JP2000191318A

JP2000191318A - 疎水性シリカ及びその製造方法

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Publication number: JP2000191318A
Application number: JP10369727A
Authority: JP
Inventors: Tanchi Komatsubara; 胆治小松原; Ryohei Kataoka; 良平片岡
Original assignee: Tokuyama Corp
Current assignee: Tokuyama Corp
Priority date: 1998-12-25
Filing date: 1998-12-25
Publication date: 2000-07-11
Anticipated expiration: 2018-12-25
Also published as: JP4093660B2

Abstract

(57)【要約】【課題】疎水化度が極めて高い疎水性シリカを開発する
こと。【解決手段】シリカとトリメチルシリル化剤とを、水蒸
気の存在下、２５０〜３００℃の反応温度で、且つ該ト
リメチルシリル化剤の分圧が１．５〜４ｋｇ／ｃｍ²の
条件で反応させる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、疎水性シリカ及び
その製法に関する。

【０００２】

【従来の技術】シリカの表面は、シラノール基で覆われ
ており親水性を示す。そのため、シリカは、液体樹脂や
ゴム等の充填材として使用した際に、分散性が悪かった
り、加工後において吸湿し機械的強度を低下させること
があった。また、こうした吸湿性の高さから、保存時の
粘度の経時安定性が悪い問題もあった。従って、シリカ
の表面を各種有機化合物で処理して疎水化し、上記問題
点を改善することが広く試みられている。

【０００３】例えば、シリカの表面をシリコーンオイル
で被覆すると、極めて疎水性の強いシリカが得られるこ
とが知られている。この方法によれば、水−メタノール
の比を変えて該溶液に対する粉体の浮遊割合を測定する
方法によって求められる疎水化度において、浮遊量が０
％となるメタノール濃度が７０容量％程度という極めて
高い疎水性を有するシリカを得ることが可能である。し
かしながら、この方法では、シリコーンオイルの大部分
はシリカ表面に物理的な吸着により付着しているだけで
あるため、これらはシリカ表面から離脱し易く、樹脂の
充填材等として使用した際において、上記優れた疎水性
の効果が思うように発揮されないことが多かった。

【０００４】こうしたことから、シリカ表面のシラノー
ル基に有機化合物を反応させ、該有機化合物から導かれ
る疎水性基をシリカ表面に化学的に結合させることが、
有利な方法として行われている。例えば、特公昭３８−
２２１２９号公報には、シリカと低沸点のオルガノシロ
キサン類とを反応させることが記載され、その反応条件
として、加温や加圧下で該オルガノシロキサン類を気体
の状態で反応させることも記載されている。しかしなが
ら、こうしたシリカと有機珪素化合物との反応は反応性
が低く、得られるシリカは、十分な疎水性を有していな
いものであった。

【０００５】そのため、シリカと有機珪素化合物との反
応性を向上させるため、該反応を水の存在下で行うこと
が特開昭５６−４１２６３号公報等により提案されてい
る。この方法によれば、上記シリカと有機珪素化合物と
は、高い反応性で反応させることが可能である。しかし
ながら、かかる方法によっても、得られる疎水性シリカ
は、以下のように今一歩十分な疎水性を有するものでは
なかった。

【０００６】即ち、有機珪素化合物として、疎水性が強
いトリメチルシリル基が導入できるヘキサメチルジシラ
ザン等を用いて、上記疎水化反応を実施した場合、これ
らのトリメチルシリル化剤は、前記水の存在下では、極
めて高い反応性でシリカ表面に反応し、それほど反応温
度を高めずとも、トリメチルシリル基は短い反応時間で
ほぼ飽和量まで導入できる。従って、こうしたトリメチ
ルシリル化剤との反応は、あまり高温で実施しても熱膨
張により該処理剤の雰囲気濃度が希薄化するため有利で
はないと考えられ、通常、２００℃以下の常圧、或いは
それに近い低圧下で反応が実施されており、オートクレ
ーブ等の加圧容器をわざわざ用いて、該トリメチルシリ
ル化剤を高い圧力で反応させるような例は全く知られて
いなかった。

【０００７】しかして、上記のような低温或いは低圧下
の条件でトリメチルシリル化剤を反応させて製造される
疎水性シリカは、それ以上反応しない状態までトリメチ
ルシリル基が導入されたものであっても、前記方法によ
り測定される疎水化度は、浮遊量が０％となるメタノー
ル濃度が６０容量％を少し越える程度のものでしかなか
った。そして、その場合、前記したような用途に疎水性
シリカを使用するに際して、今一歩満足できる疎水性の
強さではなかった。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】従って、シリカ表面に
疎水性基が化学結合する疎水性シリカにおいて、さらに
その疎水化度が高いものを開発することが大きな課題で
あった。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記課題
に鑑み鋭意研究を続けてきた。その結果、シリカとトリ
メチルシリル化剤とを、水蒸気の存在下、高温及び該疎
水化剤の高い圧力下で反応させることにより、今までに
ない極めて高い疎水化度を有する疎水性シリカが得られ
ることを見出し、本発明を完成するに至った。

【００１０】即ち、本発明は、トリメチルシリル基が表
面に化学結合されてなる疎水性シリカであって、水−メ
タノールの比を変えて該溶液に対する粉体の浮遊割合を
測定する方法によって求められる浮遊量が０％となるメ
タノール濃度が６５容量％以上である疎水性シリカであ
る。

【００１１】また、本発明は、上記疎水性シリカの製造
方法として、シリカとトリメチルシリル化剤とを、水蒸
気の存在下、２５０〜３００℃の反応温度で、且つ該ト
リメチルシリル化剤の分圧が１．５〜４ｋｇ／ｃｍ²の
条件で反応させることを特徴とする疎水性シリカの製造
方法も提供する。

【００１２】

【発明の実施の形態】本発明の疎水性シリカは、トリメ
チルシリル基が表面に化学結合されており、それにより
表面が疎水性を呈している。

【００１３】また、その導入量は、１１００℃の温度
下、酸素雰囲気でＣＯ₂に熱分解し微量炭素分析装置を
用いて求められる炭素含有量が１〜１０重量％、好適に
は２〜５重量％であるのが好ましい。また、トリメチル
シリル基は、トリメチルシリル化剤をシリカにさらに反
応させても、上記炭素含有量がそれ以上増加しない飽和
量に実質的に達するまで、導入されているのが好まし
い。さらに、本発明の疎水性シリカは、単位面積当たり
の表面のＯＨ基数が０．２〜０．５個／ｎｍ²程度であ
るのが一般的である。なお、本発明の疎水性シリカは、
上記トリメチルシリル基により、その表面がほとんど覆
われていると推定される。従って、上記数程度表面にＯ
Ｈ基が残存していたとしても、これは、該トリメチルシ
リル基によりブロックされ、前記した高い疎水化度には
殆ど影響を及ぼしていないと考えられる。

【００１４】また、疎水性シリカを構成するシリカは、
特に制限されるものではなく、通常、湿式法又は乾式法
により得られる無定型シリカが使用される。好適には、
ハロゲノシランの火炎分解や加水分解で製造される乾式
シリカであるのが好ましい。また、これらのシリカは溶
融されたものであっても良い。

【００１５】疎水性シリカの比表面積は、３〜４００ｍ
²／ｇ、好適には３０〜２００ｍ²／ｇであり、見掛比重
が１５〜２００ｇ／ｌ、好適には３５〜１００ｇ／ｌで
あり、平均一次粒子径が５〜５００ｎｍ、好適には７〜
５０ｎｍであるのが好ましい。

【００１６】本発明の疎水性シリカの最大の特徴は、上
記炭素含有量でトリメチルシリル基が表面に導入されて
いる一般的な疎水性シリカが有している値よりも、遥か
に高い疎水化度を有している点にある。なお、本発明に
おいて、疎水化度は、前記した方法、即ち、水−メタノ
ールの比を変えて該溶液に対する粉体の浮遊割合を測定
する方法によって求められる、浮遊量が０％となるメタ
ノール濃度によって評価される。本発明の疎水性シリカ
は、上記方法によって測定される疎水化度が６５容量％
以上、好適には６８容量％以上の高い値を有している。
また、本発明の疎水性シリカは、製造の容易さから、該
疎水化度が７３容量％以下であるのが一般的である。こ
のような高い疎水化度を有する疎水性シリカは、本願発
明によって初めて提供されるものである。

【００１７】このように高い疎水化度を有する疎水性シ
リカは、シリカとトリメチルシリル化剤とを、水蒸気の
存在下、高温及び該疎水化剤の高い圧力下で反応させる
ことにより得られる。具体的には、シリカとトリメチル
シリル化剤とを、水蒸気の存在下、２５０〜３００℃の
反応温度で、且つ該トリメチルシリル化剤の分圧が１．
５〜４ｋｇ／ｃｍ²の条件で反応させる方法により得ら
れる。

【００１８】上記製造方法に使用する原料シリカとして
は、特に制限はないが、通常、比表面積が５〜５００ｍ
²／ｇであり、見掛比重や平均一次粒子径は前記した疎
水性シリカと同様の値を有するものが好適に使用でき
る。また、これらの原料シリカは、吸着水分が０．１〜
１０重量％のものが好ましい。さらに、単位面積当たり
の表面のＯＨ基が、１．０〜５．０個／ｎｍ²、好適に
は１．０〜２．５個／ｎｍ²のものを用いるのが好まし
い。

【００１９】本発明において、上記原料シリカと反応さ
せるトリメチルシリル化剤は、シリカ表面にトリメチル
シリル基を導入可能なものが制限なく使用できる。沸点
が５０〜２５０℃、好適には５０〜１５０℃のものが好
適に使用される。具体的には、（（ＣＨ₃）₃Ｓｉ）₂ＮＲ〔式中、Ｒは水素又は低級アルキル基である〕、又は（ＣＨ₃）₃ＳｉＹ〔式中、Ｙはハロゲン原子、−ＯＨ、−ＯＲ、または−
ＮＲ₂から選ばれる基（Ｒは上記と同じである）であ
る〕で示される化合物が好ましい。ここで、上記化合物
において、Ｒの低級アルキル基は、メチル基、エチル
基、プロピル基等の炭素数１〜５、好適には炭素数１〜
３のもの、特にメチル基が好ましい。また、Ｙのハロゲ
ン原子は、塩素、フッ素、臭素、ヨウ素等が挙げられ、
特に塩素が好ましい。

【００２０】上記（（ＣＨ₃）₃Ｓｉ）₂ＮＲで示される
トリメチルシリル化剤を例示すれば、ヘキサメチルジシ
ラザン、Ｎ−メチル−ヘキサメチルジシラザン、Ｎ−エ
チル−ヘキサメチルジシラザン、ヘキサメチル−Ｎ−プ
ロピルジシラザン等が挙げられ、反応性の良さからヘキ
サメチルジシラザンを用いるのが特に好適である。他
方、（ＣＨ₃）₃ＳｉＹで示されるトリメチルシリル化剤
を例示すれば、トリメチルクロロシラン、トリメチルシ
ラノール、メトキシトリメチルシラン、エトキシトリメ
チルシラン、プロポキシトリメチルシラン、ジメチルア
ミノトリメチルシラン、ジエチルアミノトリメチルシラ
ン等が挙げられ、反応性の良さからトリメチルシラノー
ルを用いるのが特に好適である。

【００２１】ここで、使用する疎水化剤が、上記トリメ
チルシリル化剤以外の、さらに高炭素数のトリアルキル
シリル基を導入させるものの場合、シリカ表面への反応
性が低下し、十分な疎水化度を有するシリカを得ること
が難しくなる。

【００２２】本発明において、上記シリカとトリメチル
シリル化剤との反応は、水蒸気の存在下で実施する。水
蒸気の不存在下で反応を実施した場合は、トリメチルシ
リル化剤の反応性が低下し、得られるシリカの疎水化度
が大幅に低下する。

【００２３】本発明において、上記水蒸気の存在下で
の、シリカとトリメチルシリル化剤との反応は、２５０
〜３００℃、好適には２６０〜２９０℃の反応温度で実
施する。一般には、上記範囲において反応温度が高いほ
ど、得られるシリカの疎水性が高くなる傾向がある。こ
こで、反応温度が２５０℃より低い場合、得られるシリ
カの疎水化度が低下する。また、反応温度が３００℃よ
りも高い場合、トリメチルシリル化剤の分解が生じるよ
うになる。

【００２４】さらに、本発明において、上記シリカとト
リメチルシリル化剤との反応は、雰囲気中におけるトリ
メチルシリル化剤の分圧が１．５〜４ｋｇ／ｃｍ²、好
適には１．５〜３ｋｇ／ｃｍ²なるような加圧条件下で
行う。それにより、前記したような高い疎水化度を有す
る疎水性シリカを製造することが可能になる。このよう
に、高温及びトリメチルシリル化剤の高い分圧下で反応
を行うことにより、ほぼ飽和量（炭素含有量）までトリ
メチルシリル基が導入された従来の疎水性シリカが有し
ているよりも、さらに高い疎水化度を有するシリカが得
られることは驚くべき知見である。

【００２５】ここで、トリメチルシリル化剤の分圧が
１．５ｋｇ／ｃｍ²より小さい場合、得られるシリカの
疎水化度が低下する。また、この分圧が４ｋｇ／ｃｍ²
より大きい場合、トリメチルシリル化剤の結露が発生し
易くなり、且つ混合機内の全圧が高くなり過ぎて、装置
への負荷が大きくなる。

【００２６】また、上記トリメチルシリル化剤との反応
において、水蒸気の分圧は、反応性の高さから０．０２
〜１．５ｋｇ／ｃｍ²、好ましくは０．２〜１ｋｇ／ｃ
ｍ²であるのが好適である。ここで、水蒸気分圧が０．
０２ｋｇ／ｃｍ²より小さい場合、トリメチルシリル化
剤の反応性が低下する傾向がある。また、この分圧が
１．５ｋｇ／ｃｍ²より大きい場合、反応器内の全圧が
高くなり過ぎて、装置への負荷が大きくなる。

【００２７】さらに、本発明において、上記反応は、前
記疎水化剤の気相と水蒸気のみからなる雰囲気で反応を
実施しても良いが、通常は、これらを、窒素、ヘリウム
等の不活性ガスにより希釈して反応に供するのが一般的
である。その場合、反応雰囲気の全圧は、２．５〜１０
ｋｇ／ｃｍ²、好適には２．５〜５ｋｇ／ｃｍ²であるの
が一般的である。

【００２８】また、トリメチルシリル化剤との反応性を
より高めるため、必要に応じてアンモニア、メチルアミ
ン、ジメチルアミン等の塩基性ガス、好適にはアンモニ
アを、反応雰囲気中に共存させても良い。こうした塩基
性ガスの分圧は、０．０１〜１ｋｇ／ｃｍ²であるのが
好適である。

【００２９】反応は、前記反応温度及びトリメチルシリ
ル化剤の気相の分圧の要件が、各々満足されていれば如
何なる形式で実施されても良く、予め、上記要件が満足
されるようにトリメチルシリル化剤と水とを、シリカが
充填された反応器に仕込み昇温昇圧してから反応を実施
しても良いし、上記要件が満足されるようにトリメチル
シリル化剤と水とを、シリカが充填された反応器に連続
的または間欠的に供給しながら反応を実施しても良い。

【００３０】なお、上記反応温度及びトリメチルシリル
化剤の分圧の要件は、その反応期間の実質的全域に渡っ
て満足されていれば、該要件を外れる期間が短期間あっ
ても、本発明では許容される。好適には、反応開始から
炭素含有量がそれ以上増加しない飽和状態にほぼ達する
までの反応期間において、その８０％以上、好適には９
０以上が上記条件で反応が行われるのが好ましい。特
に、前記炭素含有量の飽和量の５０％まで反応が進んだ
段階から該飽和量にほぼ達する段階までの期間は、上記
条件で反応を行うのが好適である。また、炭素含有量で
みれば反応はほぼ飽和量に達するまで進行しているよう
にみえても、さらに上記条件での処理を継続すれば、ご
く少量ながらトリメチルシリル化剤はシリカ表面にまだ
反応すると考えられ、これが疎水化度のさらなる向上に
効果的であるため、該炭素含有量はほぼ飽和量に達っし
た後も１０〜６０分程度は、上記条件で反応を継続する
のが好ましい。全反応時間は、通常、１５〜１２０分、
好適には２０〜９０分から採択される。

【００３１】上記反応において反応器は、通常、オート
クレーブ等の加圧できる密閉容器を用いて反応を行うの
が好適である。また、シリカは、固定床式で反応させて
も良いが、好適には撹拌により流動させた状態で反応さ
せるのが好ましい。反応終了後、過剰の処理剤及び副生
物は、反応器を開放脱圧して、チッソガス洗浄するのが
好ましい。

【００３２】

【発明の効果】本発明の疎水性シリカは、トリメチルシ
リル基が表面に化学結合することにより固定化されてお
り安定性に優れている。そして、その疎水化度は、従来
にない極めて高い値を有している。このように高い疎水
化度が得られる原因は定かではないが、シリカとトリメ
チルシリル化剤とを、前記の如く高温及び該疎水化剤の
高い分圧下で反応させることにより、トリメチルシリル
基が規則性良く配列してシリカ表面に結合するようにな
り、その導入量（炭素含有量）はほぼ同程度であって
も、シリカ表面を疎水性基でブロックする効果が大きく
向上するためではないかと推定される。

【００３３】このように高い疎水化度を有する本発明の
疎水性シリカは、液体樹脂やゴム等、特にエポキシ樹脂
やシリコーンゴムの増粘剤や補強充填剤として有用であ
り、分散性がよく、吸湿性の低さから保存時の粘度の経
時安定性が改善される。また、粉体塗料や電子写真用ト
ナー等の粉体系においても、混合することにより、当該
粉体の流動性の改善、固結防止、帯電調整等に優れた効
果を発揮する。

【００３４】

【実施例】以下に実施例及び比較例を挙げて本発明を具
体的に説明するが、本発明は、これらの実施例に限定さ
れるものではない。なお、以下の実施例及び比較例にお
ける各種の物性の測定は以下の方法により実施した。

【００３５】１）炭素含有量疎水性シリカを、１１００℃の温度下、酸素雰囲気中で
シリカ表面に化学結合する疎水性基をＣＯ₂に熱分解し
た後、微量炭素分析装置（Horiba製「EMIAー110」）によ
り、シリカの含有する炭素含有量を求めた。なお、疎水
化反応の再現性からみた炭素含有量の有効数字は０．１
重量％である。

【００３６】２）疎水化度試料０．５ｇに、メタノールと水の混合溶液（２５℃）
１００ｍｌを加え、シエーカーで３０分間振り混ぜた後
１晩静置し該溶液に対する粉体の浮遊割合を測定する。
水−メタノールの比を変えて上記操作を行い、浮遊量が
０％となるメタノール濃度(容量％)を疎水化度として求
めた。

【００３７】３）増粘作用疎水性シリカのエポキシ樹脂に対する増粘作用を調べ
た。エポキシ樹脂「エピコートＲ８１９」（油化シエル
社製）１８０ｇに、疎水性シリカ７．２ｇを３０００回
転／分で２分間、デイソルバーを用いて分散させ、分散
直後の初期粘度と３０日後の粘度を、２５℃でブルック
フイールド粘度計（スピンドル４）により測定した。

【００３８】実施例１〜３２リットルの撹拌機付きオートクレーブからなる反応器
に５０ｇの乾式シリカ「レオロシールＱＳ３０」（比表
面積３００ｍ²／ｇ、吸着水分０．４重量％、表面ＯＨ
数１．５個／ｎｍ²、見掛比重５０ｇ／ｌ、平均一次粒
子径７ｎｍ、（株）トクヤマ製）を装入し、撹拌による
流動化状態において、２６０℃、２７５℃及び２９０℃
に加熱した。反応器内部を窒素ガスで置換した後、水を
水蒸気分圧が０．２ｋｇ／ｃｍ²となるように供給（窒
素ガスの分圧０．８ｋｇ／ｃｍ²）して反応器を密閉
し、さらにヘキサメチルジシラザンを分圧が２．０ｋｇ
／ｃｍ²になるように内部に噴霧し、シリカの流動化状
態でトリメチルシリル化反応を開始した。なお、上記反
応において、反応開始当初の雰囲気の全圧は３．０ｋｇ
／ｃｍ²であり、水蒸気及びヘキサメチルジシラザンの
分圧は各々表１に示した値であった。この反応は、反応
温度が２６０℃の場合反応開始５分で、反応温度が２７
５℃の場合反応開始３分で、反応温度が２９０℃の場合
反応開始２分で、それぞれシリカの炭素含有量がそれ以
上ほとんど増加しない飽和量にほぼ達した。

【００３９】上記反応を６０分間継続した後、反応を終
了した。反応終了時のヘキサメチルジシラザンの分圧は
１．６ｋｇ／ｃｍ²であり、水蒸気の分圧及び全圧はほ
とんど変化なかった。

【００４０】反応終了後、疎水性シリカからの過剰のヘ
キサメチルジシラザン及び副生物の除去は、オートクレ
ーブを開放脱圧した後、チッソ気流による洗浄を行うこ
とにより実施した。得られた疎水性シリカの物性を測定
し表１に示した。

【００４１】

【表１】

【００４２】実施例４〜７実施例２において、全圧、水蒸気分圧、ヘキサメチルジ
シラザンの分圧、及び反応時間を表２に示す条件に変え
て（反応開始当初の雰囲気の窒素ガスの分圧は、全圧か
ら水蒸気及びヘキサメチルジシラザンの分圧を除いた
値）、実施例２と同様に実施した。各反応は、反応開始
３分で、シリカの炭素含有量がそれ以上増加しない飽和
量にほぼ達した。

【００４３】得られた疎水性シリカの物性を測定し表２
に示した。

【００４４】

【表２】

【００４５】実施例８実施例２において、トリメチルシリル化剤としてトリメ
チルシラノールを用い、水蒸気の供給時に反応器にアン
モニアを０．２ｋｇ／ｃｍ²の分圧になるように供給し
て反応器を密閉（窒素ガスの分圧０．６ｋｇ／ｃｍ²）
する以外は、実施例２と同様に実施した。反応開始１０
分で、シリカの炭素含有量がそれ以上増加しない飽和量
にほぼ達した。

【００４６】得られた疎水性シリカの物性を測定し表３
に示した。

【００４７】

【表３】

【００４８】比較例１実施例２において、反応温度を２００℃に変えて、実施
例２と同様に実施した。この反応は、反応開始３０分
で、シリカの炭素含有量がそれ以上増加しない飽和量に
達した。

【００４９】得られた疎水性シリカの物性を測定し表４
に示した。

【００５０】

【表４】

【００５１】比較例２実施例２において、ヘキサメチルジシラザンの気相の分
圧を１．０ｋｇ／ｃｍ²に変えて反応開始当初の雰囲気
の全圧を２．０ｋｇ／ｃｍ²とする以外は、実施例１と
同様に実施した。この反応は、反応開始３分で、シリカ
の炭素含有量がそれ以上増加しない飽和量に達した。

【００５２】得られた疎水性シリカの物性を測定し表５
に示した。

【００５３】

【表５】

【００５４】実施例９，１０実施例２において、乾式シリカとして「レオロシールＱ
Ｓ１０」（比表面積１３０ｍ²／ｇ、吸着水分０．３重
量％、表面ＯＨ数１．５個／ｎｍ²、見掛比重５０ｇ／
ｌ、平均一次粒子径１６ｎｍ、（株）トクヤマ製）及び
「レオロシールＱＳ４０」（比表面積３８０ｍ²／ｇ、
吸着水分０．５重量％、表面ＯＨ数１．５個／ｎｍ²、
見掛比重５０ｇ／ｌ、平均一次粒子径７ｎｍ、（株）ト
クヤマ製）を用いて、実施例２と同様に実施した。「レ
オロシールＱＳ１０」を用いた反応は、反応開始３分
で、シリカの炭素含有量がそれ以上増加しない飽和量に
ほぼ達した。いずれの反応も、反応開始３分で、シリカ
の炭素含有量がそれ以上増加しない飽和量にほぼ達し
た。

【００５５】得られた疎水性シリカの物性を測定し表６
に示した。

【００５６】

【表６】

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】トリメチルシリル基が表面に化学結合され
てなる疎水性シリカであって、水−メタノールの比を変
えて該溶液に対する粉体の浮遊割合を測定する方法によ
って求められる浮遊量が０％となるメタノール濃度が６
５容量％以上である疎水性シリカ。
【請求項２】シリカとトリメチルシリル化剤とを、水蒸
気の存在下、２５０〜３００℃の反応温度で、且つ該ト
リメチルシリル化剤の分圧が１．５〜４ｋｇ／ｃｍ²の
条件で反応させることを特徴とする疎水性シリカの製造
方法。
【請求項３】トリメチルシリル化剤が、（（ＣＨ₃）₃Ｓｉ）₂ＮＲ〔式中、Ｒは水素又は低級アルキル基である〕、又は（ＣＨ₃）₃ＳｉＹ〔式中、Ｙはハロゲン原子、−ＯＨ、−ＯＲ、または−
ＮＲ₂から選ばれる基（Ｒは上記と同じである）であ
る〕で示される化合物である請求項２記載の疎水性シリ
カの製造方法。
【請求項４】トリメチルシリル化剤が、トリメチルシラ
ノールまたはヘキサメチルジシラザンからなる請求項３
記載の疎水性シリカの製造方法。