JP2007084685A - ハードコートフィルム - Google Patents

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Abstract

【課題】ハードコートフィルムにおいて、フィルムのカール性が顕著に抑制され、且つ高い鉛筆硬度を実現し、耐引っ掻き性、ハードコート層と透明基板間の密着性、耐擦傷性の優れたハードコートフィルムが得られる。
【解決手段】透明基板上に、ハードコート層を有してなるハードコートフィルムであって、ハードコート層が、3つ以上のラジカル重合性二重結合を持つ重量平均分子量5000〜100,000のビニル重合体(A)と、分子内に少なくとも3つ以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物(B)とを含む電離放射線硬化型組成物を硬化させたものであることを特徴とするハードコートフィルムである。
【選択図】 なし

Description

本発明は、テレビ、コンピューター、カーナビゲーションシステム、車載用計器盤、携帯電話等の画像表示装置として用いられる、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、ELディスプレイ、リアプロジェクションディスプレイ、CRTディスプレイ等各種ディスプレイにおいて、ディスプレイ表面を保護する目的で設けるハードコートフィルムに関する。
従来から、CRT、PDP、LCD、ELD等の画像表示装置、特にPDP、LCD、ELDなどの表面がフラットな画像表示装置に用いられるハードコートフィルムは、光学特性の他にも、耐擦傷性、鉛筆硬度、耐薬品性、耐候性等が要求されるため、通常、熱硬化型樹脂、あるいは紫外線硬化型等の電離放射線硬化樹脂を透明基板上に直接、あるいはプライマー層を介して4〜20μm程度の薄い塗膜を形成して製造される。
しかしながら、従来のハードコートフィルムは、そのハードコート層の硬度が十分なものであっても、その塗膜厚が薄いことに起因して、下地の透明基板が変形した場合に、それに応じてハードコート層も変形し、ハードコートフィルム全体としての硬度が低下するという問題があった。一方、ハードコート層の厚みを通常の4〜20μmよりも単に厚くすれば、得られたハードコートフィルムの硬度は向上するが、ハードコート層の割れや剥がれが生じやすくなると同時に硬化収縮によるハードコートフィルムのカールが大きくなるという問題がある。また、更にハードコート層の硬度を向上させる目的で、電離放射線硬化樹脂の架橋率を高める方法もあるが同様にハードコートフィルムのカールが大きくなる。
カールが大きいと、次工程のディスプレイ表面への貼り合わせ工程での生産性、あるいは貼り合わせ後の耐久性等を著しく低下させるため、透明基板上にハードコート層を設ける場合は、ハードコート層の厚さ、電離放射線硬化樹脂の架橋率を制限しなければならない。そのため、次工程に支障のないハードコート層の厚さでは、鉛筆硬度は2H〜3Hが限度となる場合が多かった。
低カールと高い鉛筆硬度を両立させるために、透明プラスチックフィルムもしくはシート基材の少なくとも一方の面に、紫外線硬化樹脂のビッカース硬度を規定し、2層のハードコート層を設ける手法が特許文献1に記載されている(特許文献1:特開2000−127281号公報参照)。
しかしながら、この手法は紫外線硬化樹脂のみを使用すると、カールが大きくなることが記載されており、カールを改善するためにハードコート層にシリカ等の微粒子を含有させている。しかしながら、このような微粒子を含有するハードコート層ではフィルムの透過率が低下するため、各種画像表示装置に使用すると、コントラストが低下するという問題がある。
また、同じく低カールと高い鉛筆硬度を両立させるために、透明プラスチックフィルムもしくはシート基材の少なくとも一方の面に、第1ハードコート層として無機質あるいは有機質の内部架橋超微粒子含有硬化樹脂層を設け、更に第2ハードコート層として超微粒子を含有しないクリア硬化樹脂層を設ける手法が特許文献2に記載されている(特許文献2:特開2000−52472号公報参照)。
しかしながら、この手法は特許文献1と同様に、微粒子を含有するハードコート層ではフィルムの透過率が低下するため、各種画像表示装置に使用すると、コントラストが低下する問題がある。
同様に、低カールと高い鉛筆硬度を両立させるために、透明樹脂フィルムの少なくとも一方の面に2層以上のハードコート層を設け、かつ各層の厚さとハードコート層全体の厚さを規定する手法が特許文献3に記載されている(特許文献3:特開2005−53152号公報参照)。
しかしながら、この手法は2層以上のハードコート層を設けるため、塗工工程が煩雑になり、生産コストも1層のハードコート層を塗工する場合と比較し高くなるという問題がある。
特開2000−127281号公報 特開2000−52472号公報 特開2005−53152号公報
本発明の目的は、1層のハードコート層で、優れたハードコート性と低カールを有するハードコートフィルムを提供することにある。
本発明者らは、上記課題に鑑み鋭意検討した結果、透明基板上に、ハードコート性を有する多官能(メタ)アクリレートに、高分子量で多量の(メタ)アクリロイル基がペンダントされた樹脂を特定の比率で組み合わせた、電離放射線硬化型樹脂組成物を硬化せしめてなるハードコート層が、これらの欠点を解消し得ることを見出し、本発明を完成した。
即ち、本発明は、透明基板上に、ハードコート層を有してなるハードコートフィルムであって、
前記ハードコート層が、3つ以上のラジカル重合性二重結合を持つ重量平均分子量5000〜100,000のビニル重合体(A)と、分子内に少なくとも3つ以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物(B)とを含む電離放射線硬化型組成物を硬化させてなることを特徴とするハードコートフィルムに関する。
また、本発明は、ビニル重合体(A)が、ラジカル重合性二重結合および反応性官能基を有する単量体(a)50〜100重量%と、(a)以外のラジカル重合性二重結合を有する単量体0〜50重量%(b)とを含む単量体を重合してなる重合体(A−1)に、前記反応性官能基と反応可能な官能基およびラジカル重合性二重結合を有する化合物(A−2)とを反応させてなる重合体であることを特徴とする上記ハードコートフィルムに関する。
また、本発明は、電離放射線硬化型組成物が、固形物換算で、ビニル重合体(A)を5〜99重量%と、分子内に少なくとも3つ以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物(B)とを1〜95重量%含有することを特徴とする上記ハードコートフィルムに関する。
また、本発明は、さらに、光開始剤を含むことを特徴とする上記ハードコートフィルムに関する。
また、本発明は、ビニル重合体(A)のラジカル重合性二重結合当量が、180〜500g/eqであることを特徴とする上記ハードコートフィルムに関する。
また、本発明は、ハードコート層の厚さが、4〜20μmであり、かつ
鉛筆硬度で表される表面硬度が、3H以上であることを特徴とする上記ハードコートフィルムに関する。
本発明のハードコートフィルムは、従来両立が困難であった低カールと高い鉛筆硬度を有し、かつ透過率、密着性に優れている。このような特性に優れたハードコートフィルムを用いた画像表示装置は、従来両立し難かった耐引っ掻き性、コントラストに優れる。
本発明において、透明基板としては、特に限定されないが、例えばポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、
ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース(TAC)等のセルロース系ポリマー、
ポリカーボネート系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー等の透明ポリマーからなるフィルムが挙げられる。
また、ポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体等のスチレン系ポリマー、
ポリエチレン、ポリプロピレン、環状ないしノルボルネン構造を有するポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体等のオレフィン系ポリマー、
塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー等の透明ポリマーからなるフィルムも挙げられる。
更にイミド系ポリマー、サルホン系ポリマー、ポリエーテルサルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニルスルフィド系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマーや前記ポリマーのブレンド物等の透明ポリマーからなるフィルム等も挙げられる。特に複屈折率の少ないものが好適に用いられる。
また、これらフィルムに更にアクリル系樹脂、共重合ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、スチレン−マレイン酸グラフトポリエステル樹脂、アクリルグラフトポリエステル樹脂等の樹脂層を設けたいわゆる易接着タイプのフィルムも用いることができる。
透明基板の厚さは、適宜に決定しうるが、一般には強度や取り扱い等の作業性、薄層性等の点より10〜500μm程度である。特に20〜300μmが好ましく、30〜200μmがより好ましい。
本発明で用いられる3つ以上のラジカル重合性二重結合を持つ重量平均分子量5000〜100,000のビニル重合体(A)としては、例えばラジカル重合性二重結合および反応性官能基を有する単量体(a)と、必要に応じて(a)以外のラジカル重合性二重結合を有する単量体(b)とをラジカル重合させた後、前記反応性官能基と反応可能な官能基およびラジカル重合性二重結合を有する化合物を反応させることにより得られる。
また、(a)以外のラジカル重合性二重結合を有する単量体(b)は、ラジカル重合性二重結合を2つ以上有する単量体(b’)に一部置き換えることもできる。単量体(b’)が少量の場合、ゲル化することなく所期のビニル重合体を得ることができる。また、単量体(b’)のラジカル重合性二重結合の一部または全部にブロック基を付加させて保護することにより、よりゲル化し難くすることもできる。
ラジカル重合性二重結合および反応性官能基を有する単量体(a)は、一段目に重合した重合体(A−1)にラジカル重合性二重結合を導入する起点となり、導入されたラジカル重合性二重結合が電離放射線で架橋させてセットすることにより、ビニル重合体のブリードを抑制し、強靱な隔壁を形成させるためのものである。
本発明において、反応性官能基としては、例えば、ヒドロキシ基、カルボキシル基、イソシアネート基、エポキシ基等が挙げられる。
ヒドロキシ基を有する単量体(a)として具体的には、2−ヒドロキシエチル
(メタ)アクリレート、1−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリテトラメチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ヒドロキシスチレン等が挙げられる。
カルボキシル基を有する単量体(a)として具体的には、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸等が挙げられる。
イソシアネート基を有する単量体(a)として具体的には、(メタ)アクリロ
イルオキシエチルイソシアネート、(メタ)アクリロイルオキシプロピルイソシアネート等や、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートと、トルエンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等のポリイソシアネートとを反応させて得られるものが挙げられる。
エポキシ基を有する単量体(a)として具体的には、グリシジルメタクリレート、グリシジルシンナメート、グリシジルアリルエーテル、グリシジルビニルエーテル、ビニルシクロヘキサンモノエポキサイド、1、3−ブタジエンモノエポキサイドなどが挙げられる。
単量体(a)は、要求性能に応じて1種、または2種以上を混合して用いることができる。
重合体(A)における単量体(a)の共重合比率は、重合体を構成する単量体の総重量を基準として50〜100重量%であることが好ましく、さらに好ましくは70〜100重量%である。単量体(a)の共重合比率が50重量%未満の場合には、電離放射線硬化物が十分な耐擦傷性、塗膜硬度を得ることが困難となることがある。
(a)以外のラジカル重合性二重結合を有する単量体(b)は、ビニル重合体と電離放射線硬化型組成物に含まれる他の成分との相溶性の向上、および硬化物に硬度、強靭性、耐擦傷性等の物性を付与するために用いられる。単量体(b)としては、(i)(メタ)アクリル酸誘導体、(ii)芳香族ビニル単量体、(iii)オレフィン系炭化水素単量体、(iv)ビニルエステル単量体、(v)ビニルハライド単量体、(vi)ビニルエーテル単量体等が挙げられる。
(i)(メタ)アクリル酸誘導体として具体的には、(メタ)アクリロニトリル、メチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート等のアルキル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
(ii)芳香族ビニル単量体として具体的には、スチレン、メチルスチレン、エチルスチレン、クロロスチレン、モノフルオロメチルスチレン、ジフルオロメチルスチレン、トリフルオロメチルスチレン等のスチレン類が挙げられる。
(iii)オレフィン系炭化水素単量体として具体的には、エチレン、プロピレン、ブタジエン、イソブチレン、イソプレン、1、4−ペンタジエン等が挙げられる。
(iv)ビニルエステル単量体として具体的には、酢酸ビニル等が挙げられる。
(v)ビニルハライド単量体として具体的には、塩化ビニル、塩化ビニリデン等が挙げられる。
(vi)ビニルエーテル単量体として具体的には、ビニルメチルエーテル等が挙げられる。
これらの単量体は、2種以上を混合して用いても良い。
重合体(A)における単量体(b)の共重合比率は、重合体を構成する単量体の総重量を基準として0〜50重量%であることが好ましい。単量体(b)の共重合比率が上記範囲を超えた場合には、電離放射線硬化物が十分な耐擦傷性、塗膜硬度を得ることが困難となり、また透明基材との充分な密着性が得られないことがある。
重合体(A)は、公知の方法、例えば、溶液重合で合成することができる。重合時の溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテルなどのグリコールエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クメンなどの芳香族類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類などの使用が可能である。溶媒は、2種以上を混合して用いてもよい。重合時の単量体の仕込み濃度は、0〜80重量%が好ましい。
重合開始剤としては、通常の過酸化物またはアゾ化合物、例えば、過酸化ベンゾイル、アゾイソブチルバレノニトリル、アゾビスイソブチロニトリル、ジ−t−ブチルペルオキシド、t−ブチルペルベンゾエート、t−ブチルペルオクトエート、クメンヒドロキシペルオキシドなどが用いられ、重合温度は、好ましくは50〜140℃、さらに好ましくは70〜140℃である。
このようにして得られた反応性官能基を有する重合体(A−1)に、前記反応性官能基と反応可能な官能基およびラジカル重合性二重結合を有する化合物(A−2)を反応させることにより、ラジカル重合性二重結合を有するビニル重合体(A)が得られる。
反応性官能基を有する重合体(A−1)と化合物(A−2)とは、反応性官能基重合体(A−1)が有する反応性官能基の数に対し、該反応性官能基と反応可能な官能基の数が100%となる割合で反応させることが好ましい。もちろん、光反応性を損なわない範囲であれば、100%未満となる割合で反応させてもよい。
反応性官能基と、該反応性官能基と反応可能な官能基との組み合わせとしては、以下に示すような公知の種々の組み合わせと反応方法を採用することができる。
1)反応性官能基がヒドロキシ基である場合、代表的な反応可能な官能基は、酸ハロゲン基、イソシアネート基が挙げられ、具体的には、(メタ)アクリル酸クロライドあるいはメタクリロキシエチルイソシアネートとの反応により、ラジカル重合性二重結合を導入できる。
(メタ)アクリル酸クロライドとの反応は、ヒドロキシル基を有するポリマーの溶液に触媒を添加し、(メタ)アクリル酸クロライドを加え加熱することにより進められる。溶媒としては、2−ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のエステル類、エチレングリコールジメチルエーテル、ジオキソラン等のエーテル類等の溶液を用いることができる。触媒としてはトリエチルアミン、ジメチルベンジルアミン等が好ましく、触媒量は固形分に対し0.1〜1重量%である。反応はゲル化抑制のため空気下で行い、反応温度は80〜120℃で反応時間は1〜24時間である。
メタクリロキシエチルイソシアネートとの反応は、ヒドロキシル基を有するポリマーの溶液に触媒としてオクチル酸スズ、ジブチルジラウリン酸錫、オクチル酸亜鉛等の金属化合物、あるいはトリエチルアミン、トリブチルアミン、ジメチルベンジルアミン等の3級アミンを0.05〜1PHR(Per Hundred Resin)触媒として添加し、加熱下メタクリロキシエチルメタクリレートを加えることにより進められる。溶媒としては、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のエステル類、エチレングリコールジメチルエーテル、1,3−ジオキソラン等のエーテル類等の溶液を用いることができる。
2)反応性官能基がエポキシ基である場合、代表的な反応可能な官能基は、カルボキシル基が挙げられ、具体的には(メタ)アクリル酸との反応により、ラジカル重合性二重結合を導入できる。
(メタ)アクリル酸との反応は、エポキシ基を有するポリマーの溶液に触媒を添加し、(メタ)アクリル酸を添加して加熱することにより進められる。反応条件としては、上記、1)反応性官能基がヒドロキシ基である場合と同様の条件が勧められるが、触媒としては、3級アミンが最も好ましい。
カルボキシル基とラジカル重合性二重結合を持つ化合物としては、(メタ)アクリル酸の他に、ペンタエリスリトールトリアクリレート無水コハク酸付加物、(メタ)アクリロキシエチルフタレートが挙げられる。
3)反応性官能基がイソシアネート基である場合、代表的な反応可能な官能基は水酸基が挙げられ、具体的にはヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートのε−カプロラクトン付加物等が挙げられ、反応条件としては、上記、1)反応性官能基がヒドロキシ基である場合と同様の条件が好ましい。
本発明で用いられる3つ以上のラジカル重合性二重結合を持つビニル重合体(A)の分子量としては、重量平均分子量が5000〜100,000であることが好ましい。重量平均分子量が5000未満では、低カール性と高い鉛筆硬度を両立させることが難しく、100,000を超えると電離放射線硬化型組成物を使用した塗液の粘度が高く、レベルング性が劣り問題となる。
本発明で用いられる3つ以上のラジカル重合性二重結合を持つビニル重合体(A)のラジカル重合性二重結合当量としては、180〜500g/eqであることが好ましい。さらに好ましくは、200〜350g/eqである。ビニル重合体(A)のラジカル重合性二重結合当量が180g/eq未満では電離放射線硬化物の低カール性を保持する事が難しく、500g/eqを超えると高い鉛筆硬度を保持することが難しいことがある。
本発明における、分子内に少なくとも3つ以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物(B)は、硬化皮膜の耐摩耗性、強靱性、密着性を発現させるために用いられる。具体的な例を挙げると、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、EO変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、PO変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,2,3−シクロヘキサンテトラ(メタ)アクリレート等の多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル化合物;
ポリウレタンポリ(メタ)アクリレート、ポリエステルポリ(メタ)アクリレート、ポリエーテルポリ(メタ)アクリレート、ポリアクリルポリ(メタ)アクリレート、ポリアルキッドポリ(メタ)アクリレート、ポリエポキシポリ(メタ)アクリレート、ポリスピロアセタールポリ(メタ)アクリレート、ポリブタジエンポリ(メタ)アクリレート、ポリチオールポリエンポリ(メタ)アクリレート、ポリシリコンポリ(メタ)アクリレート等の多官能化合物のポリ(メタ)アクリレート化合物;
多価アルコールと多塩基酸及び(メタ)アクリル酸とから合成されるエステル化合物、例えばトリメチロールエタン/コハク酸/アクリル酸=2/1/4モルから合成されるエステル化合物等が挙げられる。
分子内に少なくとも3つ以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物(B)のうち、塗膜強度、耐擦傷性の観点より、少なくとも3つの官能基を有するポリウレタンポリ(メタ)アクリレート、ポリエポキシポリ(メタ)アクリレート等のポリ(メタ)アクリレート類、分子内に3個以上のアクリロイル基を有する多官能のアクリレート類が好適に使用することができる。
ポリエポキシポリ(メタ)アクリレートは、エポキシ樹脂のエポキシ基を(メタ)アクリル酸でエステル化し官能基を(メタ)アクリロイル基としたものであり、ノボラック型エポキシ樹脂への(メタ)アクリル酸付加物等がある。
ポリウレタンポリ(メタ)アクリレートは、例えば、ジイソシアネートと水酸基を有する(メタ)アクリレート類と反応させて得られるもの、ポリオールとポリイソシアネートとをイソシアネート基過剰の条件下に反応させてなるイソシアネート基含有ウレタンプレポリマーを、水酸基を有する(メタ)アクリレート類と反応させて得られるものがある。あるいは、ポリオールとポリイソシアネートとを水酸基過剰の条件下に反応させてなる水酸基含有ウレタンプレポリマーを、イソシアネート基を有する(メタ)アクリレート類と反応させて得ることもできる。
ポリオールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ブチレングリコール、1,6−ヘキサンジオール、3−メチル−1,5−ペンタングリコール、ネオペンチルグリコール、ヘキサントリオール、トリメリロールプロパン、ポリテトラメチレングリコール、アジピン酸とエチレングリコールとの縮重合物等が挙げられる。
ポリイソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、水素添加キシレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−4,4’−ジイソシアネート、水素添加ジフェニルメタン−4,4’−ジイソシアネート、ノルボルナンージイソシアネートメチル、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等が挙げられる。
水酸基をもつ(メタ)アクリレート類としては、2−ヒドロキシエチルアクリレート,2−ヒドロキシプロピルアクリテート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート等が挙げられる。
イソシアネート基を有する(メタ)アクリレート類としては、(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシアネート、(メタ)アクリロイルオキシプロピルイソシアネート、(メタ)アクリロイルイソシアネート等が挙げられる。
これら分子内に少なくとも3つ以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物(B)は、単独または2種以上の混合物が好ましい。
本発明の電離放射線硬化型組成物は光開始剤を使用することもできる。光開始剤の例としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエール、アセトイン、ブチロイン、トルオイン、ベンジル、ベンゾフェノン、p−メトキシベンゾフェノン、ジエトキシアセトフェノン、α,α−ジメトキシ−α−フェニルアセトフェノン、メチルフェニルグリオキシレート、エチルフェニルグリオキシレート、4,4−ビス(ジメチルアミノベンゾフェノン)、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン等のカルボニル化合物;テトラメチルチウラムジスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド等の硫黄化合物;アゾビスイソブチロニトリル、アゾビス−2,4−ジメチルバレロニトリル等のアゾ化合物;ベンゾイルパーオキシド、ジターシャリーブチルパーオキシド等のパーオキシド化合物;2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等のホスフィンオキサイド化合物を挙げることができる。これらの光開始剤は、放射線硬化型組成物全体中に0.1〜20重量%、望ましくは1〜10重量%の割合で使用することができる。0.1重量%未満では重合開始効果が得られず、20重量%を超えると硬化膜に可塑剤としてはたらき硬度低下の原因となってしまうことがある。また、上記光開始剤1種類だけでなく数種類組み合わせて使用することもできる。
また、本発明の電離放射線硬化型組成物中には必要に応じて、有機溶剤、光増感剤、光安定剤、紫外線吸収剤、触媒、着色剤、帯電防止剤、滑剤、レベリング剤、消泡剤、重合促進剤、酸化防止剤、難燃剤、赤外線吸収剤、界面活性剤、表面改質剤、チキソトロピー剤等の添加成分を含ませることは任意である。
有機溶剤は電離放射線硬化型組成物の均一溶解性、分散安定性、さらには基材との密着性及び被膜の平滑性、均一性などの面から、電離放射線硬化型組成物中に配合して用いられ、有機溶剤として特に限定されるものではなく、上記性能を満足するものであればよい。具体的には、例えばトルエン、キシレン等の芳香族系溶媒;メチルアルコール、エチルアルコール、n−プロピルアルコール、iso−プロピルアルコール、n−ブチルアルコール、iso−ブチルアルコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール系溶媒;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート等のエステル系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒;2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、2−ブトキエタノール、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル等のグリコールエーテル類;2−メトキシエチルアセタート、2−エトキシエチルアセタート、2−ブトキシエチルアセタート、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート等のグリコールエーテルエステル類;クロロホルム、ジクロロメタン、トリクロロメタン、塩化メチレン等の塩素系溶媒;テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキソラン等のエーテル系溶媒;N−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミド等の1種または2種以上を混合して用いることができる。
光増感剤としては、例えばn−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、ポリ−n−ブリルホスフィン等が挙げられ、これらの光増感剤は2種以上を適宜併用することもできる。
電離放射線硬化型樹脂組成物を透明基材に形成する方法としては、電離放射線硬化型樹脂組成物をバーコーティング、ブレードコーティング、スピンコーティング、リバースコーティング、ダイティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、マイクログラビアコーティング、リップコーティング、エアーナイフコーティング、ディッピング法等の塗工方法で透明基材に塗工した後、必要に応じ溶剤を乾燥させ、更に電離放射線を照射することにより、塗工した電離放射線硬化型樹脂組成物を架橋硬化せしめることによって形成される。電離放射線硬化型組成物の塗布量としては、硬化被膜の膜厚が4〜20μm、好ましくは4〜15μm、特に好ましくは5〜10μmである。硬化被膜の膜厚が4μm未満では十分な鉛筆硬度、耐摩耗性が得られず、20μmを超える場合は、基材との密着性が低下したり、被膜にクラックが発生しやすくなったりする。
電離放射線としては、電子線及び紫外線を用いることが好ましい。紫外線発生源としては実用的、経済性の面から紫外線ランプが一般に用いられており、具体的には、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、メタルハライドランプなどが挙げられる。照射する雰囲気は電子線の場合、窒素等不活性ガス中でなくてはならないが、紫外線の場合は空気中でもよいし、窒素、アルゴン等の不活性ガス中でもよい。また、通常20〜2000KeVのコックロフワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の電子線加速器から取り出される電子線、α線、β線、γ線等を用いることもできる。
本発明において、鉛筆硬度とは、JISK5400に準じた鉛筆硬度試験によって得られる値であり、被測定材料の硬度を表す。該鉛筆硬度試験は、鉛筆硬度試験の測定操作を5回繰り返して行い、4回傷等の外観異常が認められなかった場合に、その試験時に使用した鉛筆の硬度を鉛筆硬度とする。
なお、本発明のハードコートフィルムは鉛筆硬度が3H以上であることがより好ましい。
以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれら具体例のみに限定されるものではない。なお、例中、部および%は、重量部および重量%を示す。また、重合体の重量平均分子量は、GPC(ポリスチレン換算)で測定した。
[合成例1:IPDIアダクトの合成]
イソホロンジイソシアネート(IPDI)222部を空気下1Lの4つ口フラスコ内で80℃に加熱後、2−ヒドロキシエチルアクリレート116部およびハイドロキノン0.13部を2時間かけて滴下し、次いで80℃で3時間反応させ、液状のイソシアネート基1個とラジカル重合性二重結合を1個有する化合物(IPDIアダクト体、分子量338)を得た。
[合成例2:ビニル重合体1の合成]
2−ヒドロキシエチルメタアクリレート117部、ブチルメタアクリレート14部、メチルエチルケトン(MEK)262部を、冷却管、撹拌装置、温度計を備えた4つ口フラスコに仕込み、窒素気流下で撹拌しながら80℃まで昇温した。次いで、アゾビスイソブチルニトリル3.9部を加えて2時間重合反応し、さらにアゾビスイソブチルニトリル1.3部を加えて2時間重合反応を行った。さらに、IPDIアダクト304部、オクチル酸錫1部をMEK20部で溶解したものを約10分で滴下し、滴下後4時間反応させた。この溶液に不揮発分が30%になるようにメチルイソブチルケトン(MIBK)を添加して、3つ以上のラジカル重合性二重結合を持つビニル重合体(1)を得た。このビニル重合体(1)の重量平均分子量は約19,000、ラジカル重合性二重結合当量は483g/eqであった。
[合成例3:ビニル重合体2の合成]
メタクリロイルオキシエチルアクリレート109部、ブチルメタアクリレート43部、メチルエチルケトン(MEK)304部を、冷却管、撹拌装置、温度計を備えた4つ口フラスコに仕込み、窒素気流下で撹拌しながら80℃まで昇温した。次いで、アゾビスイソブチルニトリル2.4部を加えて2時間重合反応し、さらにアゾビスイソブチルニトリル0.6部を加えて2時間重合反応を行った。さらに、2−ヒドロキシエチルメタアクリレート91部、オクチル酸錫1.5部をMEK20部で溶解したものを約10分で滴下し、滴下後4時間反応させた。この溶液に不揮発分が30%になるようにメチルイソブチルケトン(MIBK)を添加して、3つ以上のラジカル重合性二重結合を持つビニル重合体(2)を得た。このビニル重合体(2)の重量平均分子量は約21,000、ラジカル重合性二重結合当量は347g/eqであった。
[合成例4:ビニル重合体3の合成]
グリシジルメタアクリレート142部、メチルイソブチルケトン(MIBK)284部を、冷却管、撹拌装置、温度計を備えた4つ口フラスコに仕込み、窒素気流下で撹拌しながら90℃まで昇温した。次いで、アゾビスイソブチルニトリル4.1部を加えて2時間重合反応し、さらにアゾビスイソブチルニトリル1.41部を加えて2時間重合反応を行った。次いで、100℃まで昇温し流入ガスを窒素から空気に変更し、ジメチルベンジルアミン1.4部を加えた後、アクリル酸72部を約10分で滴下し、滴下後10時間反応させた。この溶液に不揮発分が30%になるようにメチルイソブチルケトン(MIBK)を添加して、3つ以上のラジカル重合性二重結合を持つビニル重合体(3)を得た。このビニル重合体(3)の重量平均分子量は約17,000、ラジカル重合性二重結合当量は214g/eqであった。
[合成例5:ビニル重合体4の合成]
グリシジルメタアクリレート114部、ブチルメタアクリレート28部、メチルイソブチルケトン(MIBK)284部を、冷却管、撹拌装置、温度計を備えた4つ口フラスコに仕込み、窒素気流下で撹拌しながら90℃まで昇温した。次いで、アゾビスイソブチルニトリル4.1部を加えて2時間重合反応し、さらにアゾビスイソブチルニトリル1.4部を加えて2時間重合反応を行った。次いで、100℃まで昇温し流入ガスを窒素から空気に変更し、ジメチルベンジルアミン1.1部を加えた後、アクリル酸58部を約10分で滴下し、滴下後10時間反応させた。この溶液に不揮発分が30%になるようにメチルイソブチルケトン(MIBK)を添加して、3つ以上のラジカル重合性二重結合を持つビニル重合体(4)を得た。このビニル重合体(4)の重量平均分子量は約18,000、ラジカル重合性二重結合当量は250g/eqであった。
[合成例6:ビニル重合体5の合成]
グリシジルメタアクリレート43部、ブチルメタアクリレート99部、メチルイソブチルケトン(MIBK)284部を、冷却管、撹拌装置、温度計を備えた4つ口フラスコに仕込み、窒素気流下で撹拌しながら90℃まで昇温した。次いで、アゾビスイソブチルニトリル4.1部を加えて2時間重合反応し、さらにアゾビスイソブチルニトリル1.4部を加えて2時間重合反応を行った。次いで、100℃まで昇温し流入ガスを窒素から空気に変更し、ジメチルベンジルアミン0.4部を加えた後、アクリル酸22部を約10分で滴下し、滴下後10時間反応させた。この溶液に不揮発分が30%になるようにメチルイソブチルケトン(MIBK)を添加して、3つ以上のラジカル重合性二重結合を持つビニル重合体(5)を得た。このビニル重合体(5)の重量平均分子量は約20,000、ラジカル重合性二重結合当量は547g/eqであった。
[実施例1]
合成例2で合成したビニル重合体(1)33部、分子内に少なくとも3つ以上のアクリロイル基を有する化合物として、カヤラッドDPHA(日本化薬社製:6官能)90部、MEK77部、光重合開始剤として、イルガキュア184(チガスペシャリティケミカルズ社)5部を加え溶解し、固形分50%のハードコート塗工液を調製した。次いで、厚さ80μmのトリアセチルセルロースフィルム(富士写真フィルム社製)にハードコート塗工液をバーコーターを用いて塗布し、100℃−1分で乾燥後させた。その後窒素パージによって0.3%以下酸素濃度雰囲気にて、高圧水銀ランプを用いて紫外線を照射量400mJ/cm2で照射して塗布層を硬化させ、厚さ8μmのハードコート層を形成した。得られたハードコートフィルムについて、以下に示した方法にて評価した。その評価結果を表1に示した。
(1)ヘイズ:ヘイズメーター300A(東京電色社製)を用いてヘイズ値を
測定。
(2)鉛筆硬度:異なる硬度の鉛筆を用い、500g荷重下でJIS K540 0で示される試験法での傷の有無を判定した。
(3)密着性試験:JIS K5400に準じ、塗膜に碁盤目の切り込み(1m m×1mm、100桝)を入れ、セロハン粘着テープによる剥離試験を実施し た。数値は残存数で示した(100:塗膜剥離無し、0:すべて剥離)。
(4)耐擦傷性:スチールウール#0000を用い、500gの荷重を加えなが ら10往復し、傷の発生の有無および傷の程度を目視により判定評価した。
○ : 傷の発生が全く認められない
△ : 数本の細かい傷が認められる
× : 無数の傷が認められる。
(5)カール性:得られたハードコートフィルムを25℃−50%RHの雰囲気 中に、ハードコート面を上にして放置した。その後、10cm×10cmに切 ったサンプルの1辺部を押さえ、残りのエッジの浮き上がりで評価した。
○ : 浮き上がりが2cm未満
△ : 浮き上がりが2cm以上4cm未満
× : 浮き上がりが4cm以上
[実施例2]
合成例3で合成したビニル重合体(2)67部、分子内に少なくとも3つ以上のアクリロイル基を有する化合物として、カヤラッドDPHA(日本化薬社製:6官能)80部、MEK53部、光重合開始剤として、イルガキュア184(チガスペシャリティケミカルズ社)5部を加え溶解し、固形分50%のハードコート塗工液を調製した。次いで、厚さ80μmのトリアセチルセルロースフィルム(富士写真フィルム社製)にハードコート塗工液をバーコーターを用いて塗布し、100℃−1分で乾燥後させた。その後窒素パージによって0.3%以下酸素濃度雰囲気にて、高圧水銀ランプを用いて紫外線を照射量400mJ/cm2で照射して塗布層を硬化させ、厚さ9μmのハードコート層を形成した。得られたハードコートフィルムについて評価結果を表1に示した。
[実施例3]
合成例4で合成したビニル重合体(3)100部、分子内に少なくとも3つ以上のアクリロイル基を有する化合物として、ウレタンアクリレート系紫外線硬化型樹脂である紫光UV1700B(日本合成社製:10官能)70部、MEK30部、光重合開始剤として、イルガキュア184(チガスペシャリティケミカルズ社)5部を加え溶解し、固形分50%のハードコート塗工液を調製した。次いで、厚さ80μmのトリアセチルセルロースフィルム(富士写真フィルム社製)にハードコート塗工液をバーコーターを用いて塗布し、100℃−1分で乾燥後させた。その後窒素パージによって0.3%以下酸素濃度雰囲気にて、高圧水銀ランプを用いて紫外線を照射量400mJ/cm2で照射して塗布層を硬化させ、厚さ7μmのハードコート層を形成した。得られたハードコートフィルムについて評価結果を表1に示した。
[実施例4]
合成例5で合成したビニル重合体(4)67部、分子内に少なくとも3つ以上のアクリロイル基を有する化合物として、カヤラッドDPHA(日本化薬社製:6官能)80部、MEK53部、光重合開始剤として、イルガキュア184(チガスペシャリティケミカルズ社)5部を加え溶解し、固形分50%のハードコート塗工液を調製した。次いで、厚さ80μmのトリアセチルセルロースフィルム(富士写真フィルム社製)にハードコート塗工液をバーコーターを用いて塗布し、100℃−1分で乾燥後させた。その後窒素パージによって0.3%以下酸素濃度雰囲気にて、高圧水銀ランプを用いて紫外線を照射量400mJ/cm2で照射して塗布層を硬化させ、厚さ8μmのハードコート層を形成した。得られたハードコートフィルムについて評価結果を表1に示した。
[比較例1]
分子内に少なくとも3つ以上のアクリロイル基を有する化合物として、カヤラッドDPHA(日本化薬社製:6官能)100部、MEK100部、光重合開始剤として、イルガキュア184(チガスペシャリティケミカルズ社)5部を加え溶解し、固形分50%のハードコート塗工液を調製した。次いで、厚さ80μmのトリアセチルセルロースフィルム(富士写真フィルム社製)にハードコート塗工液をバーコーターを用いて塗布し、100℃−1分で乾燥後させた。その後窒素パージによって0.3%以下酸素濃度雰囲気にて、高圧水銀ランプを用いて紫外線を照射量400mJ/cm2で照射して塗布層を硬化させ、厚さ8μmのハードコート層を形成した。得られたハードコートフィルムについて評価結果を表1に示した。
[実施例5]
合成例6で合成したビニル重合体(5)67部、分子内に少なくとも3つ以上のアクリロイル基を有する化合物として、カヤラッドDPHA(日本化薬社製:6官能)80部、MEK53部、光重合開始剤として、イルガキュア184(チガスペシャリティケミカルズ社)5部を加え溶解し、固形分50%のハードコート塗工液を調製した。次いで、厚さ80μmのトリアセチルセルロースフィルム(富士写真フィルム社製)にハードコート塗工液をバーコーターを用いて塗布し、100℃−1分で乾燥後させた。その後窒素パージによって0.3%以下酸素濃度雰囲気にて、高圧水銀ランプを用いて紫外線を照射量400mJ/cm2で照射して塗布層を硬化させ、厚さ8μmのハードコート層を形成した。得られたハードコートフィルムについて評価結果を表1に示した。
Figure 2007084685
表1に示される結果から以下のことが明らかである。実施例1〜4の本発明で特定されるハードコートフィルムは、鉛筆硬度が3H以上で良好あり、かつ低カール性を同時に満たす。
一方、比較例1は、3つ以上のラジカル重合性二重結合を持つビニル重合体を含まないため、鉛筆硬度は4Hで良好であるが、カール性が不良である。
実施例5は、本発明で特定される3つ以上のラジカル重合性二重結合を持つビニル重合体の二重結合当量が500g/eqを超えるため、カール性は良好だが鉛筆硬度は2Hと低下し3H以上の鉛筆硬度を要求される用途には推奨されない。
本発明のハードコートフィルムは、フィルムのカール性が顕著に抑制され、且つ高い鉛筆硬度を実現し、ハードコート層と透明基板間の密着性、耐引っ掻き性、耐擦傷性の優れたハードコートフィルムが得られる。本発明のハードコートフィルムは表面硬度に優れる反射防止機能を持つ光学フィルムへの利用が可能であり、LCD,PDP等の表示装置等各種ディスプレイ、レンズ、ミラー等光学部材の保護のため粘着フィルムの如き用途において、優れている。

Claims (6)

  1. 透明基板上に、ハードコート層を有してなるハードコートフィルムであって、
    前記ハードコート層が、3つ以上のラジカル重合性二重結合を持つ重量平均分子量5000〜100,000のビニル重合体(A)と、分子内に少なくとも3つ以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物(B)とを含む電離放射線硬化型組成物を硬化させてなることを特徴とするハードコートフィルム。
  2. ビニル重合体(A)が、ラジカル重合性二重結合および反応性官能基を有する単量体(a)50〜100重量%と、(a)以外のラジカル重合性二重結合を有する単量体0〜50重量%(b)とを含む単量体を重合してなる重合体(A−1)に、前記反応性官能基と反応可能な官能基およびラジカル重合性二重結合を有する化合物(A−2)とを反応させてなる重合体であることを特徴とする請求項1記載のハードコートフィルム。
  3. 電離放射線硬化型組成物が、固形物換算で、ビニル重合体(A)を5〜99重量%と、分子内に少なくとも3つ以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物(B)とを1〜95重量%含有することを特徴とする請求項1または2記載のハードコートフィルム。
  4. さらに、光開始剤を含むことを特徴とする請求項1〜3いずれか記載のハードコートフィルム。
  5. ビニル重合体(A)のラジカル重合性二重結合当量が、180〜500g/eqであることを特徴とする請求項1〜4いずれか記載のハードコートフィルム。
  6. ハードコート層の厚さが、4〜20μmであり、かつ
    鉛筆硬度で表される表面硬度が、3H以上であることを特徴とする請求項1〜5いずれか記載のハードコートフィルム。

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