JP2007129182A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2007129182A
JP2007129182A JP2006115959A JP2006115959A JP2007129182A JP 2007129182 A JP2007129182 A JP 2007129182A JP 2006115959 A JP2006115959 A JP 2006115959A JP 2006115959 A JP2006115959 A JP 2006115959A JP 2007129182 A JP2007129182 A JP 2007129182A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
chip
lead
resin
internal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2006115959A
Other languages
English (en)
Inventor
Isao Ozawa
勲 小澤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP2006115959A priority Critical patent/JP2007129182A/ja
Priority to KR1020060041841A priority patent/KR100810324B1/ko
Priority to US11/430,965 priority patent/US7919837B2/en
Priority to CNB2006100817751A priority patent/CN100440498C/zh
Publication of JP2007129182A publication Critical patent/JP2007129182A/ja
Priority to US13/029,466 priority patent/US8970019B2/en
Priority to US14/617,637 priority patent/US10366942B2/en
Priority to US16/438,826 priority patent/US10872844B2/en
Priority to US16/952,968 priority patent/US11424176B2/en
Priority to US17/864,064 priority patent/US11854946B2/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/495Lead-frames or other flat leads
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/495Lead-frames or other flat leads
    • H01L23/49503Lead-frames or other flat leads characterised by the die pad
    • H01L23/4951Chip-on-leads or leads-on-chip techniques, i.e. inner lead fingers being used as die pad
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/495Lead-frames or other flat leads
    • H01L23/49575Assemblies of semiconductor devices on lead frames
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L24/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/48247Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/48257Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a die pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • H01L2224/491Disposition
    • H01L2224/4912Layout
    • H01L2224/49171Fan-out arrangements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2225/00Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2225/03All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
    • H01L2225/04All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
    • H01L2225/065All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L2225/06503Stacked arrangements of devices
    • H01L2225/06555Geometry of the stack, e.g. form of the devices, geometry to facilitate stacking
    • H01L2225/06562Geometry of the stack, e.g. form of the devices, geometry to facilitate stacking at least one device in the stack being rotated or offset
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L24/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/00014Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01002Helium [He]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01004Beryllium [Be]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01005Boron [B]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01006Carbon [C]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01019Potassium [K]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01023Vanadium [V]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01033Arsenic [As]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01037Rubidium [Rb]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01058Cerium [Ce]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01075Rhenium [Re]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01082Lead [Pb]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/06Polymers
    • H01L2924/078Adhesive characteristics other than chemical
    • H01L2924/07802Adhesive characteristics other than chemical not being an ohmic electrical conductor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/12Passive devices, e.g. 2 terminal devices
    • H01L2924/1204Optical Diode
    • H01L2924/12042LASER
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/14Integrated circuits
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151Die mounting substrate
    • H01L2924/153Connection portion
    • H01L2924/1532Connection portion the connection portion being formed on the die mounting surface of the substrate
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/301Electrical effects
    • H01L2924/3025Electromagnetic shielding

Abstract

【課題】本発明は、樹脂封止型の半導体パッケージ装置において、樹脂封止を行う際に、樹脂による成形性を安定化させることができるようにする。
【解決手段】たとえば、ボンディングパッド群が一辺に設けられたチップ10をリードフレーム11上に搭載し、樹脂15で封止した半導体パッケージ装置において、リードフレーム11は一対の内部リード群11a,11bを有し、チップ10は裏面の有機系絶縁膜12を介して、長い方の内部リード11b群および吊りピン部11f上に搭載されている。吊りピン部11fは、長い方の内部リード11bの、最も外側の内部リードに接続されるとともに、チップ10の裏面に固着されて、チップ10を安定にホールドする構成となっている。
【選択図】 図3

Description

本発明は、半導体装置に関するもので、特に、リードフレーム上に半導体チップを搭載し、そのチップの周囲を樹脂で封止したパッケージ構造を有する半導体パッケージ装置に関する。
近年、パッドのすべてを半導体チップの所定の一辺に沿って設けた半導体チップを用いたボールグリッドアレイ(BGA)構造の半導体パッケージ装置が考えられている(たとえば、特許文献1参照)。このパッケージ装置においては、パッドが一辺に設けられたチップを下層チップの辺端部に積層することで、チップサイズを縮小しつつ、ワイヤボンディングを容易にしている。
しかしながら、このパッドが一辺に設けられた半導体チップをTSOP(Thin Small Outline Package)構造の半導体パッケージ装置に用いようとすると、以下に述べるような問題がある。
TSOP構造を有する半導体パッケージ装置では、チップがリードフレームのダイパッド部上に絶縁性接着材を介して固着され、リードフレームの内部リード群とチップ上のパッド群とがそれぞれボンディングワイヤで接続される。パッドが一辺に設けられた半導体チップを用いると、パッド群に近い内部リード群とパッド群から遠い内部リード群とが生じ、パッド群から遠い側の内部リード群とパッド群とをボンディングワイヤで接続しようとすると、ボンディングワイヤが非常に長くなる。その結果、この後の樹脂封止の工程で樹脂によりワイヤが流され易くなり、隣り合うワイヤ同士が電気的に短絡し易くなる。
なお、特許文献2には、主面の一辺にボンディングパッドが形成された半導体チップと、それと同一の半導体チップとが、互いに同一方向を向いて重ねて基板上に積層され、ボンディングパッドが互いに近接配置された半導体装置が開示されている。
特開2001−102515号公報(第4−5頁、第1図) 特開2001−217383号公報
本発明は、上記の問題点を解決すべくなされたもので、リードフレーム上に搭載された、パッドが一辺に設けられた半導体チップの、内部リードとパッドとのワイヤボンディング接続および樹脂封止を支障なく行い得る半導体装置を提供することを目的とする。
本願発明の一態様によれば、素子形成面側のチップ一辺に沿って配置されたボンディングパッド群を有する半導体チップと、各先端部が前記半導体チップの前記ボンディングパッド群の一部と対向するように配置された第1の内部リード群、および、前記半導体チップの非素子形成面側が固着されるチップ搭載部を有し、各先端部が前記第1の内部リード群の各先端部と前記半導体チップとの間に位置するように配置された第2の内部リード群を含むリードフレームと、前記第1の内部リード群と前記ボンディングパッド群の一部のボンディングパッドとを接続する第1のボンディングワイヤ群と、前記第2の内部リード群の先端部と前記ボンディングパッド群の一部のボンディングパッドとを接続する第2のボンディングワイヤ群と、前記半導体チップの非素子形成面に固着された吊りピン部と、前記吊りピン部、および、前記第1,第2の内部リード群と前記第1,第2のボンディングワイヤ群との接続部を含んで、前記半導体チップの周囲を封止する樹脂パッケージとを具備したことを特徴とする半導体装置が提供される。
上記の構成により、リードフレーム上に搭載された、パッドが一辺に設けられた半導体チップの、内部リードとパッドとのワイヤボンディング接続および樹脂封止を支障なく行い得る半導体装置を提供できる。
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。ただし、図面は模式的なものであり、寸法の比率などは現実のものとは異なることに留意すべきである。また、図面の相互間においても、互いの寸法の関係や比率が異なる部分が含まれていることは勿論である。
[第1の実施形態]
図1乃至図3は、本発明の第1の実施形態にしたがったTSOP構造の半導体装置(半導体パッケージ装置)の基本構成を示すものである。なお、図1は半導体パッケージ装置の断面図であり、図2は半導体パッケージ装置の内部を該装置の裏面側より透過して示す平面(下面)図であり、図3は半導体パッケージ装置の内部を該装置の表面側より透過して示す平面(上面)図である。
図1乃至図3において、リードフレーム11は、それぞれ複数の外部リードが配列されてなる外部リード11c,11d群と、この外部リード11c,11d群からそれぞれ内側(互いに対向する方向)に向かって延長された、それぞれ複数の内部リードが配列されてなる内部リード11a,11b群と、吊りピン部11fとを有する。ここで、2つの内部リード11a,11b群は、それぞれの長さが異なるように形成されている。たとえば、2つの内部リード11a,11b群のうち、長い方の内部リード11b群の一部(ほぼ中央部)は、半導体チップ10を搭載するためのダイリード部(チップ搭載部)として用いられる。この場合、内部リード11a,11b群は、いずれもディプレスされておらず、内部リード11a,11b群の高さがほぼ同一平面上に位置するように配置されている。
また、本実施形態の場合、吊りピン部11fは、リードフレーム11の一部である、たとえば、長い方の内部リード11b群の、最も外側に位置する内部リードにそれぞれ接続されている。
半導体チップ10は、たとえば図4(a)および(b)に示すように、素子形成面側のチップ一辺に沿って集中してボンディングパッド13群が配置され、かつ、その裏面(非素子形成面)側に、20〜40μm厚程度の薄いフィルム(シート)状の有機系絶縁膜12が付着されている。この有機系絶縁膜12は、たとえばポリイミド系エポキシ樹脂からなる。
このチップ10は、長い方の内部リード11b群のダイリード部および吊りピン部11f上に、有機系絶縁膜12および通常のマウント剤を介して搭載されている。この場合、チップ10は、ボンディングパッド13群が他方の内部リード11a群、つまり、チップ10を搭載していない短い方の内部リード11a群に近い側となる向きに配置されている。換言すれば、短い方の内部リード11a群の先端部がボンディングパッド13群と対向して配置されるとともに、長い方の内部リード11b群がチップ10の裏面を通過し、その先端部が、チップ10と短い方の内部リード11a群との間に位置するまで延出されている。
有機系絶縁膜12は、チップ10の裏面とダイリード部との絶縁性を高めるために用いており、ウェハからチップ10を個別に分離するスクライブ(ダイシング)工程に際して、ウェハの裏面に貼り付けられたフィルム状の絶縁性接着剤を流用できる。なお、有機系絶縁膜12は、半導体チップ10を積層しない場合には配置しないこともある。
そして、チップ10を搭載していない短い方の内部リード11a群、つまり、チップ10のボンディングパッド13群に遠い側の内部リード11a群とボンディングパッド13群の一部のボンディングパッドとの間は、第1のボンディングワイヤ141群により接続されている。また、チップ10を搭載している長い方の内部リード11b群の先端部とボンディングパッド13群の一部のボンディングパッドとの間は、第2のボンディングワイヤ142群により接続されている。
樹脂15は、リードフレーム11の内部リード11a,11b群、吊りピン部11f、チップ10およびボンディングワイヤ141,142群を封止し、樹脂パッケージを形成している。この樹脂パッケージは、リードフレーム11のチップ搭載面(半導体パッケージ装置の裏面)側の封止部分が、チップ非搭載面(半導体パッケージ装置の表面)側の封止部分よりも厚くなるように形成されている。これにより、チップ10は、樹脂パッケージの厚み方向のほぼ中央部付近の位置で封止されている状態になっている。
そして、内部リード11a,11b群にそれぞれ連なる部分が、樹脂パッケージの少なくとも対向する一対の辺から外部へ突出して外部リード11c,11d群(リードフレーム11の一部)となっている。換言すれば、外部リード11c,11d群は、樹脂パッケージの厚み方向の中央部付近の位置より厚み方向へずれた位置から外部へ突出している。この場合、外部リード11c,11d群は、半導体チップ10の側面に沿うように、リードフレーム11のチップ搭載面側の方向へ折り曲げられてなり、さらに、その先端側は、たとえば樹脂パッケージから離れる方向へ折り曲げられて外部端子とされている。換言すれば、チップ10は、フェイスダウンの状態で樹脂パッケージ内に封止されている。
図1乃至図3に示した構成の半導体パッケージ装置によれば、長い方の内部リード11b群上にチップ10を接着固定(固着)して、内部リード11a,11b群とチップ10のボンディングパッド13群とをボンディングワイヤ141,142群で接続する、チップオンリード(COL)構造を有する。リードフレーム11の内部リード11a,11b群はほぼ同一平面上に配置されており、内部リード11a,11b群はディプレスされていない。リードフレーム11がディプレスされていない分、マウントやボンディングなどの製造工程がしやすくなる。これは、ディプレスされたフレームの場合、ディプレス量のバラツキが上述の製造工程に影響を与えるためである。また、フレームの製造工程において、ディプレスがある場合は、ディプレスする工程が必要になる。そのため、工程が複雑になり、フレーム製造歩留まりにも悪影響を与える。
特に、チップ10の非素子形成面に対し、さらに、リードフレーム11の吊りピン部11fを固着させるようにしているので、樹脂封止を行う際に、樹脂15による成形性を安定化させることが可能となり、内部リード11b群のみでチップ10を固定させる場合に比べ、外観不良の発生を改善し得る。
しかも、長い方の内部リード11b群上の、長さ方向のほぼ中央部のダイリード部上にチップ10を固着し、チップ10のボンディングパッド13群をそれに近い一対の内部リード11a,11b群の先端部に対して、つまり、チップ10のボンディングパッド13群側の片側でワイヤボンディング接続を行っているので、ボンディングワイヤ141,142群が短くて済む。その結果、ワイヤボンディング工程後に樹脂封止を行う際に、ボンディングワイヤが流れる、あるいは、隣り合うワイヤ同士が電気的に短絡する恐れがなくなり、信頼性が向上する。
また、樹脂パッケージは、リードフレーム11のチップ搭載面側の封止部分がチップ非搭載面側の封止部分よりも厚くなるように形成されているので、樹脂パッケージの厚み方向のほぼ中央部付近の位置でチップ10を封止することが可能になっている。
また、外部リード11c,11d群は樹脂パッケージの側面部から外部へ突出し、半導体チップ10の側面に沿うように、リードフレーム11のチップ搭載面側の方向へ折り曲げられており、チップ10がフェイスダウンの状態で樹脂パッケージ内に封止されるようになっている。したがって、製品の組み立て工程において、パッケージ形成後に樹脂パッケージの上面側、つまりリードフレーム11のチップ非搭載面側の樹脂パッケージ面にレーザ光の照射によるマーキングを行う際は、レーザ光とチップ10との間にリードフレーム11の内部リード11b群が介在する。このため、レーザ光がモールド用の樹脂15を透過してチップ10に到達し、チップ10にダメージを与える、あるいは、レーザ光がボンディングワイヤ141,142群を透過して断線不良が生じる、という悪影響が軽減される。
また、本実施形態に係るチップ10は、素子形成面側のチップ一辺に沿って集中してボンディングパッド13群が配置されたチップレイアウトを有するので、チップサイズを小さくできる。すなわち、NAND型フラッシュメモリなどの大容量のメモリチップでは、たとえば、周辺回路のレイアウトの仕方で回路結線が合理化され、面積が変わる。本実施形態のチップ10のように、チップ一辺に沿って集中して配置された片側パッド構成の場合、パッドと周辺回路との間の配線の引き回しが合理化されるので、その分だけチップ面積が小さくなる。なお、片側パッド構成のNAND型フラッシュメモリのレイアウトの一例については後述する。したがって、本実施形態は、低価格の積層パッケージ技術を要求される、たとえば大容量メモリチップであるNAND型フラッシュメモリなどに使用して好適である。
また、リードフレーム11の内部リード11a,11b群は、外部信号または電源電位、接地電位が与えられるので、チップ10とは絶縁されていなければならない。そこで、絶縁タイプのペースト状のマウント剤もしくはフィルム状のマウント剤とチップ裏面の有機系絶縁膜12とにより、チップ10とリードフレーム11の内部リード11b群との電気的絶縁性を高め、信頼性を確保することができる。
また、チップ10は、裏面の薄い有機系絶縁膜12によりダイリード部上に接着されるので、TSOP構造に適しており、チップ上面(素子形成面)の高さと内部リード11a,11b群の先端部の高さとの段差を小さくし、ワイヤボンディング工程を容易に実施することが可能になる。また、パッケージ内で、リードフレーム11の内部リード11b群上に搭載されたチップ10の一辺方向にボンディングワイヤ141,142群が集約されているので、より大きなチップを搭載することが可能になる。
図5は、上記した半導体チップ10の、素子形成面側に配置されたボンディングパッド13群にそれぞれ割り付けられた外部端子の一例について示すものである。ここでは、半導体パッケージ装置を、メモリ集積回路装置、たとえばNAND型フラッシュメモリとした場合について説明する。なお、図5には、図4に示した半導体チップ10の、ボンディングパット13群の左右の位置関係を反転させた場合を例に示している。
本実施形態の場合、ボンディングパッド13群としては、18個のボンディングパッドが用意されている。各ボンディングパッドには、たとえば、VCC,VSS,I/O−0〜I/O−7,RB,RE,CE,CLE,ALE,WE,WPの外部端子がそれぞれ割り付けられている。特に、VSSには2つのボンディングパッドが割り付けられている。
ここで、外部端子VCCが割り付けられたボンディングパッドは、電源電位(VCC)を供給するためのVCC入力用のパッドである。外部端子VSSが割り付けられたボンディングパッドは、接地電位(VSS)を供給するためのVSS入力用のパッドである。外部端子I/O−0〜I/O−7が割り付けられたボンディングパッドは、アドレス、コマンド、および、入出力データを入出力するための入出力用のパッドである。外部端子RBが割り付けられたボンディングパッドは、装置の内部の動作状態を外部に知らしめるための出力用パッドである。外部端子REが割り付けられたボンディングパッドは、データをシリアル出力させるための出力用のパッドである。外部端子CEが割り付けられたボンディングパッドは、デバイス選択用の信号を取り込むための入力用のパッドである。外部端子CLEが割り付けられたボンディングパッドは、装置の内部のコマンドレジスタ(図示していない)への動作コマンドの取り込みをコントロールするための信号が入力されるパッドである。外部端子ALEが割り付けられたボンディングパッドは、装置の内部のアドレスレジスタおよびデータレジスタ(いずれも図示していない)へのアドレスデータおよび入力データの取り込みをコントロールするための信号が入力されるパッドである。外部信号WEが割り付けられたボンディングパッドは、I/O端子から各データを装置の内部に取り込むための信号が入力されるパッドである。外部端子WPが割り付けられたボンディングパッドは、書き込み・消去動作を強制的に禁止させるための信号が入力されるパッドである。
<適用例1のリードフレーム>
図6は、本発明の第1の実施形態にしたがった半導体パッケージ装置に適用される、リードフレームの一例を具体的に示すものである。ここでは、半導体パッケージ装置を、メモリ集積回路装置、たとえばNAND型フラッシュメモリとした場合について説明する。なお、図6には、第1の実施形態で示したリードフレーム11の内部リード11a,11b群の左右の位置関係を反転させたリードフレーム11Aを例に示している。また、図中に示すVCC,VSS,I/O−0〜I/O−7,RB,RE,CE,CLE,ALE,WE,WPは、対応する外部端子の一例である。ちなみに、図中にN.Cで示す内部リードは未使用(非接触)となっている。
図6に示すリードフレーム11Aは、長い方の内部リード11b群の各先端部が、内部リード配列の幅方向の中央寄りに集中して配列され、その両側(幅方向の外寄り)に、短い方の内部リード11a群の各先端部が配列されている。この場合、短い方の内部リード11a群の各内部リードは、リードフレーム11Aの製造上、急激に曲げるような引き回しが困難であるので、上述したように外寄りに配置することが好ましい。長い方の内部リード11b群の各内部リードは、引き回しの自由度が高いので、上述したように中央寄りに配置している。
そして、8ビット分の入出力用の外部端子I/O−0〜I/O−7に対応する各内部リードは、短い方の内部リード11a群内に属しており、近くのパッドとの間でワイヤボンディング接続されるようになっている。
なお、このリードフレーム11Aの場合は、内部リード11a,11b群よりも幅広の、最外部のリードが吊りピン部11fに接続されることによって、外側のフレーム本体に支持されている。
<適用例2のリードフレーム>
図7は、本発明の第1の実施形態にしたがった半導体パッケージ装置に適用される、リードフレームの他の一例を具体的に示すものである。ここでは、半導体パッケージ装置を、メモリ集積回路装置、たとえばNAND型フラッシュメモリとした場合について説明する。なお、図7には、第1の実施形態で示したリードフレーム11の内部リード11a,11b群の左右の位置関係を反転させたリードフレーム11Bを例に示している。また、図中に示すVCC,VSS,I/O−0〜I/O−7,RB,RE,CE,CLE,ALE,WE,WPは、対応する外部端子の一例である。ちなみに、図中にN.Cで示す内部リードは未使用(非接触)となっている。
図7に示すリードフレーム11Bにおけるリードパターンは、一対の内部リード11a,11b群が幅方向に二分された各区分において、長い方の内部リード11b群の各先端部が内部リード配列の幅方向の中央寄りに集中して配列され、その両側(幅方向の外寄り)に、短い方の内部リード11a群の各先端部が配列されている。
そして、8ビット分の入出力用の外部端子I/O−0〜I/O−7に対応する各内部リードは、パッド13群に遠い側の内部リード11a群内に属しており、近くのパッドとの間でワイヤボンディング接続されるようになっている。
なお、このリードフレーム11Bの場合は、内部リード11a,11b群よりも幅広の、最外部のリードがそれぞれ吊りピン部11fに接続されることによって、外側のフレーム本体に支持されている。
第1の実施形態におけるリードフレーム11としては、たとえば図6あるいは図7に示したように、内部リード11a,11b群の最外部近辺のリード幅を太くし、フレーム側面部の吊りピン部11fと結合した状態、つまり、吊りピン部11f同士をパッケージ内部で繋いで大きくした状態とし、チップ搭載時にチップ10の支持面積を大きくしておくことが好ましい。これにより、チップ10が片側の内部リード11b群のみによって支えられている構造に比べ、チップ搭載時の内部リード11b群の先端部の撓みを抑え、チップ10の重みによる内部リード11b群の変形を防止することができる。それ故に、樹脂封止を行う際の、樹脂15による成形性を高めることが可能となり、内部リード11b群のみでチップ10を固定させる場合に比べ、外観不良の発生を抑制できる。
図8は、本発明の第1の実施形態にしたがった半導体パッケージ装置に適用される、半導体チップの具体例を示すものである。ここでは、片側パッド構成のNAND型フラッシュメモリがモノシリックに集積された半導体チップを例に、そのレイアウトの一例について説明する。
図8に示す半導体チップ10において、10aはセルアレイ、10bはビット線選択回路、10cはセンスアンプ及びラッチ回路、10dはカラムデコーダ、10eはドライバ、10fはロウデコーダ、10gは周辺回路の配置領域である。
セルアレイ10aは、複数のメモリセルをマトリクス状に配置しており、マトリクスの行方向に走行する複数のワード線および選択ゲート線と、マトリクスの列方向に走行する複数のビット線と、奇数番目のビット線間および偶数番目のビット線間をシールドする電位を供給するシールド電源(図示していない)とを有する。
ビット線選択回路10bは、セルアレイ10aの列方向に隣接して配置されている。ビット線選択回路10bの、セルアレイ10aとは反対側の列方向に隣接して、センスアンプ及びラッチ回路10cとカラムデコーダ10dとが配置されている。セルアレイ10aの行方向に隣接して、ロウデコーダ10fが配置されている。ロウデコーダ10fの列方向に隣接し、かつ、ビット線選択回路10b、センスアンプ及びラッチ回路10c、および、カラムデコーダ10dの行方向に隣接して、ドライバ10eが配置されている。ドライバ10eおよびカラムデコーダ10dの列方向に隣接して、周辺回路10gが配置されている。
このように、ビット線選択回路10bを駆動するドライバ10eが一箇所に集約されるので、集積度が向上し、回路規模の削減が可能となる。
センスアンプ及びラッチ回路10cは、メモリセルからビット線を介して読み出されたデータを増幅し、保持する。
ビット線選択回路10bは、奇数番目のビット線がセンスアンプ及びラッチ回路10cに導通するときは、偶数番目のビット線をシールド電源に導通させ、偶数番目のビット線がセンスアンプ及びラッチ回路10cに導通するときは、奇数番目のビット線をシールド電源に導通させる。このように、ビット線選択回路10bは、ビット線を選択してセンスアンプ及びラッチ回路10cに接続する機能と、非選択のビット線をシールド電源に接続する機能とを兼ね備えている。このため、それぞれの機能を有する回路を2つに分けて配置する場合に比較して、集積度が向上し、回路規模の削減が可能となる。
ここで、NAND型フラッシュメモリにおける読み出し動作について概略的に説明する。ロウデコーダ10fは、周辺回路10gのアドレスバッファからのブロックアドレス信号およびロウアドレス信号にもとづいて、セルアレイ10aの複数のブロック(図示していない)のうちの1つと、複数のワード線(図示していない)のうちの一本を選択する。ドライバ10eは、ロウデコーダ10fを介して、選択されたブロック内の選択ゲートに電位Vsg(たとえば、3.5V)を与え、非選択のブロック内の選択ゲートに接地電位GNDを与える。さらに、ドライバ10eは、読み出し動作時には、ロウデコーダ10fを介して、選択されたワード線に接地電位GNDを与え、非選択のワード線に電圧Vs(たとえば、3.5V)を与える。
カラムデコーダ10dは、周辺回路10gのアドレスバッファからのカラムアドレス信号にもとづいて、複数のビット線(図示していない)のうちの一本を選択する。センスアンプ及びラッチ回路10cは、選択されたビット線から読み出され、ビット線選択回路10bを介して入力されたデータを増幅して保持する。センスアンプ及びラッチ回路10cに保持されたデータは、カラムデコーダ10dを介して、周辺回路10gのI/Oバッファに出力される。
[第2の実施形態]
図9は、本発明の第2の実施形態にしたがったTSOP構造の半導体装置(半導体パッケージ装置)の構成を示すものである。図9は、半導体パッケージ装置の内部を表面側より透過して示す平面(上面)図であり、第1の実施形態に示した半導体パッケージ装置と同一部分には同一符号を付し、詳しい説明は割愛する。
本実施形態の半導体パッケージ装置の場合、吊りピン部11fが、長い方の内部リード11b群の、最も外側に位置する内部リードに接続されることなく、内部リードとは独立して半導体チップ10の裏面に接着されている点で、第1の実施形態の場合と異なっている。
このように、第1の実施形態の場合とは構成が異なるものの、この第2の実施形態の構成によっても、樹脂封止を行う際に、樹脂15による成形性を安定化させることが可能であり、内部リード11b群のみでチップ10を固定させる場合に比べ、外観不良の発生を改善し得る。
なお、この第2の実施形態にしたがった半導体パッケージ装置を、たとえばNAND型フラッシュメモリに適用する場合においては、図6および図7に示したようなリードフレーム11A,11Bを採用することもできる。
[第3の実施形態]
図10は、本発明の第3の実施形態にしたがったTSOP構造の半導体装置(半導体パッケージ装置)の構成を示すものである。
図10に断面構造を示す半導体パッケージ装置は、前述した第1の実施形態の半導体パッケージ装置と比べて、同じ種類および/または同じサイズのパッドが一辺に設けられた2つの半導体チップ10,102を、それぞれのパッド配列部が近接し、かつ、平面的に位置がずれた状態で、絶縁性接着剤122を介して積層(スタック)した構造を有する点が異なり、その他は同じであるので図1中と同一符号を付している。
図10において、リードフレーム11の長い内部リード11b群のダイリード部および吊りピン部(図示していない)上には、図示せぬ第1のボンディングパッド(図4中の13に相当)群を有する第1のチップ10が、裏面の薄い有機系絶縁膜12および通常のマウント剤を介して搭載されている。第2のチップ102は第1のチップ10と同様の構成で、第2のボンディングパッド(図示していない)群を有する片側パッド構成のチップであって、第1のチップ10に対してボンディングパッド群同士が近接し、かつ、互いのボンディングパッド群の配列がずれた状態で、第1のチップ10上に絶縁性接着剤122を介して積層されている。
ボンディングワイヤ群は、4つのグループに分かれている。第1のボンディングワイヤ141群は、第1のチップ10を搭載していない側の内部リード11a群の一部の内部リードの先端部と第1のチップ10上の第1のボンディングパッド群の一部のボンディングパッドとを接続している。
第2のボンディングワイヤ142群は、第1のチップ10を搭載している側の内部リード11b群の一部の内部リードの先端部と第1のチップ10上の第1のボンディングパッド群の一部のボンディングパッドとを接続している。
第3のボンディングワイヤ143群は、第1のチップ10を搭載していない側の内部リード11a群の一部の内部リードの先端部と第2のチップ102上の第2のボンディングパッド群の一部のボンディングパッドとを接続している。
第4のボンディングワイヤ144群は、第1のチップ10を搭載している側の内部リード11b群の一部の内部リードの先端部と第2のチップ102上の第2のボンディングパッド群の一部のボンディングパッドとを接続している。
樹脂15は、リードフレーム11の内部リード11a,11b群、吊りピン部、各チップ10,102、および、各ボンディングワイヤ141〜144群を封止し、樹脂パッケージを形成している。
そして、一対の内部リード11a,11b群に連なる一対の外部リード11c,11d群(リードフレーム11の一部)が、樹脂パッケージの少なくとも対向する一対の辺から外部へ突出して外部端子とされている。
図10に示した構成の半導体パッケージ装置によれば、COL構造を有し、前述した第1の実施形態と同様の効果が得られる。すなわち、長い方の内部リード11b群上の長さ方向のほぼ中央部に第1のチップ10を接着固定し、平面的に位置をずらして、第1のチップ10上に第2のチップ102を接着固定し、2つのチップ10,102上のボンディングパッド群と近傍の内部リード11a,11b群の先端部との間でワイヤボンディング接続を行っているので、ボンディングワイヤが短くて済む。その結果、ワイヤボンディング工程後に樹脂封止を行う際、ボンディングワイヤが流れたり、隣り合うワイヤ同士が電気的に短絡するおそれがなくなり、信頼性が向上する。
特に、チップ10の非素子形成面に、リードフレーム11の吊りピン部をも固着させるようにしているので、樹脂封止を行う際に、樹脂15による成形性を安定化させることが可能となり、内部リード11b群のみでチップ10を固定させる場合に比べ、外観不良の発生を改善し得る。
また、第1のチップ10は、裏面の薄い有機系絶縁膜12により内部リード11b群上に固着されるので、TSOP構造に適しており、チップ上面の高さと内部リード11a,11b群の高さとの段差を小さくし、ワイヤボンディング工程を容易に実施することが可能になる。さらに、チップを積層しているので、高密度に実装することができる。
なお、本発明の実施形態としては、上述した第1〜第3の実施形態に限らず、たとえば、長い方の内部リード11b群の相対的な位置がずれたり、そのリード先端近傍でのリード同士の接触を防止するために、絶縁性接着材付きのリード固定用のテープが設けられたリードフレームを採用することも可能である。
[第4の実施形態]
図11および図12(a),(b)は、本発明の第4の実施形態にしたがったTSOP構造の半導体装置(半導体パッケージ装置)の構成を示すものである。ここでは、半導体パッケージ装置を、メモリ集積回路装置、たとえばNAND型フラッシュメモリとした場合について説明する。なお、図11は半導体パッケージ装置の内部を透過して示す平面(上面)図であり、図12(a)は半導体パッケージ装置の外部リードの突出方向に沿う、内部リードの先端部付近の断面図であり、図12(b)は半導体パッケージ装置の外部リードの突出方向と直交する方向に沿う、吊りピン部付近の断面図である。
図11および図12(a),(b)において、リードフレーム211は、樹脂215の短手方向の各辺よりそれぞれパッケージの外部に引き出された複数の外部リードが配列されてなる外部リード211c群と、この外部リード211c群からそれぞれパッケージの内部(互いに対向する内側方向)に向かって延長され、その一部が途中で樹脂215の長手方向の一方の辺に向かってそれぞれ屈曲された、複数の内部リードが配列されてなる内部リード211a群と、複数の吊りピン部211fとを有する。ここで、内部リード211a群は、リードフレーム211が樹脂215の長手方向に二分された各区分において、樹脂215の長手方向の中央寄りでより長く、中央から遠ざかるほど短くなるように形成されている。たとえば、樹脂215の長手方向の一方の辺から遠い外部リードにつながる内部リードほど長く、樹脂215の長手方向の一方の辺から近い外部リードにつながる内部リードほど短くなる。
上記内部リード211a群は、内部リードのそれぞれの先端部を除いて、メモリチップである半導体チップ210を搭載するためのダイリード部(チップ搭載部)としても用いられる。この場合、内部リード211a群は、いずれもディプレスされておらず、その高さがほぼ同一平面上に位置するように配置されている。リードフレーム211がディプレスされていないため、ディプレス量のバラツキが上述の製造工程に影響を与えるといった心配や、フレームの製造工程が複雑になり、フレーム製造歩留まりに悪影響を与えることもない。
なお、本実施形態の場合、吊りピン部211fは、リードフレーム211の一部である、たとえば、内部リード211a群のいずれの内部リードとも接続されておらず、また、半導体チップ(メモリチップ)210とも接続されていない。
半導体チップ210は、たとえば図13に示すように、素子形成面側の一長辺(長手方向の一方の辺)に沿って集中してボンディングパッド群が配置され、かつ、その裏面(非素子形成面)側に、20〜40μm厚程度の薄いフィルム(シート)状の有機系絶縁膜212が付着されている。この有機系絶縁膜212は、たとえばポリイミド系エポキシ樹脂からなる。本実施形態に係るチップ210の場合も、その長辺の一方に沿って集中してボンディングパッド群が配置されたチップレイアウトを有するので、チップサイズを小さくできる。
このチップ210は、たとえば図11に示すように、リードフレーム211の内部リード211a群のダイリード部上に、有機系絶縁膜212および通常のマウント剤を介して搭載されている。この場合、チップ210は、ボンディングパッド群が内部リード211a群の先端部に近い側となる向きに配置されている。換言すれば、長手方向の各辺が樹脂215の長手方向の各辺にそれぞれ対応し、かつ、ボンディングパッド群が内部リード211a群の各先端部と対向するようにして、半導体チップ210は配置される。
有機系絶縁膜212は、チップ210の裏面とダイリード部との絶縁性を高めるために用いており、ウェハからチップ210を個別に分離するスクライブ(ダイシング)工程に際して、ウェハの裏面に貼り付けられたフィルム状の絶縁性接着剤を流用できる。なお、有機系絶縁膜212は、半導体チップ210を積層しない場合には配置しないこともある。
そして、半導体チップ210のボンディングパッド群とリードフレーム211の内部リード211a群との間は、それぞれ、ボンディングワイヤ240群によって接続されている。
樹脂215は、リードフレーム211の内部リード211a群、吊りピン部211f、チップ210およびボンディングワイヤ240群を封止し、チップオンリード(COL)構造を有する、矩形状の樹脂パッケージを形成している。この樹脂パッケージは、リードフレーム211のチップ搭載面(半導体パッケージ装置の裏面)側の封止部分が、チップ非搭載面(半導体パッケージ装置の表面)側の封止部分よりも厚くなるように形成されている。これにより、半導体チップ210は、フェイスダウンの状態で、樹脂パッケージの厚み方向のほぼ中央部付近の位置で封止されている状態になっている。
そして、内部リード211a群にそれぞれ連なる部分が、樹脂パッケージの短手方向の対向する一対の辺から外部へ突出して外部リード211c群(リードフレーム211の一部)となっている。さらに言えば、外部リード211c群は、樹脂パッケージの厚み方向の中央部付近の位置より厚み方向へずれた位置から外部へ突出している。この場合、外部リード211c群は、半導体チップ210の側面に沿うように、リードフレーム211のチップ搭載面側の方向へ折り曲げられてなり、さらに、その先端側は、たとえば樹脂パッケージから離れる方向へ折り曲げられて外部端子とされている。
図11および図12(a),(b)に示した構成の半導体パッケージ装置によれば、外部リードが突出する樹脂215の短辺に、ボンディングパッド群が集中して配置された長辺を対応させて配置できないような半導体チップ210の場合にも、半導体チップ210の長辺を樹脂215の長辺に対応させて配置することにより、パッケージ化が可能となる。すなわち、リードフレーム211のデザインを変更するだけで、これまでは不可能であった、より大型の半導体チップ210をも樹脂パッケージ内に取り込むことが可能となるものである。
しかも、チップ210のボンディングパッド群を内部リード211a群の先端部に近接させ、つまり、チップ210のボンディングパッド群側の片側でワイヤボンディング接続を行っているので、ボンディングワイヤ240群が短くて済む。その結果、ワイヤボンディング工程後に樹脂封止を行う際に、ボンディングワイヤが流れる、あるいは、隣り合うワイヤ同士が電気的に短絡する恐れがなくなり、信頼性が向上する。
また、チップ210がフェイスダウンの状態で樹脂パッケージ内に封止されるようになっているので、製品の組み立て工程において、リードフレーム211のチップ非搭載面側の樹脂パッケージ面にレーザ光の照射によるマーキングを行う際にも、レーザ光がモールド用の樹脂215を透過してチップ210にダメージを与える、あるいは、ボンディングワイヤ240群の断線不良が生じる、という悪影響が軽減される。
なお、この第4の実施形態にしたがった半導体パッケージ装置としては、NAND型フラッシュメモリに適用される場合に限定されないが、NAND型フラッシュメモリに適用する場合においては、たとえば図14に示すようなリードフレーム211’を採用することもできる。
[第5の実施形態]
図14は、本発明の第5の実施形態にしたがったTSOP構造の半導体装置(半導体パッケージ装置)の構成を示すものである。図14は、半導体パッケージ装置の内部を表面側より透過して示す平面(上面)図であり、第4の実施形態に示した半導体パッケージ装置と同一部分には同一符号を付し、詳しい説明は割愛する。
本実施形態の半導体パッケージ装置の場合、一部の吊りピン部211fが、内部リード211a群に接続されることなく、内部リードとは独立して半導体チップ210の裏面に接着され、および/または、一部の吊りピン部211fが、内部リード211a群の一部の内部リードと兼用され、内部リードと共用して半導体チップ210の裏面に接着されている点で、第4の実施形態の場合と異なっている。
この第5の実施形態の構成によれば、樹脂封止を行う際に、樹脂215による成形性をさらに安定化させることが可能である。すなわち、チップ210の非素子形成面に対し、さらに、リードフレーム211’の吊りピン部211fを固着させるようにしているので、内部リード211a群のみでチップ210を固定させる場合に比べ、外観不良の発生をより改善し得る。
[第6の実施形態]
図15(a),(b)は、本発明の第6の実施形態にしたがったTSOP構造の半導体装置(半導体パッケージ装置)の構成を示すものである。図15(a)は半導体パッケージ装置の外部リードの突出方向に沿う、内部リードの先端部付近の断面図であり、図15(b)は半導体パッケージ装置の外部リードの突出方向と直交する方向に沿う、吊りピン部付近の断面図である。
図15(a),(b)に断面構造を示す半導体パッケージ装置は、前述した第4の実施形態の半導体パッケージ装置と比べて、同じ種類および/または同じサイズのパッドが一長辺に設けられた2つの半導体チップ210a,210bを、それぞれのパッド配列部が近接し、かつ、平面的に位置がずれた状態で、絶縁性接着剤を介して積層(スタック)した構造を有する点が異なり、その他は同じであるので図11中と同一符号を付している。
図15(a),(b)において、リードフレーム211の内部リード211a群のダイリード部上には、図示せぬ第1のボンディングパッド群を有する第1のチップ210aが、裏面の薄い有機系絶縁膜および通常のマウント剤を介して搭載されている。第2のチップ210bは第1のチップ210aと同様の構成で、第2のボンディングパッド群を有する片側パッド構成のチップであって、第1のチップ210aに対してボンディングパッド群同士が近接し、かつ、互いのボンディングパッド群の配列がずれた状態で、第1のチップ210a上に絶縁性接着剤を介して積層されている。
ボンディングワイヤ群は、2つのグループに分かれている。第1のボンディングワイヤ241群は、内部リード211a群の一部の内部リードの先端部と第1のチップ210a上の第1のボンディングパッド群の一部のボンディングパッドとを接続している。第2のボンディングワイヤ242群は、内部リード211a群の一部の内部リードの先端部と第2のチップ210b上の第2のボンディングパッド群の一部のボンディングパッドとを接続している。
樹脂215は、リードフレーム211の内部リード211a群、吊りピン部211f、各チップ210a,210b、および、各ボンディングワイヤ241,242群を封止し、矩形状の樹脂パッケージを形成している。
そして、内部リード211a群に連なる外部リード211c群(リードフレーム211の一部)が、樹脂パッケージの一対の短辺からそれぞれ外部へ突出して外部端子とされている。
図15(a),(b)に示した構成の半導体パッケージ装置によれば、COL構造を有し、前述した第4の実施形態とほぼ同様の効果が得られる。すなわち、チップ210a,210bの長辺が樹脂パッケージの短辺よりも長い(樹脂パッケージの長辺よりは短い)、大型の半導体チップをも樹脂パッケージ内に取り込むことが可能となる。
特に、第1のチップ210aは、裏面の薄い有機系絶縁膜により内部リード211a群上に固着されるので、TSOP構造に適しており、チップ上面の高さと内部リード211a群の高さとの段差を小さくし、ワイヤボンディング工程を容易に実施することが可能になる。
しかも、チップ210a,210bを積層しているので、高密度に実装することができる。したがって、低価格の積層パッケージ技術を要求される、たとえば大容量メモリチップであるNAND型フラッシュメモリなどに使用して好適である。
また、内部リード211a群上に第1のチップ210aを接着固定し、平面的に位置をずらして、第1のチップ210a上に第2のチップ210bを接着固定し、2つのチップ210a,210b上のボンディングパッド群と近傍の内部リード211a群の先端部との間でワイヤボンディング接続を行っているので、ボンディングワイヤ241,242が短くて済む。その結果、ワイヤボンディング工程後に樹脂封止を行う際に、ボンディングワイヤが流れたり、隣り合うワイヤ同士が電気的に短絡するおそれがなくなり、信頼性が向上する。
また、チップ210aの非素子形成面に、リードフレーム211’の吊りピン部211fをも固着させるようにした場合(たとえば、図14参照)には、樹脂封止を行う際に、樹脂215による成形性をさらに安定化させることが可能となり、内部リード211a群のみでチップ210aを固定させる場合に比べ、外観不良の発生をより改善し得る。
なお、本発明の実施形態としては、上述した第4〜第6の実施形態に限らず、たとえば、内部リード211a群の相対的な位置がずれたり、そのリード先端近傍でのリード同士の接触を防止するために、絶縁性接着材付きのリード固定用のテープが設けられたリードフレームを採用することも可能である。
[第7の実施形態]
図16および図17は、本発明の第7の実施形態にしたがったTSOP構造の半導体装置(半導体パッケージ装置)の構成を示すものである。ここでは、半導体パッケージ装置を、メモリ集積回路装置、たとえばNAND型フラッシュメモリとした場合について説明する。なお、図16は半導体パッケージ装置の内部を透過して示す平面(下面)図であり、図17は半導体パッケージ装置の外部リードの突出方向に沿う、内部リードの先端部付近の断面図である。
図16および図17において、リードフレーム311は、樹脂315の短手方向の各辺(短辺)よりそれぞれパッケージの外部に引き出された複数の外部リードが配列されてなる外部リード311c群と、この外部リード311c群からそれぞれパッケージの内部(互いに対向する内側方向)に向かって延長され、その一部が途中で樹脂315の長手方向の一方の辺(長辺)に向かってそれぞれ屈曲された、複数の内部リードが配列されてなる内部リード311a群と、複数の吊りピン部311fとを有する。ここで、内部リード311a群は、樹脂315の長手方向の中央寄りでより長く、中央から遠ざかるほど短くなるように形成されている。たとえば、樹脂315の長手方向の一方の辺から遠い外部リードにつながる内部リードほど長く、樹脂315の長手方向の一方の辺から近い外部リードにつながる内部リードほど短くなる。
上記内部リード311a群は、内部リードのそれぞれの先端部を含めて、メモリチップである半導体チップ310を搭載するためのダイリード部(チップ搭載部)としても用いられる。この場合、内部リード311a群は、いずれもディプレスされておらず、その高さがほぼ同一平面上に位置するように配置されている。リードフレーム311がディプレスされていないため、ディプレス量のバラツキが上述の製造工程に影響を与えるといった心配や、フレームの製造工程が複雑になり、フレーム製造歩留まりに悪影響を与えることもない。
なお、本実施形態の場合、吊りピン部311fは、たとえば、内部リード311a群のいずれの内部リードにも接続されていないが、一部の吊りピン部311fは、半導体チップ310の素子形成面上に固着されている。
半導体チップ310は、たとえば、素子形成面側の長辺の一方(長手方向の一方の辺)に沿って集中してボンディングパッド群が配置され、かつ、その同一面側に、20〜40μm厚程度の薄いフィルム(シート)状の有機系絶縁膜312が付着されている。この有機系絶縁膜312は、たとえばポリイミド系エポキシ樹脂からなる。本実施形態に係るチップ310の場合も、その長辺の一方に沿って集中してボンディングパッド群が配置されたチップレイアウトを有するので、チップサイズを小さくできる。
このチップ310は、たとえば図16に示すように、リードフレーム311の内部リード311a群の先端部を含むダイリード部上に、有機系絶縁膜312および通常のマウント剤を介して搭載されている。この場合、チップ310は、ボンディングパッド群が内部リード311a群の先端部に近い側となる向きに配置されている。換言すれば、長手方向の各辺が樹脂315の長手方向の各辺にそれぞれ対応し、かつ、ボンディングパッド群が内部リード311a群の各先端部と近接するようにして、半導体チップ310は配置される。特に、半導体チップ310のボンディングパッド群が、内部リード311a群の各先端部の延長線上に位置するように搭載される。
そして、半導体チップ310のボンディングパッド群とリードフレーム311の内部リード311a群との間は、それぞれ、ボンディングワイヤ340群によって接続されている。本実施形態の場合、ワイヤボンディング、つまり、各ボンディングパッドと各内部リードの先端部との間のボンディングワイヤ340群による接続は、半導体チップ310の素子形成面上にて行われる。
樹脂315は、リードフレーム311の内部リード311a群、吊りピン部311f、チップ310およびボンディングワイヤ340群を封止し、リードオンチップ(LOC)構造を有する、矩形状の樹脂パッケージを形成している。この樹脂パッケージは、リードフレーム311のチップ非搭載面(半導体パッケージ装置の裏面)側の封止部分が、チップ搭載面(半導体パッケージ装置の表面)側の封止部分よりも厚くなるように形成されている。これにより、半導体チップ310は、フェイスダウンの状態で、樹脂パッケージの厚み方向のほぼ中央部付近よりやや上方の位置で封止されている状態になっている。
そして、内部リード311a群にそれぞれ連なる部分が、樹脂パッケージの短手方向の対向する一対の辺から外部へ突出して外部リード311c群(リードフレーム311の一部)となっている。さらに言えば、外部リード311c群は、樹脂パッケージの厚み方向の中央部付近の位置よりやや下方へずれた位置から外部へ突出している。この場合、外部リード311c群は、半導体チップ310の側面に沿うように、リードフレーム311のチップ非搭載面側の方向へ折り曲げられてなり、さらに、その先端側は、たとえば樹脂パッケージから離れる方向へ折り曲げられて外部端子とされている。
図16および図17に示した構成の半導体パッケージ装置によれば、外部リードが突出する樹脂315の短辺に、ボンディングパッド群が集中して配置された長辺を対応させて配置できないような大きなサイズの半導体チップ310の場合にも、半導体チップ310の長辺を樹脂315の長辺に対応させて配置することにより、パッケージ化が可能となる。すなわち、リードフレーム311のデザインを変更するだけで、これまでは不可能であった、より大型の半導体チップ310をも樹脂パッケージ内に取り込むことが可能となるものである。
特に、ボンディングパッド群と内部リード311a群との間を接続するワイヤボンディングを、半導体チップ310の表面(素子形成面)上にて行う構成とすることにより、半導体パッケージ装置のサイズを同一とした場合には、より大きなサイズの半導体チップ310の搭載が可能となる。逆に、半導体チップ310のサイズを同一とした場合には、より小さなサイズの半導体パッケージ装置を実現できる。
しかも、チップ310の素子形成面に、リードフレーム311の吊りピン部311fを固着させるようにした場合には、樹脂封止を行う際に、樹脂315による成形性をさらに安定化させることが可能となり、内部リード311a群のみでチップ310を固定させる場合に比べ、外観不良の発生をより改善し得る。
また、チップ310のボンディングパッド群を内部リード311a群の先端部に近接させ、つまり、チップ310のボンディングパッド群側の片側でワイヤボンディング接続を行っているので、ボンディングワイヤ340群が短くて済む。その結果、ワイヤボンディング工程後に樹脂封止を行う際に、ボンディングワイヤが流れる、あるいは、隣り合うワイヤ同士が電気的に短絡する恐れがなくなり、信頼性が向上する。
また、チップ310がフェイスダウンの状態で樹脂パッケージ内に封止されるようになっているので、製品の組み立て工程において、リードフレーム311のチップ搭載面側の樹脂パッケージ面にレーザ光の照射によるマーキングを行う際にも、レーザ光がモールド用の樹脂315を透過してチップ310にダメージを与える、あるいは、ボンディングワイヤ340群の断線不良が生じる、という悪影響が軽減される。
図18は、外部リードの突出方向と直交する方向に沿う、半導体パッケージ装置の端部付近の断面を示すものである。なお、同図(a)は、図16に示した半導体パッケージ装置を例に示すものであり、同図(b)は、図11に示した半導体パッケージ装置を例に示すものである。
図18(a)に示す半導体パッケージ装置の場合、半導体パッケージ装置の短辺の長さをXaとすると、その長さXaは、半導体チップ310の短辺の長さxa+2×樹脂幅haによりほぼ規定される。これに対し、図18(b)に示す半導体パッケージ装置の場合、半導体パッケージ装置の短辺の長さをXaとすると、その長さXaは、半導体チップ210の短辺の長さxa+2×樹脂幅ha+リード突出長kによりほぼ規定される。なお、ここでは、樹脂パッケージの端からチップ310までの樹脂315の厚さおよび樹脂パッケージの端からリード211aまでの樹脂215の厚さを樹脂幅ha、半導体チップ210の端からリード211aの端までの距離をリード突出長kとしている。
要するに、半導体パッケージ装置の短辺の長さXa、および、樹脂幅haを同じとした場合、リード突出長kの分だけ、半導体チップ210よりも大きな半導体チップ310の搭載が可能となる。逆に、半導体チップ210,310の短辺の長さxaを同一とした場合には、よりサイズ(Xa)の小さな半導体パッケージ装置を実現できる。
なお、上記したいずれの実施形態においても、チップをフェイスダウンの状態で樹脂パッケージ内に封止する構成に限らず、フェイスアップの状態で樹脂パッケージ内に封止する構成のものにも適用できる。
[第8の実施形態]
図19は、本発明の第8の実施形態にしたがったTSOP構造の半導体装置(半導体パッケージ装置)の構成を示すものである。図19は半導体パッケージ装置の外部リードの突出方向に沿う、内部リードの先端部付近の断面図である。なお、この半導体パッケージ装置は、その上面から透過した図が、図16の下面図とほぼ等価なものとなっている。
本実施形態の半導体パッケージ装置の場合、リードフレーム上に搭載された半導体チップがフェイスアップの状態で樹脂パッケージ内に封止されている点で、第7の実施形態の場合と異なっている。すなわち、図19に断面構造を示す半導体パッケージ装置は、前述した第7の実施形態の半導体パッケージ装置と比べて、リードフレーム311の外部リード311c群が、半導体チップ310の側面に沿うように、リードフレーム311のチップ搭載面側の方向へ折り曲げられてなり、さらに、その先端側が、たとえば樹脂パッケージから離れる方向へ折り曲げられて外部端子とされている点が異なり、その他は同じであるので図17中と同一符号を付している。
図19において、リードフレーム311の内部リード311a群のダイリード部上には、ボンディングパッド群を有する片側パッド構成の半導体チップ310が、表面の薄い有機系絶縁膜312および通常のマウント剤を介して搭載されている。
ボンディングワイヤ340群は、半導体チップ310の表面(素子形成面)上において、内部リード311a群の各内部リードの先端部と半導体チップ310上のボンディングパッド群の各ボンディングパッドとを接続している。
樹脂315は、リードフレーム311の内部リード311a群、吊りピン部(図示していない)、チップ310、および、ボンディングワイヤ340群を封止し、矩形状の樹脂パッケージを形成している。
そして、内部リード311a群に連なる外部リード311c群(リードフレーム311の一部)が、樹脂パッケージの一対の短辺からそれぞれ外部へ突出して外部端子とされている。
図19に示した構成の半導体パッケージ装置によれば、前述した第7の実施形態の場合とほぼ同様に、チップ310の長辺が樹脂パッケージの短辺よりも長い(樹脂パッケージの長辺よりは短い)、大型の半導体チップをも樹脂パッケージ内に取り込むことが可能となる。
特に、ボンディングパッド群と内部リード311a群との間を接続するワイヤボンディングを、半導体チップ310の表面(素子形成面)上にて行う構成とすることにより、半導体パッケージ装置のサイズを同一とした場合には、より大きなサイズの半導体チップ310の搭載が可能となる。逆に、半導体チップ310のサイズを同一とした場合には、より小さなサイズの半導体パッケージ装置を実現できる。
しかも、チップ310の素子形成面に、リードフレーム311の吊りピン部を固着させるようにした場合には、樹脂封止を行う際に、樹脂315による成形性をさらに安定化させることが可能となり、内部リード311a群のみでチップ310を固定させる場合に比べ、外観不良の発生をより改善し得る。
また、ボンディングワイヤ340が短くて済む結果、ワイヤボンディング工程後に樹脂封止を行う際に、ボンディングワイヤが流れたり、隣り合うワイヤ同士が電気的に短絡するおそれがなくなり、信頼性が向上する。
また、チップ310は、表面の薄い有機系絶縁膜312により内部リード311a群上に固着されるので、TSOP構造に適しており、チップ上面の高さと内部リード311a群の高さとの段差を小さくし、ワイヤボンディング工程を容易に実施することが可能になる。
なお、上記したいずれの実施形態の場合も、樹脂パッケージを用いた製品に限らず、たとえばプラスチックパッケージ製品にも同様に適用できる。
その他、本願発明は、上記(各)実施形態に限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で種々に変形することが可能である。さらに、上記(各)実施形態には種々の段階の発明が含まれており、開示される複数の構成要件における適宜な組み合わせにより種々の発明が抽出され得る。たとえば、(各)実施形態に示される全構成要件からいくつかの構成要件が削除されても、発明が解決しようとする課題の欄で述べた課題(の少なくとも1つ)が解決でき、発明の効果の欄で述べられている効果(の少なくとも1つ)が得られる場合には、その構成要件が削除された構成が発明として抽出され得る。
本発明の第1の実施形態にしたがったTSOP構造の半導体パッケージ装置の構成を示す断面図。 図1の半導体パッケージ装置の内部を透過して示す下面図。 図1の半導体パッケージ装置の内部を透過して示す上面図。 図1の半導体パッケージ装置に適用される、半導体チップの一例を示す構成図。 図4に示した半導体チップの、ボンディングパッド群にそれぞれ割り付けられた外部端子の一例を示す平面図。 図1の半導体パッケージ装置に適用される、リードフレームの一例を示す平面図。 図1の半導体パッケージ装置に適用される、リードフレームの他の一例を示す平面図。 片側パッド構成のNAND型フラッシュメモリを例に、半導体チップのレイアウトを示す平面図。 本発明の第2の実施形態にしたがったTSOP構造の半導体パッケージ装置の内部を透過して示す上面図。 本発明の第3の実施形態にしたがったTSOP構造の半導体パッケージ装置の構成を示す断面図。 本発明の第4の実施形態にしたがったTSOP構造の半導体パッケージ装置の内部を透過して示す下面図。 図11の半導体パッケージ装置の構成を示す断面図。 図11の半導体パッケージ装置に適用される、半導体チップの一例を示す平面図。 本発明の第5の実施形態にしたがったTSOP構造の半導体パッケージ装置の内部を透過して示す上面図。 本発明の第6の実施形態にしたがったTSOP構造の半導体パッケージ装置の構成を示す断面図。 本発明の第7の実施形態にしたがったTSOP構造の半導体パッケージ装置の構成を示す下面図。 図16の半導体パッケージ装置の構成を示す断面図。 図16の半導体パッケージ装置の断面構造を、他の半導体パッケージ装置の断面構造と対比して示す図。 本発明の第8の実施形態にしたがったTSOP構造の半導体パッケージ装置の構成を示す断面図。
符号の説明
10,210,210a,210b,310…半導体チップ、11,211,211’,311…リードフレーム、11a,211a,311a…内部リード(第1の内部リード)、11b…内部リード(第2の内部リード)、11c,11d,211c,311c…外部リード、11f,211f,311f…吊りピン部、12,212,312…有機系絶縁膜、13…ボンディングパッド、141,241…第1のボンディングワイヤ群、142,242…第2のボンディングワイヤ群、240,340…ボンディングワイヤ、15,215,315…樹脂。

Claims (5)

  1. 素子形成面側のチップ一辺に沿って配置されたボンディングパッド群を有する半導体チップと、
    各先端部が前記半導体チップの前記ボンディングパッド群の一部と対向するように配置された第1の内部リード群、および、前記半導体チップの非素子形成面側が固着されるチップ搭載部を有し、各先端部が前記第1の内部リード群の各先端部と前記半導体チップとの間に位置するように配置された第2の内部リード群を含むリードフレームと、
    前記第1の内部リード群と前記ボンディングパッド群の一部のボンディングパッドとを接続する第1のボンディングワイヤ群と、
    前記第2の内部リード群の先端部と前記ボンディングパッド群の一部のボンディングパッドとを接続する第2のボンディングワイヤ群と、
    前記半導体チップの非素子形成面に固着された吊りピン部と、
    前記吊りピン部、および、前記第1,第2の内部リード群と前記第1,第2のボンディングワイヤ群との接続部を含んで、前記半導体チップの周囲を封止する樹脂パッケージと
    を具備したことを特徴とする半導体装置。
  2. 前記吊りピン部は、さらに、前記リードフレームの一部に接続されていることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
  3. 前記吊りピン部は、前記リードフレームをフレーム本体に支持するための支持部材であることを特徴とする請求項1または2に記載の半導体装置。
  4. 前記リードフレームは、前記第1,第2の内部リード群にそれぞれ連なる第1,第2の外部リード群を有し、
    前記第1,第2の外部リード群は、それぞれ、前記樹脂パッケージの少なくとも対向する一対の辺から外部へ突出し、かつ、前記チップ搭載部の方向へ折り曲げられていることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
  5. 前記半導体チップは、その素子形成面側が下向きとなるフェイスダウンの状態で、前記樹脂パッケージにて形成されていることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
JP2006115959A 2005-05-11 2006-04-19 半導体装置 Pending JP2007129182A (ja)

Priority Applications (9)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006115959A JP2007129182A (ja) 2005-05-11 2006-04-19 半導体装置
KR1020060041841A KR100810324B1 (ko) 2005-05-11 2006-05-10 반도체 칩의 주위를 밀봉하여 이루어지는 반도체 장치
US11/430,965 US7919837B2 (en) 2005-05-11 2006-05-10 Semiconductor device with sealed semiconductor chip
CNB2006100817751A CN100440498C (zh) 2005-05-11 2006-05-11 密封了半导体芯片周围而形成的半导体器件
US13/029,466 US8970019B2 (en) 2005-05-11 2011-02-17 Semiconductor device with sealed semiconductor chip
US14/617,637 US10366942B2 (en) 2005-05-11 2015-02-09 Semiconductor device with sealed semiconductor chip
US16/438,826 US10872844B2 (en) 2005-05-11 2019-06-12 Semiconductor device with sealed semiconductor chip
US16/952,968 US11424176B2 (en) 2005-05-11 2020-11-19 Semiconductor device with sealed semiconductor chip
US17/864,064 US11854946B2 (en) 2005-05-11 2022-07-13 Semiconductor device with sealed semiconductor chip

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005138718 2005-05-11
JP2005291391 2005-10-04
JP2006115959A JP2007129182A (ja) 2005-05-11 2006-04-19 半導体装置

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012285961A Division JP5619128B2 (ja) 2005-05-11 2012-12-27 半導体装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2007129182A true JP2007129182A (ja) 2007-05-24

Family

ID=37418342

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006115959A Pending JP2007129182A (ja) 2005-05-11 2006-04-19 半導体装置

Country Status (4)

Country Link
US (6) US7919837B2 (ja)
JP (1) JP2007129182A (ja)
KR (1) KR100810324B1 (ja)
CN (1) CN100440498C (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100920052B1 (ko) 2008-01-02 2009-10-07 주식회사 하이닉스반도체 반도체 패키지용 리드 프레임
JP2010182873A (ja) * 2009-02-05 2010-08-19 Toshiba Corp 半導体デバイス

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7368320B2 (en) * 2003-08-29 2008-05-06 Micron Technology, Inc. Method of fabricating a two die semiconductor assembly
JP2007129182A (ja) * 2005-05-11 2007-05-24 Toshiba Corp 半導体装置
US20080054496A1 (en) * 2006-08-30 2008-03-06 Neill Thornton High temperature operating package and circuit design
JP2008294384A (ja) * 2007-04-27 2008-12-04 Renesas Technology Corp 半導体装置
US7863102B2 (en) * 2008-02-22 2011-01-04 Stats Chippac Ltd. Integrated circuit package system with external interconnects within a die platform
JP5536388B2 (ja) * 2009-08-06 2014-07-02 株式会社テラプローブ 半導体装置およびその製造方法
US9679831B2 (en) 2015-08-13 2017-06-13 Cypress Semiconductor Corporation Tape chip on lead using paste die attach material
JP2018110169A (ja) * 2016-12-28 2018-07-12 富士電機株式会社 半導体装置および半導体装置製造方法
CN108878405A (zh) * 2018-07-02 2018-11-23 深圳市槟城电子有限公司 一种防护器件及其制作方法、电子设备
US11502045B2 (en) * 2019-01-23 2022-11-15 Texas Instruments Incorporated Electronic device with step cut lead
CN113851447B (zh) * 2021-09-23 2022-06-07 先之科半导体科技(东莞)有限公司 一种免金线的肖特基二极管及其制作方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06151685A (ja) * 1992-11-04 1994-05-31 Mitsubishi Electric Corp Mcp半導体装置
JPH06204390A (ja) * 1993-01-07 1994-07-22 Fujitsu Ltd 半導体装置
JPH06224362A (ja) * 1992-10-28 1994-08-12 Internatl Business Mach Corp <Ibm> 電子素子用リードフレーム・パッケージ
JPH08195463A (ja) * 1995-01-17 1996-07-30 Hitachi Ltd 樹脂封止型半導体装置及びその製造に使用されるリードフレーム
JPH08227903A (ja) * 1995-12-28 1996-09-03 Hitachi Vlsi Eng Corp 半導体装置
JPH11121677A (ja) * 1998-08-12 1999-04-30 Miyazaki Oki Electric Co Ltd 樹脂封止型半導体装置

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06105721B2 (ja) * 1985-03-25 1994-12-21 日立超エル・エス・アイエンジニアリング株式会社 半導体装置
JPH0846131A (ja) * 1994-08-02 1996-02-16 Sony Corp リードフレーム及びワイヤボンディング装置
US5615475A (en) * 1995-01-30 1997-04-01 Staktek Corporation Method of manufacturing an integrated package having a pair of die on a common lead frame
JP3209696B2 (ja) * 1996-03-07 2001-09-17 松下電器産業株式会社 電子部品の製造方法
US5907769A (en) * 1996-12-30 1999-05-25 Micron Technology, Inc. Leads under chip in conventional IC package
US6054754A (en) 1997-06-06 2000-04-25 Micron Technology, Inc. Multi-capacitance lead frame decoupling device
JP3688440B2 (ja) 1997-07-29 2005-08-31 株式会社ルネサステクノロジ 半導体装置
JP3415509B2 (ja) 1999-09-28 2003-06-09 エヌイーシーマイクロシステム株式会社 半導体装置
KR100494228B1 (ko) 1999-12-15 2005-06-13 도모에고교 가부시키가이샤 원심선별장치
JP3768761B2 (ja) 2000-01-31 2006-04-19 株式会社日立製作所 半導体装置およびその製造方法
JP3813788B2 (ja) * 2000-04-14 2006-08-23 株式会社ルネサステクノロジ 半導体装置及びその製造方法
US6541849B1 (en) * 2000-08-25 2003-04-01 Micron Technology, Inc. Memory device power distribution
JP2002231882A (ja) 2001-02-06 2002-08-16 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置
JP4372022B2 (ja) 2004-04-27 2009-11-25 株式会社東芝 半導体装置
WO2006028421A1 (en) * 2004-09-09 2006-03-16 United Test And Assembly Center Limited Multi-die ic package and manufacturing method
JP2007129182A (ja) * 2005-05-11 2007-05-24 Toshiba Corp 半導体装置
US7375415B2 (en) * 2005-06-30 2008-05-20 Sandisk Corporation Die package with asymmetric leadframe connection

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06224362A (ja) * 1992-10-28 1994-08-12 Internatl Business Mach Corp <Ibm> 電子素子用リードフレーム・パッケージ
JPH06151685A (ja) * 1992-11-04 1994-05-31 Mitsubishi Electric Corp Mcp半導体装置
JPH06204390A (ja) * 1993-01-07 1994-07-22 Fujitsu Ltd 半導体装置
JPH08195463A (ja) * 1995-01-17 1996-07-30 Hitachi Ltd 樹脂封止型半導体装置及びその製造に使用されるリードフレーム
JPH08227903A (ja) * 1995-12-28 1996-09-03 Hitachi Vlsi Eng Corp 半導体装置
JPH11121677A (ja) * 1998-08-12 1999-04-30 Miyazaki Oki Electric Co Ltd 樹脂封止型半導体装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100920052B1 (ko) 2008-01-02 2009-10-07 주식회사 하이닉스반도체 반도체 패키지용 리드 프레임
JP2010182873A (ja) * 2009-02-05 2010-08-19 Toshiba Corp 半導体デバイス
US8912636B2 (en) 2009-02-05 2014-12-16 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor device

Also Published As

Publication number Publication date
US10872844B2 (en) 2020-12-22
KR20060116728A (ko) 2006-11-15
US7919837B2 (en) 2011-04-05
US11854946B2 (en) 2023-12-26
US20150155225A1 (en) 2015-06-04
US8970019B2 (en) 2015-03-03
KR100810324B1 (ko) 2008-03-04
US11424176B2 (en) 2022-08-23
US20060255436A1 (en) 2006-11-16
CN100440498C (zh) 2008-12-03
US10366942B2 (en) 2019-07-30
US20210074609A1 (en) 2021-03-11
US20220044987A9 (en) 2022-02-10
US20220352053A1 (en) 2022-11-03
CN1862798A (zh) 2006-11-15
US20190295928A1 (en) 2019-09-26
US20110133323A1 (en) 2011-06-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4372022B2 (ja) 半導体装置
JP2007129182A (ja) 半導体装置
US7755175B2 (en) Multi-stack chip package with wired bonded chips
JP5207868B2 (ja) 半導体装置
JP2567961B2 (ja) 半導体装置及びリ−ドフレ−ム
US20040145042A1 (en) Semiconductor device
JP4643341B2 (ja) 半導体装置
JP5619128B2 (ja) 半導体装置
JP6023866B2 (ja) 半導体装置
JP2007250935A (ja) 半導体装置と半導体装置の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20090209

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20090422

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110830

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20111031

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120110

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120307

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20120529

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20121002

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20121227