JP2007250935A - 半導体装置と半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】簡単な構成で量産性を向上させたMCP構成の半導体装置とその製造方法を提供する。
【解決手段】搭載基板上に第1半導体チップを搭載する。上記第1半導体チップ上に上記第1半導体チップと組み合わされて動作する第2半導体チップを搭載する。上記第2半導体チップは、同じ内部ノードに共通に接続された複数組のボンディングパッド列の各組を4つの辺に分散して設けて置く。上記複数組間で共通に接続された複数のボンディングパッドの1つを、接続されるべき上記第1半導体チップのボンディングパッド又は上記搭載基板に設けられたリードの配置に対応して選んで接続する。
【選択図】図1
【解決手段】搭載基板上に第1半導体チップを搭載する。上記第1半導体チップ上に上記第1半導体チップと組み合わされて動作する第2半導体チップを搭載する。上記第2半導体チップは、同じ内部ノードに共通に接続された複数組のボンディングパッド列の各組を4つの辺に分散して設けて置く。上記複数組間で共通に接続された複数のボンディングパッドの1つを、接続されるべき上記第1半導体チップのボンディングパッド又は上記搭載基板に設けられたリードの配置に対応して選んで接続する。
【選択図】図1
Description
本発明は、半導体装置と半導体装置の製造方法に関し、例えばフラッシュメモリチップとマイクロコンピュータチップとからなるマルチチップパッケージ(MCP)構造の半導体装置とその製造技術に利用して有効な技術に関するものである。
例えば、半導体装置の多機能化を図る目的として、複数個の半導体チップを積層して1つのパッケージに搭載するMCP(Multi Chip Package) として、2001−196529公報、2005−136299号報がある。2001−196529公報には、ワイヤボンディングで接続可能な範囲を超えて、半導体チップと回路基板とを電気的に接続することを目的として、ある半導体チップの電極パッドを他の半導体チップの電極パッドに中継するための中継用電極パッドを予め設けて置くものである。2005−136299公報には、ボンディングワイヤ同士の接触による短絡を防止し、かつ装置を小型化する目的で、複数の主パッド群と第1パッド及び第2パッドとをそれぞれ接続する配線を設けて、上記第1パッドと第2パッドを中継用に用いている。
特開2001−196529公報
特開2005−136299公報
本願発明者においては、マイクロコンピュータチップに、メモリチップを組み合わせて機能向上を図ったMCP構成の半導体装置を得ることを検討した。この場合、マイクロコンピュータチップとしては、既に完成されて実績のある様々な機能を持つマイクロコンピュータチップが存在している。このようなマイクロコンピュータチップにおいては、そのボンディングパッド配列が様々で一定ではない。したがって、それに搭載されるメモリチップにおいては、回路機能的には組み合わせが可能なものであっても個々のマイクロコンピュータチップのボンディングパッド配列に合わせてボンディングパッドの配列を行う必要がある。つまり、メモリチップにおいて、上記組み合わされるマイクロコンピュータチップに向けた専用メモリチップを設計、製造することが必要となり、量産性が妨げられて設計、製造コストアップの大きな原因になる。
この発明の目的は、簡単な構成で量産性を向上させたMCP構成の半導体装置とその製造方法を提供することにある。この発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下記の通りである。搭載基板上に第1半導体チップを搭載する。上記第1半導体チップ上に上記第1半導体チップと組み合わされて動作する第2半導体チップを搭載する。上記第2半導体チップは、同じ内部ノードに共通に接続された複数組のボンディングパッド列の各組を4つの辺に分散して設けて置く。上記複数組間で共通に接続された複数のボンディングパッドの1つを、接続されるべき上記第1半導体チップのボンディングパッド又は上記搭載基板に設けられたリードの配置に対応して選んで接続する。
本願において開示される発明のうち他の代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下記の通りである。搭載基板上に第1半導体チップを搭載する。同じ内部ノードに共通に接続された複数組のボンディングパッド列を有し、各組のボンディングパッド列が4つの辺に分散して設けられた第2半導体チップを上記第1半導体チップ上に搭載する。上記第1半導体チップのボンディングパッドと上記搭載基板の対応するリードとをワイヤにより接続する。上記複数組間で共通に接続された複数のボンディングパッドのうち、接続されるべき上記第1半導体チップのボンディングパッド又は上記搭載基板に設けられたリードの配置に対応した1つを選んでワイヤにより接続する。
第2半導体チップを複数種類の第1半導体チップに対して使用できるから量産性を向上させることができる。
図1には、この発明に係る半導体装置としてのMCP(又はSiP:システム・イン・パッケージ)の一実施例の平面図が示されている。同図においては、発明の理解を容易にするため搭載基板100、第1半導体チップ200及び第2半導体チップ300は、簡略化してリード、ボンディングパッド及びそれらを接続されるワイヤを示している。この実施例のMCPは、特に制限されないが、マイクロコンピュータのような論理機能を持つ第1半導体チップ200と、フラッシュメモリのような第2半導体チップ300とが積層構造に構成される。
搭載基板100は、複数のリード101,102を有している。上記リード101は、上記第1半導体チップ200との接続用のものである。上記リード102は、上記第2半導体チップ300との接続用のものである。上記第1半導体チップ200は、ボンディングパッド201を有しており、ワイヤ202により搭載基板100のリード101と接続される。この実施例では、半導体チップ200と搭載基板100の間を接続するワイヤ202を太い線で示し、後述する半導体チップ300と半導体基板100との間を接続するワイヤ302を細い線で示して区別している。実際には、同じ金線により接続される。
上記第2半導体チップ300は、図2に拡大して示したように4組からなるボンディングパッド列310、311、312及び313が、メモリチップの4つの辺に対応して設けられる。各組310、311、312及び313に設けられるそれぞれのボンディングパッドは、それぞれ対応するものが内部配線により共通に接続される。つまり、内部ノードに対して相互に接続される。同図では、白抜き、黒塗り及び斜線等のハッチングによって5個のボンディングパッドが区別され、それぞれが内部配線により相互に接続されている。したがって、例えば、白抜きの4つのボンディングパッドは、内部ノードに接続されるものである。上記内部配線は、例えばボンディングパッドを構成する最上層のアルミニュウム等のような金属配線層と、その下に設けられた配線層を組み合わせることで実現される。
図1において、上記第2半導体チップ300の5個のボンディングパッドは、上記のように4組に分けて4個ずつ設けられるが、接続されるべき搭載基板100のリード102に対応した1つが選ばれてワイヤ302により接続される。例えば、白抜きパッドは、同図左辺に設けられたボンディングパッド列(図2の310)のものが選ばれて、搭載基板100の左辺に設けられたリードと接続される。黒塗りパッドは、同図右辺に設けられたボンディングパッド列(図2の312)のものが選ばれて、搭載基板100の上辺右端に設けられたリードと接続される。他のパッドも2つは、同図上辺に設けられたボンディングパッド列(図2の313)のものが選ばれて、搭載基板100の上辺に設けられたリードと接続される。そして、他のパッドの残り1つは、同図下辺に設けられたボンディングパッド列(図2の311)のものが選ばれて、搭載基板100の下辺に設けられたリードと接続される。
図3には、この発明に係る半導体装置の一実施例の概略断面図が示されている。上記第1半導体チップ200のボンディングパッド201が上記搭載基板100のボンディングリード101と、Au(金)ワイヤ202によりボンディングされる。上記第2半導体チップ300のボンディングパッド301が上記搭載基板100のボンディングリード102と、Au(金)ワイヤ302によりボンディングされる。
第1半導体チップ200は、搭載基板100の表面に熱硬化性接着剤又は裏面に設けられたダイボンドフィルムを用いて接着される。同様に、第2半導体チップ300は、上記第1半導体チップ200の表面に熱硬化性接着剤又は裏面に設けられたダイボンドフィルムを用いて接着される。このようにして、上記2つのシリコンチップが積層構造にされる。そして、上記第1半導体チップ200及び第2半導体チップ300と、それらに設けられたボンディングワイヤ202,302を樹脂封止体としてのモールドレジン400により封止し、搭載基板100の裏面側に外部端子103としてのボール付けリフローがなされてMCPが形成される。
上記搭載基板100は、例えばガラスエポキシもしくはガラスからなるような絶縁基板と、かかる絶縁基板上に形成された多層配線構成からなるような比較的微細な内部配線と、複数の外部端子103とを持つ。搭載基板100は、上記主面に、上記第1半導体チップ200及び第2半導体チップに設けられたボンディングパッドとのワイヤ接続するためのボンディングリード101,102が形成される。これらのボンディングリード101、102は、上記内部配線により上記半導体チップ100と第2半導体チップとの相互接続及び外部端子103との接続に用いられる。
例えば、図9に示したように半導体チップ300において、従来のように1組しかボンディングパッドが設けられない場合、ワイヤ302がワイヤ303及び304と交差してしまうという問題が生じる。このような問題を避けるためには、図10に示したように搭載基板100に設けられたリードの配列、つまりは第1半導体チップ100のボンディングパッドの配列に対応して、半導体チップ300に設けられるボンディングパッドを形成することになる。このようにすると、図10に示した半導体チップ300は、同図に示した半導体チップ200との組み合わせしか使用できないものになってしまう。つまり、半導体チップ300は、同じメモリチップであっても、それが組み合わされるマイコン等の半導体チップ200に合わせて、その都度ボンディングパッドの配列の設計をやり直しことが必要となってMCPの量産性が損なわれる。
図4には、この発明に係る半導体装置としてのMCPの他の一実施例の平面図が示されている。この実施例は、前記図1(図2)と同じ第2半導体チップ300をそのまま用いるが、搭載基板100及び第1半導体チップ200が前記図1のものとは異なる。このように異なる第1半導体チップ200に対しても上記図1(図2)に示した第2半導体チップ300に設けられた4組のボンディングパッド列のうち、いずれか1つを選ぶことより第1半導体チップ200と組み合わせることができる。
図4において、白抜きパッドは、同図右辺に設けられたボンディングパッド列(図2の312)のものが選ばれて、搭載基板100の下辺に設けられたリードと接続される。黒塗りパッドは、同図下辺に設けられたボンディングパッド列(図2の311)のものが選ばれて、搭載基板100の下辺に設けられたリードと接続される。中央部のパッドは、同図右辺に設けられたボンディングパッド列(図2の312)のものが選ばれて、搭載基板100の右辺に設けられたリードと接続される。そして、他の2つのパッドは、同図上辺と左辺に設けられたボンディングパッド列(図2の313と310)のものがそれぞれ選ばれて、搭載基板100の上辺及び左辺に設けられたリードと接続される。
このように、半導体チップ300からみたときに、接続されるリードが搭載基板100の4つの辺に分散して設けられた場合でも、4組のボンディングパッド列中の1つのボンディングパッドを選択することによって対応することができる。上記半導体チップ300は、上記半導体チップ200と組み合わされて動作するので、結局上記半導体基板200に対応して設けられるボンディングパッドの配列に従って設けられる搭載基板100のリードに対応させられるものである。半導体チップ300は、それと組み合わされる様々なボンディングパッドの配列を有する半導体チップ200とを組み合わせたMCP半導体装置を得ることができる。
図5には、この発明に係る半導体装置としてのMCPの他の一実施例の平面図が示されている。この実施例では、第2半導体チップ300においては、2組のボンディングパッド列が設けられる。つまり、同図において、第2半導体チップ300の上下辺にそれぞれボンディングパッド列が設けられる。このような2組のボンディングパッド列を持つ場合でも、例えば図1と同じ第1半導体チップ200と組み合わせることができる。
例えば、白抜きパッドは、同図上辺に設けられたボンディングパッド列のものが選ばれて、搭載基板100の左辺に設けられたリードと接続される。黒塗りパッドも、同図上辺に設けられたボンディングパッド列のものが選ばれて、搭載基板100の上辺右端に設けられたリードと接続される。ボンディングパッド列の中央部に設けられたパッドは、同図下辺に設けられたボンディングパッド列のものが選ばれて、搭載基板100の下辺に設けられたリードと接続される。そして、残り2つのパッドは、同図上辺に設けられたボンディングパッド列のものが選ばれて、搭載基板100の上辺に設けられたリードと接続される。
図6には、この発明に係る半導体装置としてのMCPの更に他の一実施例の平面図が示されている。この実施例では、前記図5と同じ第2半導体チップ300をそのまま用いるが、搭載基板100及び第1半導体チップ200が前記図5のものとは異なる。このように異なる第1半導体チップ200に対しても上記図5に示した第2半導体チップ300に設けられた2組のボンディングパッド列のうち、いずれか1つを選ぶことより第1半導体チップ200と組み合わせることができる。例えば、白抜きと黒塗りパッドとは、同図下辺に設けられたボンディングパッド列のものが選ばれて、搭載基板100の下辺に設けられたリードと接続される。中央部の3個のパッドは、同図上辺に設けられたボンディングパッド列のものが選ばれて、搭載基板100の上辺に設けられたリードと接続される。
図5及び図6において、第1半導体チップ200と搭載基板100とを接続する太線で示したワイヤ202と、第2半導体チップ300と搭載基板100とを接続する細線で示したワイヤ302とが交差するものがあるが、第1半導体チップ200の上に第2半導体チップ300が搭載されており、その高さが異なるので図9に示したワイヤ302〜304同士のように短絡することはない。
図7には、この発明に係るMCPの更に他の一実施例の概略断面図が示されている。搭載基板100の表面には、マイコンチップ(200)が搭載される。このマイコンチップ200上には、特に制限されないが、フラッシュメモリチップ300が搭載される。そして、上記フラッシュメモリチップ300上には、スペーサ500が設けられ、その上にフラッシュメモリチップ306が搭載される。この実施例では、フラッシュメモリの記憶容量を2倍にすべく、2つのフラッシュメモリチップ300及び306がマイコンチップ200に組み合わされる。マイコンチップ200は、CPU(中央処理装置)を含むような特定用途向IC(以下、ASICという)である。
上記マイコンチップ200とフラッシュメモリチップ300,306と相互に接続される端子同士は、搭載基板100上に設けられたリードに接続される。この実施例では、搭載基板100上でのワイヤの集中を避ける等の目的で、マイコンチップ200のボンディングパッド203に中継機能が付加される。つまり、下側のフラッシュメモリチップ300のボンディングパッド301は、マイコンチップ200に設けられたボンディングパッド203とワイヤ302により接続される。マイコンチップ200の上記ボンディングパッド203は、搭載基板100に設けられたリード101に接続される。そして、このリード101には、上側のフラッシュメモリチップ306のボンディングパッド307とワイヤ308により接続される。搭載基板100の裏面側には、特に制限されないが、外部端子としての半田ボールが設けられる。搭載基板表面には、図示ないが封止樹脂としてのレジンが設けられる。
上記マンコンチップ200、フラシュメモリチップ300,305及びスペーサ500は、それぞれの裏面に設けられた熱硬化性接着剤又ダイボンドフィルム203、305、501及び309を用いて接着される。上記スペーサ500は、特に制限されないが、上記フラッシュメモリチップ300及び306との熱膨張率を均等にするためにシリコン基板により形成される。この際、上記フラッシュメモリチップ306の裏面側に設けられたダイボンドフィルム309は、下層側のフラッシュメモリチップ300に設けられるワイヤ302が上層側のフラッシュメモリチップ306の裏面に接触しても電気絶縁性を維持させることにも利用できる。前記熱硬化性接着剤を用いて接着させる場合でも、上層側のフラッシュメモリチップ306の裏面全面に塗布することにより、上記電気絶縁性を持たせることが望ましい。
この実施例のMCPは、搭載基板100上にマイコンチップ200を搭載し、その上にフラッシュメモリチップ300を搭載し、かかるフラッシュメモリチップ300の上にスペーサ500を搭載して、上記マイコンチップ200及びフラッシュメモリチップ300に対するボンディングを行う。この後に、フラッシュメモリチップ306をスペーサ500上に搭載し、フラッシュメモリチップ306と搭載基板100との間のボンディングを行うようにされる。
図8には、この発明に係るMCMを用いたシステムの一実施例のブロック図が示されている。同図は、マイコンを持つASICチップと、メインメモリとしてのSDRAM及びフラッシュメモリとの電気的な接続関係が信号端子名とともに例示的にされている。同図において、点線で囲まれたマイコンとフラッシュメモリとがMCPにより構成される。そして、このMCMとSDRAMとが組み合わされて、例えば携帯電話機、デジタルスチルカメラ等の電子装置の主要回路が構成される。
マイコンとSDRAMの間において、アドレスバスは、2つのSDRAMのアドレス端子A0〜A12に対応された13本からなり、データバスは、2つのSDRAMのデータ端子DQ0〜DQ31に対応された32本からなる。上記マイコンは、上記アドレスバスに対してA2からA14のアドレス端子が接続され、上記データバスに対してはD0〜D31が接続される。マンコンは、SDRAMに対応されたCKIO、CKE、SC2B、CS3B、RASLB、CASLB、RD/WRBとWE3B/DQMUU,WE2B/DQMUL及びWE1B/DQMLU,WE0B/DQMLLの各制御出力端子を持ち、それぞれがSDRAMのCLK、CKE、CSB、RASB、CASB、WEBとDQM7,DQM5,DQM2,DQM0に接続される。この場合、SDRAMは、最大で2つのチップの接続が可能にされる。この2つのSDRAMは、マイコンで形成される2つのチップセレクト信号SC2B,SC3Bが割り当てられていずれか一方が選択される。1つのSDRAMが256Mビットのような記憶容量を持つ場合、2つで512Mビットのような記憶容量とされる。
図8において、各端子名にBを付したものは、図面上では端子名にオバーバーを付したロウレベルをアクティブレベルとする論理記号に対応している。上記端子WE3B/DQMUU,WE2B/DQMUL及びWE1B/DQMLU,WE0B/DQMLLは、マクス信号であり、上記32ビットからなるデータバスを8ビットずつ4組に分け、WE3B/DQMUU,WE2B/DQMUL及びWE1B/DQMLU,WE0B/DQMLLによりライト/リードの選択的なマスクを行う。
上記マイコンは、上記フラッシュメモリに対応したインターフェイスを備えている。つまり、フラッシュメモリは、データ端子I/O(7:0)と、制御信号WEB,SC,OEB,RDY/BusyB,CEBを備えている。これに対応して、マイコンにも、NA_IO(7:0)と、制御信号NA_WEB,NA_SC,NA_OEB,NA_RYBY,NA_CEBが設けられる。
上記データ端子I/O(7:0)は、コマンド、アドレス、及びデータの入出力に使用される。上記データ端子I/O(7:0)は、トライステートピンであり、上記CEB及びOEBによって無効にされたときにはハイインピーダンス状態に遷移する。CEBはチップイネーブル端子であり、ロウレベルによりデバイスを選択してアクティブ状態にする。この端子CEBをハイレベルにすると、デバイスはスタンバイ状態になり、イレーズ、プログラム、リライトのコマンド実行中にハイレベルにしても、コマンド実行は継続される。OEBは、出力イネーブル端子であり、ロウレベルへの立ち下がりエッジでデータ出力を開始する。また、ハイレベルへの立ち上がりエッジでデータ出力を終了する。特に制限されないが、シリアルリード時にはカラムアドレスをインクリメント(+1)する。WEBは、ライトイネーブル端子であり、ロウレベルからハイレベルへの立ち上がりエッジで、コマンド、アドレス、及びデータがデバイスに取り込まれる。
端子RDY/BusyBは、レディ/ビジー端子であり、デバイスのレディ(Ready)/ビジー(Busy)状態を示す出力端子である。この端子RDY/BusyBは、オープンドレイン端子であるので、使用時にはVCC側に抵抗でプルアップする必要がある。ロウレベルのときにはデバイスがビジー状態であることを示し、ハイレベルのときにはレディ状態であることを示す。SCは、シリアルクロック端子であり、このクロックに同期してデータ(コマンド、アドレス、データ)の入出力が行われる。
フラッシュメモリは、特に制限されないが、4Gビットのような記憶容量を持つようにされる。フラッシュメモリは、書き込み時間等の短縮化のためにホットエレクトロンを用いて書き込み動作を行うようにしたフラッシュメモリ(AG−AND)である。このメモリセルは、上記情報電荷を保持するフローティングゲート及びコントロールゲートの他に、ドレイン−ソース間に流れる書き込み電流を制御する第3のゲート電極(AG)が設けられる。この第3のゲート電極に供給される電圧AGを制御することで、上記ドレイン−ソース間電流を設定し、書き込み量を制御する。これに限定されず、メモリチップは、F−Nトンネル電流で書き込みと消去とを行う一括消去型不揮発性メモリであってもよい。いずれの場合でも、大記憶容量を得るために1つのメモリセルに2ビットの記憶情報を記憶させるような多値メモリとして動作させられる。
この構成では、フラッシュメモリでは端子数が少ないので、フラッシュメモリチップの1つの辺に全てを並べて配置させることができる。しがって、前記図1の実施例のように上記ボンディングパッド列をチップの4つの辺に沿って4組設けることが容易である。これに対して、マイコン側は上記SDRAMとの間だけでも54本もの端子が設けられるものであり、チップの4つの辺に沿って数百個のように多数のボンディングパッドが配置される。そして、これらのボンディングパッドの配置は、特定用途向に様々になるものである。
以上の説明したように、ある特定用途向のマイコン、例えばデジタルカメラ用、携帯電話用等においては、システム上マイコンと一体として搭載されるべきメモリ容量はほとんど同じである。このメモリとしてフラッシュメモリを事前にMCP用として、前記図2のような複数のボンディングパッド列を持つように設計、製造して置く。このメモリチップは、上記デジタルカメラ用、携帯電話用のすべてのマイコンに対してそれぞれ共通に用いることができ、大量生産によるコスト低減が可能となる。そして、MCPに組み立てる製造工程において、予め製造されたメモリチップを利用することができ製造コストも低減できる。これにより、MCPの設計、製造のコスト低減が可能となり、その量産性の向上を図ることができる。
以上本発明者によってなされた発明を、前記実施形態に基づき具体的に説明したが、本発明は、前記実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能である。例えば、第1半導体チップは、前記マイコンの他に論理系の半導体チップであればよい。第2半導体チップは、フラッシュメモリの他、上記第1半導体チップと組み合わされて動作するものであって、ボンディングパッドを複数組設けることが可能なものであれば何であってもよい。
例えば第2半導体チップは、それと組み合わされる第1半導体チップとしてのマイコンがSDRAM用インターフェイスが無いものでは、マンコンからSDRAMをアクセスするためのメモリコントローラであってもよい。あるいはマイコンとフラッシュメモリとの間に介在し、フラッシュメモリの欠陥ブロック管理、エラー訂正等の複雑なメモリ管理、一定のエリアに対する書き換えの集中を抑制するためにある一定の書き換え回数ごとにフラッシュメモリのブロックアドレスを置換する書き換え回数平準化処理機能や、アドレスやコマンドを入力することなくデータを読み出すことを可能とするオートリード機能、あるいはデータ保護機能を搭載したコントローラであってもよい。この発明は、MCP又はSiP構造の半導体装置として広く利用することができる。
100…搭載基板、101,102…リード、103…外部端子(はんだボール)、200…第1半導体チップ(マイコン)、201…ボンディングパッド、202…ワイヤ、203…ダイボンドフィルム、300,306…第2半導体チップ(フラッシュメモリ)、301,307…ボンディングパッド、302〜304,308…ワイヤ、305,309…ダイボンドフィルム、400…モールドレジン、500…スペーサ、501…ダイボンドフィルム。
Claims (9)
- 搭載基板と、
上記搭載基板上に搭載された第1半導体チップと、
上記第1半導体チップ上に搭載され、上記第1半導体チップと組み合わされて動作する第2半導体チップとを備え、
上記第2半導体チップは、
同じ内部ノードに共通に接続された複数組のボンディングパッド列を有し、
各組のボンディングパッド列は4つの辺に分散して設けられ、
上記複数組間で共通に接続された複数のボンディングパッドは、接続されるべき上記第1半導体チップのボンディングパッド又は上記搭載基板に設けられたリードの配置に対応した1つが選ばれて接続される半導体装置。 - 請求項1において、
上記第1半導体チップは、論理系回路であり、
上記第2半導体チップは、上記論理系回路によりアクセスされるメモリチップである半導体装置。 - 請求項2において、
上記論理系回路は、マイクロコンピュータチップである半導体装置。 - 請求項3において、
上記第1半導体チップは、それに設けられたボンディングパッドと上記搭載基板のリードとの間がワイヤにより接続される半導体装置。 - 請求項4において、
上記メモリチップは、データ、アドレス及びコマンドが共通の入出力端子から時分割的に入出力されるインターフェイス回路を持つ不揮発性メモリチップである半導体装置。 - 請求項5において、
上記複数のボンディングパッド列は、上記インターフェイス回路に対応した4組からなり、上記不揮発性メモリチップの4つの辺のそれぞれに配置される半導体装置。 - 搭載基板上に第1半導体チップを搭載する工程と、
同じ内部ノードに共通に接続された複数組のボンディングパッド列を有し、各組のボンディングパッド列が4つの辺に分散して設けられた第2半導体チップを上記第1半導体チップ上に搭載する工程と、
上記第1半導体チップのボンディングパッドと上記搭載基板の対応するリードとをワイヤにより接続する第1ワイヤボンディング工程と、
上記複数組間で共通に接続された複数のボンディングパッドのうち、接続されるべき上記第1半導体チップのボンディングパッド又は上記搭載基板に設けられたリードの配置に対応した1つを選んでワイヤにより接続する第2ワイヤボンディング工程とを備えて半導体装置の製造方法。 - 請求項7において、
上記第1半導体チップは、回路機能が異なる複数の半導体チップであり、
上記第2半導体チップは、上記複数の半導体チップに共通に組み合わされる半導体装置の製造方法。 - 請求項8において、
上記第1半導体チップは、マイクロコンピュータチップであり、
上記第2半導体チップは、データ、アドレス及びコマンドが共通の入出力端子から時分割的に入出力されるインターフェイス回路を持つメモリチップである半導体装置の製造方法。
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
JP2006073983A JP2007250935A (ja) | 2006-03-17 | 2006-03-17 | 半導体装置と半導体装置の製造方法 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010219539A (ja) * | 2009-03-12 | 2010-09-30 | Apple Inc | チップオンチップ及びパッケージオンパッケージ技術のための柔軟なパッケージング |
US8811055B2 (en) | 2011-09-19 | 2014-08-19 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Semiconductor memory device |
-
2006
- 2006-03-17 JP JP2006073983A patent/JP2007250935A/ja active Pending
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