JP2000264621A

JP2000264621A - 疎水性シリカの製造方法

Info

Publication number: JP2000264621A
Application number: JP11074815A
Authority: JP
Inventors: Tanchi Komatsubara; 胆治小松原; Mari Aoki; 真里青木; Ryohei Kataoka; 良平片岡
Original assignee: Tokuyama Corp
Current assignee: Tokuyama Corp
Priority date: 1999-03-19
Filing date: 1999-03-19
Publication date: 2000-09-26
Anticipated expiration: 2019-03-19
Also published as: JP4321901B2

Abstract

(57)【要約】【課題】高く且つ均一な疎水化度を有する疎水性シリカ
を、凝集粒子を生じさせることなく製造すること。【解決手段】シリカとトリメチルシリル化剤とを、分圧
が４〜２０ｋＰａの水蒸気の存在下、好適にはトリメチ
ルシリル化剤の分圧が３０〜１５０ｋＰａの条件で反応
させることを特徴とする疎水性シリカの製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、疎水性シリカ粉末
の製法に関する。

【０００２】

【従来の技術】シリカの表面は、シラノール基で覆われ
ており、親水性を示す。そのため、シリカは、液体樹脂
やゴム等の充填材として使用した際に、分散性が悪かっ
たり、加工後において吸湿し機械的強度を低下させるこ
とがあった。また、こうした吸湿性の高さから、粘度の
経時安定性が悪い問題もあった。従って、シリカの表面
を各種有機化合物で処理して疎水化し、上記問題点を改
善することが広く試みられている。

【０００３】例えば、シリカの表面をシリコーンオイル
で被覆すると、極めて疎水性の強いシリカが得られるこ
とが知られている。この方法によれば、水−メタノール
の比を変えて該溶液に対する粉体の浮遊割合を測定する
方法によって求められる疎水化度において、浮遊量０％
となるメタノール濃度が７０容量％程度という極めて高
い疎水性を有するシリカを得ることが可能である。しか
しながら、この方法では、シリコーンオイルの大部分は
シリカ表面に物理的な吸着により付着しているだけであ
るため、これらはシリカ表面から離脱し易く、樹脂の充
填材等として使用した際において、上記優れた疎水性の
効果が思うように発揮されないことが多かった。

【０００４】こうしたことから、シリカ表面のシラノー
ル基に有機化合物を反応させ、該有機化合物から導かれ
る疎水性基をシリカ表面に化学的に結合させることが、
有利な方法として行われている。例えば、特公昭３８−
２２１２９号公報には、シリカと低沸点のオルガノシロ
キサン類とを反応させることが記載され、その反応条件
として、加温や加圧下で該オルガノシロキサン類を気体
の状態で反応させることも記載されている。しかしなが
ら、こうしたシリカと有機珪素化合物との反応は反応性
が低く、得られるシリカは、十分な疎水性を有していな
いものであった。

【０００５】そのため、シリカと有機珪素化合物との反
応性を向上させるために、該反応を水の存在下で行うこ
とが特開昭５６−４１２６３号公報等により提案されて
いる。その際、水の存在量は、十分な反応性で反応を行
うためには、かなりの量存在させることが有利であると
考えられていたため、実施例等では分圧として４０〜１
００ｋＰａ程度存在する量で反応を行うのが一般的であ
った。しかして、このような条件で上記疎水化反応を行
った場合、得られる疎水性シリカは、部分的には前記方
法により測定される疎水化度において浮遊量０％となる
メタノール濃度が６０容量％以上になるような高い疎水
性を有するシリカを得ることが可能であるが、一方でこ
うした疎水化の反応性にバラツキが生じ、充分に疎水化
されていないものも相当量含まれてしまうものであっ
た。従って、上記方法による疎水化度の測定において、
浮遊量０％のときのメタノール濃度と浮遊量９０％のと
きのメタノール濃度の差が１０％以上になる広い疎水化
度分布を有するものが得られていた。そうして、このよ
うに得られる疎水性シリカの疎水化度が均一でない場
合、これを前記した用途に使用しても、今一歩満足でき
る効果が得られなかった。

【０００６】一方、高い反応性で均一に疎水化された疎
水性シリカを得る方法として、特開平４−２０４７５０
号公報において、溶媒で希釈したヘキサメチルジシラザ
ンを沸点以下の温度でシリカに噴霧し、乾燥する方法が
知られている。この方法によれば、条件によっては均一
且つ高い疎水化度を有する疎水性シリカを得ることが可
能であるが、この反応は、液体−固体反応であるため、
乾燥工程において、液に触れたシリカが凝集し易いもの
であった。従って、十分な解砕工程を設けなければ、こ
れを樹脂に分散させた場合などには、粗大な凝集粒子に
より樹脂組成物に白濁が生じる大きな問題があった。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】以上から、高く且つ均
一な疎水化度を有する疎水性シリカを、凝集粒子を生じ
させることなく製造することが大きな課題であった。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記課題
に鑑み鋭意研究を続けてきた。その結果、シリカとトリ
メチルシリル化剤とを、水蒸気の存在下で反応させるに
際して、該水蒸気の分圧を特定の範囲にすれば、上記の
課題が解決できることを見出し本発明を完成するに至っ
た。

【０００９】即ち、本発明は、シリカとトリメチルシリ
ル化剤とを、分圧が４〜２０ｋＰａの水蒸気の存在下で
反応させることを特徴とする疎水性シリカの製造方法で
ある。

【００１０】

【発明の実施の形態】本発明においてシリカは、特に制
限されるものではなく公知のものが使用され、通常、湿
式法又は乾式法により得られる無定形シリカが使用され
る。好適には、ハロゲノシランの火炎分解や加水分解で
製造される乾式シリカであるのが好ましい。また、これ
らのシリカは溶融されたものであっても良い。こうした
シリカは、比表面積が５〜５００ｍ²／ｇであり、見掛
比重が１５〜２００ｇ／ｌ、平均一次粒子径が７〜５０
０ｎｍのものが好適に使用できる。また、これらのシリ
カは、含水率が０．１〜１０重量％のものが好ましい。
さらに、単位面積当たりの表面のＯＨ基が、１．０〜
５．０個／ｎｍ²、好適には１．０〜２．５個／ｎｍ²の
ものを用いるのが好ましい。

【００１１】また、本発明において、上記シリカと反応
させるトリメチルシリル化剤は、シリカ表面にトリメチ
ルシリル基が導入可能なものが制限なく使用できる。具
体的には、（（ＣＨ₃）₃Ｓｉ）₂ＮＲ〔式中、Ｒは水素または低級アルキル基である〕、又は（ＣＨ₃）₃ＳｉＹ〔式中、Ｙはハロゲン原子、−ＯＨ、−ＯＲ’、または
−ＮＲ’₂、から選ばれる基（Ｒ’は上記Ｒと同じであ
る）である〕で示される化合物が好ましい。ここで、上
記化合物において、Ｒの低級アルキル基は、メチル基、
エチル基、プロピル基等の炭素数１〜５、好適には炭素
数１〜３のもの、特にメチル基が好ましい。また、Ｙの
ハロゲン原子は、塩素、フッ素、臭素、ヨウ素等が挙げ
られ、特に塩素が好ましい。上記（（ＣＨ₃）₃Ｓｉ）₂
ＮＲで示されるトリメチルシリル化剤を例示すれば、ヘ
キサメチルジシラザン、Ｎ−メチル−ヘキサメチルジシ
ラザン、Ｎ−エチル−ヘキサメチルジシラザン、ヘキサ
メチル−Ｎ−プロピルジシラザン等が挙げられ、反応性
の良さからヘキサメチルジシラザンを用いるのが特に好
適である。

【００１２】他方、（ＣＨ₃）₃ＳｉＹで示されるトリア
ルキルシリル化剤を例示すれば、トリメチルクロロシラ
ン、トリメチルシラノール、メトキシトリメチルシラ
ン、エトキシトリメチルシラン、プロポキシトリメチル
シラン、ジメチルアミノトリメチルシラン、ジエチルア
ミノトリメチルシラン等が挙げられ、反応性の良さから
トリメチルシラノールを用いるのが特に好適である。

【００１３】ここで、使用する疎水化剤が、上記トリメ
チルシリル化剤以外の、さらに高炭素数のトリアルキル
シリル基を導入させるものの場合、シリカ表面への反応
性が低下し、十分な疎水化度を有するシリカを得ること
が難しくなる。

【００１４】本発明では、上記シリカとトリメチルシリ
ル化剤とを、水蒸気の存在下で反応させる。本発明は、
かかる反応に際して、該水蒸気の分圧を４〜２０ｋＰ
ａ、好適には５〜１５ｋＰａにした点に最大の特徴を有
する。即ち、前記したとおり水蒸気の存在下でシリカと
トリメチルシリル化剤とを反応させた場合、反応性は大
きく向上するが、通常、該反応に際して行われているよ
うな高い水蒸気分圧とした場合では、疎水化反応の均一
性が充分でなくなる。これに対して、上記特定の水蒸気
分圧で反応を実施した場合、反応の均一性が大きく向上
し、得られる疎水性シリカは、高い疎水化度を有するだ
けでなく、こうした疎水化度の分布においても極めて均
一性の高いものになる。

【００１５】ここで、水蒸気分圧が４ｋＰａより小さい
と疎水化度が上がらず、かつ疎水化度の分布も広がる。
一方、水蒸気分圧が２０ｋＰａより大きくなっても、疎
水化度の分布が広がり、その均一性が損なわれる。

【００１６】また、本発明において、上記シリカとトリ
メチルシリル化剤との反応は、短い反応時間でより疎水
化度の高いシリカを得る場合には、トリメチルシリル化
剤の気相の分圧が５０〜２００ｋＰａ、好適には８０〜
１５０ｋＰａになるような条件下で行うのが好ましい。

【００１７】さらに、本発明において、上記反応は、ト
リメチルシリル化剤と水蒸気のみからなる雰囲気で反応
を実施しても良いが、通常は、これらを、窒素、ヘリウ
ム等の不活性ガスにより希釈して反応に供するのが一般
的である。その場合、反応雰囲気の全圧は、１５０〜５
００ｋＰａ、好適には１５０〜２５０ｋＰａであるのが
一般的である。

【００１８】なお、本発明においては、シリカとトリメ
チルシリル化剤との反応性をより高めるため、必要に応
じてアンモニア、メチルアミン、ジメチルアミン等の塩
基性ガス、好適にはアンモニアを反応雰囲気中に共存さ
せても良い。こうした塩基性ガスの分圧は、１〜１００
ｋＰａであるのが好適である。

【００１９】シリカとトリメチルシリル化剤との反応温
度は、疎水化反応の反応性の良好さやトリメチルシリル
化剤の分解の危険性を勘案すると１３０〜３００℃、好
適には１５０〜２５０℃であるのが好ましい。一般に
は、上記範囲において反応温度が高いほど、得られるシ
リカの疎水性が高くなる傾向がある。

【００２０】こうしたシリカの疎水化反応は、以上の各
反応条件が、各々満足されていれば如何なる形式で実施
されても良く、予め、上記要件が満足されるようにトリ
メチルシリル化剤と水とを、シリカが充填された反応器
に仕込み反応を実施しても良いし、上記要件が満足され
るようにトリメチルシリル化剤と水とを、シリカが充填
された反応器に連続的または間欠的に供給しながら反応
を実施しても良い。反応器は、通常、オートクレーブ等
の耐圧性の密閉容器を用いて反応を行うのが好適であ
る。また、シリカは、固定床式で反応させても良いが、
好適には撹拌により流動させた状態で反応させるのが好
ましい。

【００２１】なお、上記水蒸気の分圧の要件は、その反
応期間の実質的全域に渡って満足されていれば、短期間
該要件を外れる期間があっても、本発明では許容され
る。好適には、反応開始から反応終了までの期間におい
て、その８０％、好適には９０％が上記条件で反応が行
われるのが好ましい。特に、炭素含有量が飽和量に達す
るまで疎水化反応を行う場合には、該飽和量の５０％ま
で反応が進んだ段階から飽和量にほぼ達する段階までの
期間は、上記条件で反応を行うのが好適である。同様に
トリメチルシリル化剤も、前記好適な分圧が反応期間の
実質的全域に渡って満足されているのが好ましい。反応
時間は、通常、２０〜１２０分、好適には３０〜６０分
から採択される。

【００２２】反応終了後、過剰の処理剤及び副生物は、
混合機系を開放脱圧し、チッソガス洗浄するのが好まし
い。

【００２３】以上により得られる疎水性シリカは、トリ
メチルシリル基が表面に化学結合しており、それにより
表面が疎水性を呈している。そして、疎水化度の分布の
均一性が極めて高く、前記した水−メタノールの比を変
えて該溶液に対する粉体の浮遊割合を測定する方法によ
って求められる、浮遊量０％と浮遊量９０％のときのメ
タノール濃度の差が７％以下、好適には５％以下と著し
く小さい。また、該方法によって求められる、浮遊量０
％となるメタノール濃度が６０容量％以上、好適には６
２容量％以上の高い疎水化度を有するものを得ることが
可能である。

【００２４】本発明の方法により得られる疎水性シリカ
において、トリメチルシリル基の導入量は、１１００℃
の温度下、酸素雰囲気でＣＯ₂に熱分解することにより
求められる炭素含有量が０．５〜１０重量％、好適には
１〜５重量％であるのが好ましい。また、これらトリメ
チルシリル基は、トリメチルシリル化剤をシリカにさら
に反応させても、上記炭素含有量がそれ以上増加しない
飽和量に実質的に達するまで、導入されているのが好ま
しい。さらに、本発明の疎水性シリカは、単位面積当た
りの表面のＯＨ基数が０．２〜０．５個／ｎｍ²程度で
あるのが一般的である。なお、上記飽和量まで疎水化さ
れた疎水性シリカは、トリメチルシリル基により、その
表面のほとんどが覆われていると推定される。従って、
上記数程度に表面にＯＨ基が残存していたとしても、こ
れは、該疎水性基によりブロックされ、その高い疎水化
度には殆ど影響を及ぼさないと考えられる。

【００２５】さらに、本発明の方法で得られる疎水性シ
リカは、粗大な凝集粒子をほとんど含んでいない。具体
的には、メタノール２００ｍｌにシリカ０．８ｇを混合
し超音波分散（１２５Ｗ）を３０秒行った後、標準ふる
いにて２０μｍ上に残ったシリカの割合を求めた場合、
粒子径２０μｍ以上の粗大凝集粒子の含有量は１５重量
％以下、より好適には１０重量％以下のものを得ること
が可能である。

【００２６】

【発明の効果】本発明の製造方法によれば、高い反応性
でシリカとトリメチルシリル基を反応させることが可能
であり、且つその反応の均一性も極めて良好である。し
かも、気相反応であるため、粗大な凝集粒子が過剰に生
じることもない。従って、得られる疎水性シリカは、高
い疎水化度と均一な疎水化度の分布を有し、且つ粗大凝
集粒子の含有量も極めて少ないものになる。

【００２７】従って、このような疎水性シリカは、液体
樹脂やゴム等の増粘剤や補強充填剤として有用であり、
分散性が極めてよく、吸湿性の低さから保存時の粘度の
経時安定性が大きく改善される。また、粉体塗料や電子
写真用トナー等の粉体系においても、混合することによ
り、当該粉体の流動性の改善、固結防止、帯電調整等に
安定した効果を発揮する。

【００２８】

【実施例】以下に実施例及び比較例を挙げて本発明を具
体的に説明するが、本発明は、これらの実施例に限定さ
れるものではない。なお、以下の実施例及び比較例にお
ける各種の物性の測定は以下の方法により実施した。

【００２９】１）炭素含有量疎水性シリカを、１１００℃の温度下、酸素雰囲気中で
シリカ表面に化学結合する疎水性基をＣＯ₂に熱分解し
た後、微量炭素分析装置（Horiba製「EMIAー110」）によ
り、シリカの含有する炭素含有量を求めた。なお、疎水
化反応の再現性からみた炭素含有量の有効数字は０．１
重量％である。

【００３０】２）疎水化度（Ｆ₀）試料０．５ｇに、メタノールと水の混合溶液（２５℃）
１００ｍｌを加え、シエーカーで３０分間振り混ぜた後
１晩静置し該溶液に対する粉体の浮遊割合を測定する。
水−メタノールの比を変えて上記操作を行い、浮遊量が
０％となるメタノール濃度(容量％)を疎水化度（Ｆ₀）
として求めた。

【００３１】３）疎水化度分布（Ｆ₀−Ｆ₉₀）試料０．５ｇに、メタノールと水の混合溶液（２５℃）
１００ｍｌを加え、シェーカーで３０分間振り混ぜた後
１晩静置し該溶液に対する粉体の浮遊割合を測定する。
水−メタノールの比を変えて上記操作を行ない、浮遊量
０％（Ｆ₀）と浮遊量９０％（Ｆ₉₀）を測定し、その差
を疎水化度分布（Ｆ₀−Ｆ₉₀）として求めた。

【００３２】４）粗大凝集粒子の含有量メタノール２００ｍｌにシリカ０．８ｇを混合し超音波
分散（１２５Ｗ）を３０秒行った後、標準ふるいにて２
０μｍ上に残ったシリカを乾燥し、その割合から求め
た。

【００３３】３）増粘作用疎水性シリカのエポキシ樹脂に対する増粘作用を調べ
た。エポキシ樹脂「エピコートＲ８１９」（油化シエル
社製）１８０ｇに、疎水性シリカ７．２ｇを３０００回
転／分で２分間、デイソルバーを用いて分散させ、分散
直後の初期粘度と３０日後の粘度を、２５℃でブルック
フイールド粘度計（スピンドル４）により測定した。

【００３４】実施例１〜３２リットルの撹拌機付きオートクレーブに、５０ｇの乾
式シリカ（商品名：レオロシールＱＳ３０、比表面積３
００ｍ²／ｇ、吸着水分０．４％、表面ＯＨ数１．５個
／ｎｍ²、（株）トクヤマ製）を装入し、撹拌による流
動化状態において、２００℃に加熱した。反応器内部を
窒素ガスで置換した後、水を水蒸気分圧が５、１０、及
び１５ｋＰａとなるように各供給して（窒素ガスの各分
圧は９３、８８、及び８３ｋＰａ）して反応器を密閉
し、さらにヘキサメチルジシラザンを分圧が１３０ｋＰ
ａになるように内部に各噴霧し、シリカの流動化状態で
トリメチルシリル化反応を開始した。なお、上記反応に
おいて、反応開始当初の雰囲気の全圧はそれぞれ２２８
ｋＰａであった。この反応は、いずれも反応開始７分
で、シリカの炭素含有量がそれ以上ほとんど増加しない
飽和量にほぼ達した。

【００３５】上記反応を６０分間継続した後、反応を終
了した。反応終了時のヘキサメチルジシラザンの分圧は
７０ｋＰａであり、水蒸気分圧はほとんど変化しなかっ
た。

【００３６】反応終了後、疎水性シリカからの過剰のヘ
キサメチルジシラザン及び副生物の除去は、オートクレ
ーブを開放脱圧した後、チッソ気流による洗浄を行うこ
とにより実施した。得られた疎水性シリカの物性を測定
し表１に示した。

【００３７】なお、水蒸気分圧が５ｋＰａであった疎水
性シリカについて、疎水化度分布（Ｆ₀−Ｆ₉₀）を測定
する際に求めた水−メタノールの比と浮遊量の関係を、
図１として示した。

【００３８】

【表１】

【００３９】比較例１〜４２リットルの撹拌機付きオートクレーブに５０ｇの乾式
シリカ（商品名：レオロシールＱＳ３０）を装入し、撹
拌による流動化状態において、２００℃に加熱した。反
応器内部を窒素ガスで置換した後、水を水蒸気分圧が
２、３０、５０、及び９８ｋＰａとなるように各供給し
て（窒素ガスの各分圧は９６、６８、４８、及び０ｋＰ
ａ）して反応器を密閉し、さらにヘキサメチルジシラザ
ンを分圧が１３０ｋＰａになるように内部に各噴霧し、
シリカの流動化状態でトリメチルシリル化反応を開始し
た。なお、上記反応において、反応開始当初の雰囲気の
全圧はそれぞれ２２８ｋＰａであった。この反応は、い
ずれも反応開始７分で、それぞれシリカの炭素含有量が
それ以上ほとんど増加しない飽和量にほぼ達した。

【００４０】上記反応を６０分間継続した後、反応を終
了した。反応終了時のヘキサメチルジシラザンの分圧は
７０ｋＰａであり、水蒸気分圧はほとんど変化しなかっ
た。

【００４１】反応終了後、疎水性シリカからの過剰のヘ
キサメチルジシラザン及び副生物の除去は、オートクレ
ーブを開放脱圧した後、チッソ気流による洗浄を行うこ
とにより実施した。得られた疎水性シリカの物性を測定
し表２に示した。

【００４２】なお、上記比較例１〜４と前記実施例１〜
３の結果における、水蒸気分圧と疎水化度分布（Ｆ₀−
Ｆ₉₀）の関係を、図２として示した。図２に示されるよ
うに、水蒸気分圧が本願発明での範囲において、得られ
る疎水性シリカの疎水化度分布（Ｆ₀−Ｆ₉₀）は特異的
に小さくなる結果であった。

【００４３】

【表２】

【００４４】比較例５２リットルの撹拌機付きオートクレーブに５０ｇの乾式
シリカ（商品名：レオロシールＱＳ３０）を装入し、撹
拌による流動化状態において、１２０℃に加熱し、２時
間保持した。反応器内部を窒素ガスで置換した後、ヘキ
サメチルジシラザン５．０ｇをテトラヒドロフラン２０
ｇに溶解した混合液を５分かけて徐々に加え、１０分間
撹拌後１２０℃の恒温槽で２時間処理した。得られた疎
水性シリカの物性を測定し表３に示した。

【００４５】

【表３】

【００４６】実施例４２リットルの撹拌機付きオートクレーブに５０ｇの乾式
シリカ（商品名：レオロシールＱＳ３０）を装入し、撹
拌による流動化状態において、２００℃に加熱した。反
応器内部を窒素ガスで置換した後、水を水蒸気分圧が１
５ｋＰａとなるように供給して（窒素ガスの分圧は８３
ｋＰａ）して反応器を密閉し、さらにヘキサメチルジシ
ラザンを分圧が９０ｋＰａになるように内部に各噴霧
し、シリカの流動化状態でトリメチルシリル化反応を開
始した。なお、上記反応において、反応開始当初の雰囲
気の全圧は１８８ｋＰａであった。この反応は、反応開
始７分で、シリカの炭素含有量がそれ以上ほとんど増加
しない飽和量にほぼ達した。

【００４７】上記反応を６０分間継続した後、反応を終
了した。反応終了時のヘキサメチルジシラザンの分圧は
３０ｋＰａであり、水蒸気分圧はほとんど変化しなかっ
た。

【００４８】反応終了後、疎水性シリカからの過剰のヘ
キサメチルジシラザン及び副生物の除去は、オートクレ
ーブを開放脱圧した後、チッソ気流による洗浄を行うこ
とにより実施した。得られた疎水性シリカの物性を測定
し表４に示した。

【００４９】

【表４】

【００５０】実施例５、６２リットルの撹拌機付きオートクレーブに５０ｇの乾式
シリカ（商品名：レオロシールＱＳ３０）を装入し、撹
拌による流動化状態において、それぞれ１５０と２５０
℃に加熱した。反応器内部を窒素ガスで置換した後、水
を水蒸気分圧が１５ｋＰａとなるように供給して（窒素
ガスの分圧は８３ｋＰａ）して反応器を密閉し、さらに
ヘキサメチルジシラザンを分圧が９０ｋＰａになるよう
に内部に各噴霧し、シリカの流動化状態でトリメチルシ
リル化反応を開始した。なお、上記反応において、反応
開始当初の雰囲気の全圧は１８８ｋＰａであった。この
反応は、それぞれ反応開始１０分と５分で、シリカの炭
素含有量がそれ以上ほとんど増加しない飽和量にほぼ達
した。

【００５１】上記反応を６０分間継続した後、反応を終
了した。反応終了時のヘキサメチルジシラザンの分圧は
３０ｋＰａであり、水蒸気分圧はほとんど変化しなかっ
た。

【００５２】反応終了後、疎水性シリカからの過剰のヘ
キサメチルジシラザン及び副生物の除去は、オートクレ
ーブを開放脱圧した後、チッソ気流による洗浄を行うこ
とにより実施した。得られた疎水性シリカの物性を測定
し表５に示した。

【００５３】

【表５】

【００５４】実施例７、８実施例２において、乾式シリカとして「レオロシールＱ
Ｓ１０」（比表面積１３０ｍ²／ｇ、吸着水分０．３重
量％、表面ＯＨ数１．５個／ｎｍ²、見掛比重５０ｇ／
ｌ、平均一次粒子径が１６ｎｍ、（株）トクヤマ製）及
び「レオロシールＱＳ４０」（比表面積３８０ｍ²／
ｇ、吸着水分０．５重量％、表面ＯＨ数１．５個／ｎｍ
²、見掛比重５０ｇ／ｌ、平均一次粒子径が７ｎｍ、
（株）トクヤマ製）を用いて、実施例２と同様に実施し
た。いずれの反応も、反応開始７分でシリカの炭素含有
量がそれ以上増加しない飽和量に達した。得られた疎水
性シリカの物性を測定し表６に示した。

【００５５】

【表６】

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は、実施例１で製造された疎水性シリカに
ついて、疎水化度分布（Ｆ₀−Ｆ₉₀）を測定する際に求
めた水−メタノールの比と浮遊量の関係を示す図であ
る。

【図２】図２は、実施例１〜３及び比較例１〜４で製造
された各疎水性シリカにおける、水蒸気分圧と疎水化度
分布（Ｆ₀−Ｆ₉₀）の関係をを示す図である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 4G072 AA25 AA41 BB05 GG03 HH14 HH29 LL06 MM01 MM23 QQ07 RR20 UU07 UU08

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】シリカとトリメチルシリル化剤とを、分圧
が４〜２０ｋＰａの水蒸気の存在下で反応させることを
特徴とする疎水性シリカの製造方法。
【請求項２】トリメチルシリル化剤の分圧が３０〜１５
０ｋＰａであることを特徴とする請求項１記載の疎水性
シリカ粉末の製造方法。
【請求項３】トリメチルシリル化剤が、ヘキサメチルジ
シラザンである請求項１または請求項２記載の疎水性シ
リカの製造方法。