd | 露光用マスク |
| JP2007199378A (ja) * | 2006-01-26 | 2007-08-09 | Matsushita Electric Works Ltd | 赤外線フィルタ及びその製造方法 |
| WO2019230194A1 (ja) * | 2018-06-01 | 2019-12-05 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 投影マスク、およびレーザ照射装置 |
| JP2019212712A (ja) * | 2018-06-01 | 2019-12-12 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 投影マスク、およびレーザ照射装置 |
| CN111758150A (zh) * | 2018-06-01 | 2020-10-09 | 株式会社V技术 | 投影掩模及激光照射装置 |
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