JP2007161510A - 疎水性無機粉体及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 一次粒子の平均粒径が0.01〜2μmの無機粉体を、無機粉体の表面積1×105m2当たり0.4mol〜1.5molの使用量でシランカップリング剤を加水分解した溶液中に分散させた後、150〜270℃で噴霧乾燥し、さらに、10〜70℃で真空乾燥することにより、水に対する接触角が90度以上であり、粒径が20μm以上の粗大凝集粒子の含有量が10体積%以下であり、且つ上記シランカップリング剤の未反応の加水分解物またはその縮合物の含有量が1.2質量%以下の疎水性無機粉体を得る。
【選択図】 なし
Description
1)上記方法では、シランカップリング剤の使用量が無機粉体100重量部に対して0.1〜15重量部であり幅広く、各実施例での使用値を含めその使用量が多い領域では、前記シランカップリング剤残留物が多量に含まれることが避けられず、これが疎水化工程や噴霧乾燥工程中において無機粉体の凝集を促進してしまうことと、
2)噴霧乾燥に続く、真空乾燥では、こうしたシランカップリング剤残留物を除くことが意図されているが、上記シランカップリング剤の使用量が多い場合には、80〜150℃の高温下での該真空乾燥でもこの目的は十分に達成され難く、しかも、該高温下での処理では、むしろ、この工程においても無機粉体の凝集が進行してしまうこと
である。そして、この知見に基づいて、無機粉体の疎水化処理におけるシランカップリング剤の使用量を特定の範囲にし、且つ真空乾燥の温度を特定の低温条件に調整することにより、上記の課題が解決でき、20μm以上の粗大凝集粒子の含有量、およびシランカップリング剤残留物の含有量のいずれも極めて少ない新規な疎水性無機粉体を創出できることを見出し、本発明を完成するに至った。
(1)略称・略号
・F−1:平均一次粒径0.4μmの球状のシリカ−ジルコニア(比表面積7m2/g)
・F−2:平均一次粒径0.2μmの球状のシリカ−ジルコニア(比表面積20m2/g)
・F−3:平均一次粒径0.07μmのシリカ−ジルコニア(比表面積50m2/g)
・SC−1:γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン
・SC−2:メチルトリメトキシシラン
・CQ:カンファーキノン
・DMBE:N,N−ジメチルp−安息香酸エチル
・3G:トリエチレングリコールジメタクリレート
・UDMA:1,6−ビス(メタクリルエチルオキシカルボニルアミノ)トリメチルヘキサン
・D2.6E:下記式で示される化合物
また、疎水性無機粉体の特性(接触角、シランカップリング剤残留物量、粗大凝集粒子の割合)、ペースト状組成物の調製方法、曲げ強度、流動性の測定は以下の方法を用いた。
表面処理された無機粒子を直径10mm、深さ1mmの孔を有する金属リングに入れ、50MPaの荷重を5分間加え、ペレットを作成し、このペレットの上に注射器で水滴を落とし、その接触角を測定した。
表面処理後の無機粉体1gをアセトニトリル4gに浸漬し、15分間超音波を当てた後に室温で7日間静置した。浸漬液をHPLC(JASCO製2000シリーズ、溶媒:アセトニトリル、カラム:YMC製Pack Polymer C18、検出波長:210nm)に打ち込み、ピーク面積を求めた。一方、加水分解されたシランカップリング剤の0.01gをアセトニトリル4gに溶解し、HPLCのピーク面積を求めた。両者のピーク面積を比較することで、無機粉体中のシランカップリング剤残留物の量を求めた。
疎水性無機粉体0.01gをアセトニトリル20mlに分散させ、超音波を5分照射した。粒度分布計(ベックマンコールター社製LS230)を用い、レーザー回折−光散乱法により測定した。
表面処理された無機粒子を37℃で3ヶ月保存した後、(3)と同じ方法により測定した。
下記に配合比を示した重合性単量体、光重合開始剤よりなる有機マトリックスE1に、所定量の疎水性無機粉体を配合し、赤色光下にて乳鉢を用いて均一に攪拌、脱泡して調製した。
3G 20質量部
UDMA 10質量部
CQ 0.3質量部
DMBE 0.5質量部
(6)曲げ強度の測定方法
ステンレス製型枠に硬化性組成物を充填し、ポリプロピレンで圧接した状態で、可視光線照射器パワーライト(トクヤマ社製)を用いて一方の面から30秒×3回、全体に光が当たるように場所を変えてポリプロピレンに密着させて光照射を行なった。ついで、反対の面からも同様にポリプロピレンに密着させて30秒×3回光照射を行ない硬化体を得た。#800の耐水研磨紙にて、硬化体を2×2×25mmの角柱状に整え、この試料片を試験機(島津製作所製、オートグラフAG5000D)に装着し、支点間距離20mm、クロスヘッドスピード1mm/分で3点曲げ破壊強度を測定した。試験片5個について評価し、その平均値を曲げ強度とした。
ガラスプレート上にペースト状組成物約0.1gを載せ、ガラスプレートを水平に保ったまま37℃で2分間自然に展開した。このときのペースト状組成物の長径と短径の平均値を流動性とした。
平均一次粒径0.4μmのシリカ−ジルコニア(比表面積7m2/g)70gと平均一次粒径0.07μmのシリカ−ジルコニア(比表面積50m2/g)30gの混合物(混合物の平均粒径は0.3μm、平均の比表面積は19.9m2/g)を200gの水に入れ、循環型粉砕機SCミルを用いて無機粉体を分散させた分散液を得た。この分散液中に20μm以上の凝集粒子は観察されなかった。
無機粉体として100gの球形状シリカ−ジルコニア無機粉体(平均一次粒子径0.2μm、比表面積20m2/g)を用い、シランカップリング剤として4g(0.016mol)のγ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランを用いた以外は実施例1と同様の方法で表面処理を行った。
シランカップリング剤を4g(0.016mol)のγ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランと0.4g(0.003mol)のメチルトリメトキシシランの混合物にした以外は実施例1と同様の方法で表面処理を行った。
γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランの使用量を3g(0.012mol)にした以外は実施例1と同様の方法で表面処理を行った。
噴霧乾燥温度を230℃にした以外は実施例1と同様の方法で表面処理を行った。
噴霧乾燥後の真空乾燥温度を68℃にした以外は実施例1と同様の方法で表面処理を行った。
実施例1と同様の無機粉体、シランカップリング剤、方法で噴霧乾燥まで実施した後、90℃、1ヘクトパスカルの条件で18時間真空乾燥した。
シランカップリング剤として8g(0.032mol)のγ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランを用いた以外は実施例1と同様の方法を実施して無機粉体の表面処理を行った。
シランカップリング剤として8g(0.032mol)のγ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランを用い、真空乾燥温度を80℃にした以外は実施例1と同様の方法を実施して無機粉体の表面処理を行った。
Claims (2)
- シランカップリング剤により表面処理された一次粒子の平均粒子径が0.01〜2μmの疎水性無機粉体であって、水に対する接触角が90度以上であり、粒径が20μm以上の粗大凝集粒子の含有量が10体積%以下であり、且つ上記シランカップリング剤の未反応の加水分解物またはその縮合物の含有量が1.2質量%以下であることを特徴とする疎水性無機粉体。
- 一次粒子の平均粒径が0.01〜2μmの無機粉体を、シランカップリング剤を加水分解した溶液中に分散させた後、噴霧乾燥し、さらに、真空乾燥することにより表面処理する疎水性無機粉体の製造方法において、シランカップリング剤の使用量が無機粉体の表面積1×105m2当たり0.4mol〜1.5molであり、噴霧乾燥温度が150〜270℃であり、かつ真空乾燥温度が10〜70℃であることを特徴とする請求項1記載の疎水性無機粉体の製造方法。
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Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102009000614A1 (de) | 2009-02-04 | 2010-08-05 | Evonik Degussa Gmbh | Fluorfreie Zusammensetzung zur wasserabweisenden Beschichtung von Oberflächen mit verbesserten Abperleigenschaften |
JP2013014556A (ja) * | 2011-07-06 | 2013-01-24 | Kuraray Noritake Dental Inc | 修復部分を識別可能な歯科用修復材料 |
JP2014196215A (ja) * | 2013-03-29 | 2014-10-16 | 日揮触媒化成株式会社 | 改質金属酸化物微粒子粉末およびその製造方法 |
JP2015044757A (ja) * | 2013-08-27 | 2015-03-12 | 株式会社トクヤマデンタル | 歯科用接着性組成物 |
JP2016175790A (ja) * | 2015-03-19 | 2016-10-06 | セイコーインスツル株式会社 | シリカ系粒子分散体の製造方法 |
JP2019098073A (ja) * | 2017-12-07 | 2019-06-24 | クラレノリタケデンタル株式会社 | 歯科用ミルブランクの製造方法 |
WO2019187351A1 (ja) * | 2018-03-29 | 2019-10-03 | 株式会社ジーシー | 歯科用充填材及び歯科用重合性組成物 |
CN113150387A (zh) * | 2021-04-21 | 2021-07-23 | 江苏联瑞新材料股份有限公司 | 一种疏水性硅微粉的制备方法 |
WO2022224922A1 (ja) * | 2021-04-23 | 2022-10-27 | 株式会社トクヤマ | 表面処理無機粉末及びその製造方法、並びにそれを含む分散体及び樹脂組成物 |
CN115434031A (zh) * | 2022-08-25 | 2022-12-06 | 江苏奥神新材料股份有限公司 | 一种蓝色聚酰亚胺纤维及其制备方法 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63159214A (ja) * | 1986-12-22 | 1988-07-02 | Tokuyama Soda Co Ltd | シリカ複合酸化物粉体の製造方法 |
JPH02258250A (ja) * | 1988-12-15 | 1990-10-19 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 超疎水性複合材料とその製造方法、および光学機能材料 |
JPH0365506A (ja) * | 1989-08-02 | 1991-03-20 | Tokuyama Soda Co Ltd | 疎水化無機粒子 |
JPH1036705A (ja) * | 1996-07-29 | 1998-02-10 | Tokuyama Corp | 無機粒子の表面処理方法 |
JP2000264621A (ja) * | 1999-03-19 | 2000-09-26 | Tokuyama Corp | 疎水性シリカの製造方法 |
JP2001261327A (ja) * | 2000-03-24 | 2001-09-26 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 疎水性シリカ微粉末の製造方法 |
JP2003176121A (ja) * | 2001-09-28 | 2003-06-24 | Nippon Shokubai Co Ltd | 焼成シリカ粒子およびその製造方法 |
JP2004182555A (ja) * | 2002-12-05 | 2004-07-02 | Showa Denko Kk | 水酸化アルミニウム及びその製造方法 |
-
2005
- 2005-12-12 JP JP2005357450A patent/JP4986444B2/ja active Active
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63159214A (ja) * | 1986-12-22 | 1988-07-02 | Tokuyama Soda Co Ltd | シリカ複合酸化物粉体の製造方法 |
JPH02258250A (ja) * | 1988-12-15 | 1990-10-19 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 超疎水性複合材料とその製造方法、および光学機能材料 |
JPH0365506A (ja) * | 1989-08-02 | 1991-03-20 | Tokuyama Soda Co Ltd | 疎水化無機粒子 |
JPH1036705A (ja) * | 1996-07-29 | 1998-02-10 | Tokuyama Corp | 無機粒子の表面処理方法 |
JP2000264621A (ja) * | 1999-03-19 | 2000-09-26 | Tokuyama Corp | 疎水性シリカの製造方法 |
JP2001261327A (ja) * | 2000-03-24 | 2001-09-26 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 疎水性シリカ微粉末の製造方法 |
JP2003176121A (ja) * | 2001-09-28 | 2003-06-24 | Nippon Shokubai Co Ltd | 焼成シリカ粒子およびその製造方法 |
JP2004182555A (ja) * | 2002-12-05 | 2004-07-02 | Showa Denko Kk | 水酸化アルミニウム及びその製造方法 |
Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102009000614A1 (de) | 2009-02-04 | 2010-08-05 | Evonik Degussa Gmbh | Fluorfreie Zusammensetzung zur wasserabweisenden Beschichtung von Oberflächen mit verbesserten Abperleigenschaften |
WO2010089166A1 (de) | 2009-02-04 | 2010-08-12 | Evonik Degussa Gmbh | Fluorfreie zusammensetzung zur wasserabweisenden beschichtung von oberflächen mit verbesserten abperleigenschaften |
JP2013014556A (ja) * | 2011-07-06 | 2013-01-24 | Kuraray Noritake Dental Inc | 修復部分を識別可能な歯科用修復材料 |
JP2014196215A (ja) * | 2013-03-29 | 2014-10-16 | 日揮触媒化成株式会社 | 改質金属酸化物微粒子粉末およびその製造方法 |
JP2015044757A (ja) * | 2013-08-27 | 2015-03-12 | 株式会社トクヤマデンタル | 歯科用接着性組成物 |
JP2016175790A (ja) * | 2015-03-19 | 2016-10-06 | セイコーインスツル株式会社 | シリカ系粒子分散体の製造方法 |
JP2019098073A (ja) * | 2017-12-07 | 2019-06-24 | クラレノリタケデンタル株式会社 | 歯科用ミルブランクの製造方法 |
WO2019187351A1 (ja) * | 2018-03-29 | 2019-10-03 | 株式会社ジーシー | 歯科用充填材及び歯科用重合性組成物 |
JPWO2019187351A1 (ja) * | 2018-03-29 | 2021-03-11 | 株式会社ジーシー | 歯科用充填材及び歯科用重合性組成物 |
JP7074842B2 (ja) | 2018-03-29 | 2022-05-24 | 株式会社ジーシー | 歯科用充填材及び歯科用重合性組成物 |
US11433005B2 (en) | 2018-03-29 | 2022-09-06 | Gc Corporation | Dental filling material and dental polymerizable composition |
CN113150387A (zh) * | 2021-04-21 | 2021-07-23 | 江苏联瑞新材料股份有限公司 | 一种疏水性硅微粉的制备方法 |
WO2022224922A1 (ja) * | 2021-04-23 | 2022-10-27 | 株式会社トクヤマ | 表面処理無機粉末及びその製造方法、並びにそれを含む分散体及び樹脂組成物 |
CN115434031A (zh) * | 2022-08-25 | 2022-12-06 | 江苏奥神新材料股份有限公司 | 一种蓝色聚酰亚胺纤维及其制备方法 |
CN115434031B (zh) * | 2022-08-25 | 2023-10-27 | 江苏奥神新材料股份有限公司 | 一种蓝色聚酰亚胺纤维及其制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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