JP2006510749A - 潜在酸を含むポリマー状材料 - Google Patents

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Abstract

【課題】 色形成剤並びに、潜在酸としてフェノール系酸化防止剤及び/又はフェノール系紫外線吸収剤を含むポリマー材料に、紫外線又は高エネルギーの輻射線を使用して照射することからなるポリマー材料を着色する方法を提供する。
【解決手段】 a)フェノール系酸化防止剤及び/又はフェノール系紫外線吸収剤、並びにb)色形成剤を含むポリマー状材料が、可視光線よりも高いエネルギーの輻射線を使用して照射されることからなるポリマー状材料を着色する方法であって、但し、前記フェノール系酸化防止剤及び/又はフェノール系紫外線吸収剤(a)は特定の化合物でない方法。

Description

本発明は、色形成剤並びに、潜在酸としてフェノール系酸化防止剤及び/又はフェノール系紫外線吸収剤(UVA)、即ち、酸ではないが、しかし、照射の影響により酸に転換され得る化合物を含むポリマー材料に、紫外線(UV)又は高エネルギーの輻射線を使用して照射することからなるポリマー材料を着色する方法、並びに、前記材料の幾つかの特定の使用に関するものである。
近年、種々の市販品の表面に、製造者名、製品名、製造年月日、ロット番号等のような文章及び記号をリアルタイムでマーキングするため、レーザーマーキングシステムが、その種々の利点により、広範に用いられている。しかしながら、現行のレーザーマーキングシステムは、使用者の要求の全てを完全に満たしてはおらず、それ故、このようなシステムの性質を改良する要求が存在する。
マイクロ波レーザーを用いて加熱することにより変色する、色形成剤及び酸性物質を含む幾つかの組成物は、米国特許第5824715明細書及び欧州特許出願公開第600441号明細書に示されている。国際特許出願公開第02/08821号パンフレットは、色原体化合物を特定のフェノール類と組み合わせることによる可逆的な熱変色効果を記載している。
米国特許第5824715明細書 欧州特許出願公開第600441号明細書 国際特許出願公開第02/08821号パンフレット
欧州特許出願公開第290750号明細書は、自己着色性の紫外線感受性溶液における酸形成剤としての、ニトロベンズアルデヒドの使用を示唆している。米国特許第4343885号明細書及び欧州特許出願公開第720053号明細書は、色形成剤がジアゾニウム塩及び/又は特定のハロゲン化された化合物と組み合わされた幾つかの光重合性組成物を記載している。同様の色形成は、米国特許第5677107明細書に記載されている。
欧州特許出願公開第290750号明細書 米国特許第4343885号明細書 欧州特許出願公開第720053号明細書 米国特許第5677107明細書
ポリマーマトリックス中に存在するフェノール系酸化防止剤又はフェノール系紫外線吸収剤は、可視光線を越えるエネルギーを持つ輻射線によりプロトンを分離し得、それ故、色形成剤を染料に転換することができる潜在酸として機能し得ることが今や判った(不可逆的光変色効果)。
従って、本発明は、
a)フェノール系酸化防止剤及び/又はフェノール系紫外線吸収剤、並びに
b)色形成剤
を含むポリマー材料が、可視光線よりもより高いエネルギーの輻射線を使用して照射されることからなるポリマー材料を着色する方法であって、
但し、前記フェノール系酸化防止剤及び/又はフェノール系紫外線吸収剤(a)は次式
(2)ないし(14):
Figure 2006510749
Figure 2006510749
Figure 2006510749
で表わされる化合物でない方法に関するものである。
適する輻射線は紫外線[400nmよりも短い波長(λ)]、X線、γ線又は、電子ビームのような粒子線を包含する。好ましい輻射線源は紫外線レーザー、紫外線ランプ、X線源又は電子線源、α−,β−及び/又はγ−線を放出する放射性物質を包含する。
フェノール系酸化防止剤及び/又はフェノール系紫外線吸収剤は、例えば、加工安定剤又は光安定剤として、ポリマー状組成物において使用するために広く知られており、そして市販されている。フェノール系酸化防止剤及び/又はフェノール系紫外線吸収剤の分子量は好ましくは、340g/モル又はそれより大きく、例えば、340〜1500g/モルであり、特定の実施態様においては、400〜1300g/モルの範囲にある。
フェノール系化合物、好ましくはペンタエリトリチル−テトラキス(3−[3’,5’−ジ第三ブチル−4’−ヒドロキシフェニル]プロピオネートは、潜在酸として使用され得る。
フェノール系紫外線吸収剤の典型的な例は、ヒドロキシフェニル−ベンゾトリアゾール類、ヒドロキシフェニル−トリアジン類又はヒドロキシベンゾフェノン類からなる光安定剤であり、これらは全て、核分子のフェニル環結合に関してフェニル環のオルト位に配置されたヒドロキシル基を含む。このような化合物の例は、項目2.1、2.2及び2.8において補助添加剤として都合良く使用される化合物に関する以下のリスト中に見出され得る。
フェノール系酸化防止剤が成分(a)として好ましい。それは通常、1個又はそれより多くのモノ−ヒドロキシフェニル(即ち、“フェノール”)部分及び1個又はそれより多くの脂肪族又は芳香族置換基或いは、それらを結合する結合基を含み、化合物中に存在する環状部分は純粋な炭素乾式基又は次式:
Figure 2006510749
で表わされる基(線は、結合を表わす。)から選択される。
本発明の方法において使用される重要なフェノール系酸化防止剤(a)において、存在するそれぞれのモノ−ヒドロキシフェニル部分は通常、該部分を同一種類の別の部分1個ないし3個に結合している基(結合基)に対する又はアンカー基に対する結合一つ又は二つ、並びに所望により、炭素原子数1ないし12のアルキル基から選択された別の置換基1個ないし3個を含む。
モノ−ヒドロキシフェニル部分に対する好ましい置換基は、メチル基又は第三炭素原子数4ないし12のアルキル基、とりわけメチル基、第三ブチル基又は第三ペンチル基である。
結合基は通常、炭素原子数1ないし20の二価、三価又は四価の脂肪族基、例えば、
−O−基、−NH−基、−S−基、−CO−基、−COO−基、−OCO−基、−NHCO−基、−CONH−基、基L1 、フェニレン基、炭素原子数1ないし12のアルキル基及び/又は炭素原子数1ないし12のアルコキシ基及び/又は炭素原子数2ないし12のアルカノイルオキシ基及び/又は炭素原子数3ないし12のアルケノイルオキシ基により置換されたフェニレン基で中断され得る及び/又は末端キャップされ得るアルキレン基;二価モノ−、ジ−又はトリシクロアルキレン基;−O−基により中断された二価モノ−、ジ−又はトリシクロアルキレン基;スペーサー基:−O−基;−NH−基;−S−基;−CO−基;−COO−基;−OCO−基;−NHCO−基;−CONH−基から選択された二価基、
炭素原子数3ないし20の三価アルキル基;−O−基、−NH−基、−S−基、−CO−基、−COO−基、−OCO−基、−NHCO−基、−CONH−基、基L1 、フェニレン基、炭素原子数1ないし12のアルキル基及び/又は炭素原子数1ないし12のアルコキシ基及び/又は炭素原子数2ないし12のアルカノイルオキシ基及び/又は炭素原子数3ないし12のアルケノイルオキシ基により置換されたフェニレン基で中断された及び/又は末端キャップされた炭素原子数3ないし20の三価アルキル基から、或いは、次式:
Figure 2006510749
で表わされる三価基から選択された三価基、
炭素原子数4ないし20の四価アルキル基;−O−基、−NH−基、−S−基、−CO−基、−COO−基、−OCO−基、−NHCO−基、−CONH−基、基L1 、フェニレン基、炭素原子数1ないし12のアルキル基及び/又は炭素原子数1ないし12のアルコキシ基及び/又は炭素原子数2ないし12のアルカノイルオキシ基及び/又は炭素原子数3ないし12のアルケノイルオキシ基により置換されたフェニレン基で中断された及び/又は末端キャップされた炭素原子数4ないし20の四価アルキル基から選択された四価基、であり、
前記において、
1 は次式:
Figure 2006510749
から選択された基を表わし、
2 は−OH基、炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基、炭素原子数2ないし12のヒドロキシアルキル基、炭素原子数2ないし12のヒドロキシアルコキシ基を表わし、
3 は独立して炭素原子数1ないし4のアルキレン基を表わし、
4 は独立して水素原子又は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わし、そして
6 及びA7 は、以下のアンカー基において定義されたものと同じ意味を表わす。
アンカー基は通常、
炭素原子数1ないし22のアルキル基;炭素原子数1ないし22のアルキル−A5 −基;−A5 −基により中断された炭素原子数2ないし22のアルキル基;−A4 −フェニル基;フェニル核が炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基、炭素原子数2ないし12のアルカノイルオキシ基及び/又は炭素原子数3ないし12のアルケノイルオキシ基により置換された−A4 −フェニル基;次式:
Figure 2006510749
で表わされる基により置換された炭素原子数1ないし8のアルキル基;例えば、次式:
−A3 −(O)m −P(=O)p (OA1 )(OA2
で表わされるホスフィット、ホスファイト又はホスホネートエステル基を表わし、或いは、
アンカー基は、次式:
Figure 2006510749
で表わされる基を表わし、
前記式中、
m及びpは独立して0又は1を表わし、
1 及びA2 は独立して炭素原子数1ないし12のアルキル基又はフェニル基又は炭素原子数1ないし12のアルキル基により置換されたフェニル基又は、アルカリ、アルカリ土類若しくはアルミニウム原子の当量を表わし、
3 は直接結合又は炭素原子数1ないし8のアルキレン基を表わし、
4 は炭素原子数1ないし8のアルキレン基及びA5 から選択された基を表わし、
5 は−O−基、−NH−基、−S−基、−CO−基、−COO−基、−OCO−基、−NHCO−基、−CONH−基から選択された基を表わし、
6 は炭素原子数1ないし18のアルコキシ基、炭素原子数1ないし18のアルキルチオ基及び炭素原子数1ないし18のアルキルアミノ基から選択された基を表わし、
7 は−O−基又は−NH−基を表わし、
R’は水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数1ないし18のアルコキシ基又はシクロヘキシルオキシ基を表わし、或いは、
アンカー基は、
炭素原子数3ないし22のアルキレン基又は、両方の開放結合により、モノ−ヒドロキシルフェニル部分の隣接炭素原子に結合した炭素原子数3ないし22のオキサアルキレン基を表わす。
アンカー基が炭素原子によりフェノール部分に結合されているとき、前記炭素原子は好ましくは、第四級炭素原子(即ち、水素原子への結合を含まない炭素原子)である。
また、成分(a)は、次式(IIa)で表わされるベンゾトリアゾール、次式(IIb)で表わされる2−ヒドロキシベンゾフェノン、次式(IIc)で表わされる2−ヒドロキシフェニルトリアジン:
Figure 2006510749
[式中、
1 は水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル基又は、フェニル基により置換された炭素原子数1ないし18のアルキル基を表わし、或いは、
1 は次式:
Figure 2006510749
で表わされる基を表わし、
1 は二価基、例えば−(CH2 n −基(式中、nは1〜8の範囲からの数を表わす)を表わし、
2 は水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル基を表わし、又は、−COOT5 基、炭素原子数1ないし18のアルコキシ基、ヒドロキシ基、フェニル基若しくは炭素原子数2ないし18のアシルオキシ基により置換された炭素原子数1ないし18のアルキル基を表わし、
3 は水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数1ないし18のアルコキシ基、炭素原子数2ないし18のアシルオキシ基、炭素原子数1ないし12のペルフルオロアルキル基、例えば−CF3 基を表わし、或いは、T3 はフェニル基を表わし、
5 は炭素原子数1ないし18のアルキル基或いは、1個若しくはそれより多くの酸素原子により中断され、及び/又は−OH基により又は次式:
Figure 2006510749
で表わされる基により置換された炭素原子数4ないし50のアルキル基を表わす。];
Figure 2006510749
[式中、
1 、G2 及びG3 は独立して水素原子、ヒドロキシ基又は炭素原子数1ないし18のアルコキシ基を表わす。];
Figure 2006510749
[式中、
8 は炭素原子数1ないし18のアルキル基を表わし、或いは、−COO基若しくは−OCO基若しくは−O−基により中断された、又は、酸素原子により中断され且つ−OH基により置換された、炭素原子数4ないし18のアルキル基を表わし、
9 、G10、G11及びG12は独立して水素原子、メチル基、ヒドロキシ基又は−OG8 基を表わし、そしてG9 及びG12はフェニル基をも含む。]
から選択されたフェノール系紫外線吸収剤を表わし得る。
好ましいアンカー基は、第三炭素原子数4ないし12のアルキル基;炭素原子数1ないし12のアルキル−A5 −基;−A5 −基により中断された炭素原子数2ないし22のアルキル基;−A5 −フェニル基;フェニル核が炭素原子数1ないし12のアルキル基により置換された−A5 −フェニル基;フェニル核が炭素原子数2ないし12のアルカノイルオキシ基及び/又は炭素原子数3ないし12のアルケノイルオキシ基並びに、所望により更に炭素原子数1ないし12のアルキル基により置換された−A4 −フェニル基を表わし、或いは、
前記アンカー基は、炭素原子数3ないし22のアルキレン基又は炭素原子数3ないし22のオキサアルキレン基であって、上記基は両方の開放結合により、モノ−ヒドロキシルフェニル部分の隣接炭素原子に結合している基を表わし、或いは、次式:
Figure 2006510749
[式中、
m及びpは独立して0又は1を表わし、
1 及びA2 は独立して炭素原子数1ないし12のアルキル基又はフェニル基又は炭素原子数1ないし12のアルキル基により置換されたフェニル基又は、アルカリ、アルカリ土類若しくはアルミニウム原子の当量を表わし、
3 は直接結合又は炭素原子数1ないし8のアルキレン基を表わし、
4 は炭素原子数1ないし8のアルキレン基、−O−基、−NH−基、−S−基、−CO−基、−COO−基、−OCO−基、−NHCO−基、−CONH−基から選択された基を表わし、
5 は−O−基、−NH−基、−S−基、−CO−基、−COO−基、−OCO−基、−NHCO−基、−CONH−基から選択された基を表わし、
6 は炭素原子数1ないし18のアルコキシ基、炭素原子数1ないし18のアルキルチオ基及び炭素原子数1ないし18のアルキルアミノ基から選択された基を表わし、
7 は−O−基又は−NH−基を表わし、
8 は炭素原子数1ないし7のアルキル基を表わし、
R’は炭素原子数1ないし18のアルキル基を表わす。]で表わされる基の一つを表わす。
アンカー又は結合基はしばしば、−O−基、−NH−基、−S−基、−CO−基、−COO−基、−OCO−基、−NHCO−基、−CONH−基、フェニレン基又は置換されたフェニレン基のようなスペーサー基を含む;これらの基は、一緒に結合され得る;しかしながら、通常、−O−O−(ペルオキソ)又は−NH−O−又は−NH−S−又は−O−S−結合は形成されない。
5 により末端キャップされたアルキレン基は、例えば、−アルキレン−A5 −基、−A5 −アルキレン−基、−A5 −アルキレン−A5 −基である。
R’は好ましくは炭素原子数1ないし18のアルキル基、とりわけメチル基を表わす。
ホスフィットエステル基、ホスフェートエステル基又はホスホネートエステル基において、A1 及びA2 は独立して、好ましくは、炭素原子数1ないし12のアルキル基;アルカリ、アルカリ土類若しくはアルミニウム原子の当量を表わす。
好ましい塩は、A1 及びA2 の一方のみが、例えば、Li、Na、K、1/2Mg、1/2Ca、1/3Al、とりわけ1/2Caから選択された金属原子の当量を表わすものである。より好ましいものは、式中、pが1を表わすホスフェート、とりわけ式中、mが0を表わし、そしてpが1を表わすホスフェート又は対応する塩である。
従って、フェノール系酸化防止剤(a)は好ましくは、次式(A):
Figure 2006510749
{式中、
2 、R3 、R4 及びR5 は独立して水素原子、メチル基又は炭素原子数4ないし12の第三アルキル基、とりわけメチル基、第三ブチル基又は第三ペンチル基を表わし、
nは1ないし4の範囲の数を表わし、
nが1を表わすとき、
1 は炭素原子数4ないし12の第三アルキル基;炭素原子数1ないし22のアルキル−A5 −基;−A5 −基により中断された炭素原子数2ないし22のアルキル基;−A5 −フェニル基;フェニル核が炭素原子数1ないし12のアルキル基により置換された−A5 −フェニル基;フェニル核が炭素原子数2ないし12のアルカノイルオキシ基及び/又は炭素原子数3ないし12のアルケノイルオキシ基並びに、所望により更に炭素原子数1ないし12のアルキル基により置換された−A4 −フェニル基を表わし、或いは、R1 はR5 と一緒になって、炭素原子数3ないし22のアルキレン基又は、両方の開放結合により、モノ−ヒドロキシルフェニル部分の隣接炭素原子に結合した炭素原子数3ないし22のオキサアルキレン基を表わし、或いは、次式:
Figure 2006510749
[式中、
m及びpは独立して0又は1を表わし、
1 及びA2 は独立して炭素原子数1ないし12のアルキル基又はフェニル基又は炭素原子数1ないし12のアルキル基により置換されたフェニル基又は、アルカリ、アルカリ土類若しくはアルミニウム原子の当量を表わし、
3 は直接結合又は炭素原子数1ないし8のアルキレン基を表わし、
4 は炭素原子数1ないし8のアルキレン基、−O−基、−NH−基、−S−基、−CO−基、−COO−基、−OCO−基、−NHCO−基、−CONH−基から選択された基を表わし、
5 は−O−基、−NH−基、−S−基、−CO−基、−COO−基、−OCO−基、−NHCO−基、−CONH−基から選択された基を表わし、
6 は炭素原子数1ないし18のアルコキシ基、炭素原子数1ないし18のアルキルチオ基及び炭素原子数1ないし18のアルキルアミノ基から選択された基を表わし、
7 は−O−基又は−NH−基を表わし、
8 は炭素原子数1ないし7のアルキル基を表わし、
R’は炭素原子数1ないし18のアルキル基を表わす。]で表わされる基の一つを表わし、
nが2を表わすとき、
1 は−O−基、−NH−基、−S−基、−CO−基、−COO−基、−OCO−基、−NHCO−基、−CONH−基、基L1 、フェニレン基、炭素原子数1ないし12のアルキル基及び/又は炭素原子数1ないし12のアルコキシ基及び/又は炭素原子数2ないし12のアルカノイルオキシ基及び/又は炭素原子数3ないし12のアルケノイルオキシ基により置換されたフェニレン基により中断され得る及び/又は末端封止され得る炭素原子数1ないし20のアルキレン基;二価モノ−、ジ−又はトリシクロアルキレン基;−O−基により中断された二価モノ−、ジ−又はトリシクロアルキレン基;スペーサー基である−O−;−NH−基;−S−基;−CO−基;−COO−基;−OCO−基;−NHCO−基;−CONH−基を表わし、
nが3を表わすとき、
1 は炭素原子数3ないし20の三価アルキル基;−O−基、−NH−基、−S−基、−CO−基、−COO−基、−OCO−基、−NHCO−基、−CONH−基、基L1 、フェニレン基、炭素原子数1ないし12のアルキル基及び/又は炭素原子数1ないし12のアルコキシ基及び/又は炭素原子数2ないし12のアルカノイルオキシ基及び/又は炭素原子数3ないし12のアルケノイルオキシ基により置換されたフェニレン基により中断された及び/又は末端封止された炭素原子数3ないし20の三価アルキル基、或いは、次式:
Figure 2006510749
で表わされる三価基を表わし、
nが4を表わすとき、
1 は炭素原子数4ないし20の四価アルキル基;−O−基、−NH−基、−S−基、−CO−基、−COO−基、−OCO−基、−NHCO−基、−CONH−基、基L1 、フェニレン基、炭素原子数1ないし12のアルキル基及び/又は炭素原子数1ないし12のアルコキシ基及び/又は炭素原子数2ないし12のアルカノイルオキシ基及び/又は炭
素原子数3ないし12のアルケノイルオキシ基により置換されたフェニレン基で中断された及び/又は末端封止された炭素原子数4ないし20の四価アルキル基を表わし、
1 は次式:
Figure 2006510749
から選択された基を表わし、
2 は−OH基、炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基、炭素原子数2ないし12のヒドロキシアルキル基、炭素原子数2ないし12のヒドロキシアルコキシ基を表わし、
3 は独立して炭素原子数1ないし4のアルキレン基を表わし、
4 は独立して水素原子又は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わす。}で表わされる化合物である。
とりわけ好ましいものは、前記式中、
2 、R3 、R4 及びR5 が独立して水素原子、メチル基、第三ブチル基、第三ペンチル基を表わし、
nが1を表わすとき、
1 は第三ブチル基、第三ペンチル基;炭素原子数1ないし22のアルキル−A5 −基;−A5 −基により中断された炭素原子数2ないし22のアルキル基;フェニル核が炭素原子数1ないし12のアルキル基により置換された−A5 −フェニル基;フェニル核が炭素原子数3又は4のアルカノイルオキシ基及び炭素原子数1ないし12のアルキル基により置換された−A4 −フェニル基を表わし、或いは、R1 はR5 と一緒になって、炭素原子数3ないし22のアルキレン基又は、両方の開放結合により、モノ−ヒドロキシルフェニル部分の隣接炭素原子に結合した炭素原子数3ないし22のオキサアルキレン基を表わし、或いは、R1 は次式:
Figure 2006510749
[式中、
1 及びA2 は独立して炭素原子数1ないし4のアルキル基又は、Li、Na、K、1/2Mg、1/2Ca、1/3Alから選択された金属原子の当量を表わし、
3 はメチレン基を表わし、
4 は炭素原子数1ないし8のアルキレン基を表わし、
5 は−O−基、−S−基、−COO−基、−OCO−基、−NHCO−基、−CONH−基から選択された基を表わし、
6 は炭素原子数4ないし18のアルキルチオ基及び炭素原子数4ないし18のアルキルアミノ基から選択された基を表わし、
7 は−NH−基を表わし、
8 は炭素原子数1ないし7のアルキル基を表わし、
R’は炭素原子数1ないし18のアルキル基を表わす。]で表わされる基の一つを表わし、
nが2を表わすとき、
1 は炭素原子数1ないし12のアルキレン基;−O−基、−S−基、−COO−基、−OCO−基、−NHCO−基、−CONH−基、基L1 により中断された炭素原子数2ないし20のアルキレン基を表わし;或いは、R1 は二価モノ−、ジ−又はトリシクロアルキレン基を表わし;或いは、R1 は−O−基;−NH−基;−S−基を表わし、
nが3を表わすとき、
1 は炭素原子数3ないし20の三価アルキル基;−O−基、−S−基、−COO−基、−OCO−基、−NHCO−基、−CONH−基、フェニレン基、炭素原子数1ないし12のアルキル基により置換されたフェニレン基により中断された炭素原子数3ないし20の三価アルキル基を表わし;或いは、次式:
Figure 2006510749
で表わされる三価基を表わし、
nが4を表わすとき、
1 は炭素原子数4ないし20の四価アルキル基;又は、−O−基、−S−基、−COO−基、−OCO−基、−NHCO−基、−CONH−基により中断された炭素原子数4ないし20の四価アルキル基を表わし、
1 は次式:
Figure 2006510749
で表わされる基を表わし、
3 は独立して炭素原子数1ないし4のアルキレン基を表わし、
4 は独立して水素原子又は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わす、化合物である。
特に好ましいフェノール系酸化防止剤において、それぞれのモノ−ヒドロキシフェニル部分は1個又は好ましくは2個の脂肪族置換基、例えば、メチル基、第三ブチル基、第三ペンチル基を含み、それらの少なくとも1個は、フェノール性OH基に対してオルト位に配置されている。
本発明において有用なフェノール系酸化防止剤は、以下に列挙された化合物を包含する。
Figure 2006510749
Figure 2006510749
Figure 2006510749
Figure 2006510749
Figure 2006510749
Figure 2006510749
Figure 2006510749
フェノール系酸化防止剤及び/又はフェノール系紫外線吸収剤は好ましくは、次式:
Figure 2006510749
{式中、
環Aはヘテロ原子1個又はそれより多くを含み得、及び/又はアネレイテッド(anelated)環を含み得、
1 は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基を表わし、
2 、R3 、R4 及びR5 は互いに独立して水素原子又は官能性基を表わし、そして
Rは炭素原子数1ないし6のアルキル基、−Z1 −Q1 基又は−Z2 −Q2 基[式中、Z1 は単結合、S、NH又はOを表わし、そしてQ1 は、C、S、O及びNから選択された5個ないし9個の環原子を有し、環系中に少なくとも2個の炭素原子を持つヘテロ環式環系を表わし、好ましくはQ1 はモルホリン基;炭素原子数1ないし4のアルキル基又はヒドロキシ基で1回ないし3回置換され得るピリジン基、メルカプトベンズオキサゾール基、メルカプトベンズチアゾール基を表わし、そして式中、Z2 は、炭素原子数1ないし4のアルキル基又はQ3 (式中、Q3 は炭素原子数1ないし4のアルキル基で1回ないし3回置換され得るフェニル基、ヒドロキシ基、炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基及び/又は、C、S、O及びNから選択された5個ないし9個の環原子を有し、環系中に少なくとも2個の炭素原子を持つヘテロ環式環系を表わす。)で置換され得る炭素原子数1ないし4のアルキレン基を表わし、そしてQ2 は炭素原子数1ないし4のアルキル基で1回ないし3回置換され得るフェニル基、ヒドロキシ基、炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基及び/又は、C、S、O及びNから選択された5個ないし9個の環原子を有し、環系中に少なくとも2個の炭素原子を持つヘテロ環式環系を表わす。]を表わす。}で表わされる化合物でなく、
例えば、前記式X(式中、Rに対してα位の炭素原子に対する水素原子は照射により分離され得る。)で表わされる化合物はない。
ハロゲン原子は弗素原子、塩素原子、臭素原子又は沃素原子、好ましくは塩素原子を意味する。
更に、R2 及びR3 の少なくとも一つが、OH基に対してオルト位にあることが好ましい。
炭素原子数1ないし22のアルキル基は、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、第二ブチル基、イソブチル基、第三ブチル基、n−ペンチル基、第三ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、第三オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシル基、n−トリデシル基、n−テトラデシル基、n−ペンタデシル基、n−ヘキサデシル基、n−ヘプタデシル基、n−オクタデシル基、n−ノナデシル基、n−エイコシル基を意味する。
炭素原子数2ないし20のアルケニル基は、例えば、エテニル基、n−プロペニル基、イソプロペニル基、n−ブテニル基、第二ブテニル基、イソブテニル基、第三ブテニル基、n−ペンテニル基、n−ヘキセニル基、n−ヘプテニル基、n−オクテニル基、n−ノ
ネニル基、n−デセニル基、n−ウンデセニル基、n−ドデセニル基、n−トリデセニル基、n−テトラデセニル基、n−ペンタデセニル基、n−ヘキサデセニル基、n−ヘプタデセニル基、n−オクタデセニル基、n−ノナデセニル基、n−エイコセニル基、好ましくは、炭素原子数2ないし6のアルキル基、例えば、エテニル基、n−プロペニル基、イソプロペニル基、n−ブテニル基、第二ブテニル基、イソブテニル基、第三ブテニル基、n−ペンテニル基、n−ヘキセニル基を表わす。
炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基は、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基又はシクロオクチル基、好ましくは、シクロヘキシル基を表わす。ジ−又はトリシクロアルキル基の例は、ビシクロヘプチル基又は次式:
Figure 2006510749
で表わされる基である。
二価、三価又は四価の残基は、1個、2個又は3個の更なる水素原子を引き抜くことにより、対応する一価ユニット、例えば上記のものから誘導され得る。
炭素原子数1ないし6のアルコキシ基は、例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、第二ブトキシ基、イソブトキシ基、第三ブトキシ基、n−ペントキシ基、n−ヘキソキシ基を表わす。
炭素原子数2ないし12のアルカノイルオキシ基は、例えば、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基を包含し、炭素原子数3ないし12のアルケノイルオキシ基は、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基を包含する。
本発明のために使用可能なポリマー状材料は、好ましくは、合成有機ポリマー状材料、例えば、エレクトロニクス用途のために通常使用される材料である。
特に、下記のポリマーが好ましい。
1. モノオレフィン及びジオレフィンのポリマー、例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテ−1−エン、ポリ−4−メチルペンテ−1−エン、ポリビニルシクロヘキサン、ポリイソプレン又はポリブタジエン、並びにシクロオレフィンのポリマー、例えばシクロペンテン又はノルボルネンのポリマー、ポリエチレン(所望により架橋されていてよい。)、例えば高密度ポリエチレン(HDPE)、高密度及び高分子量ポリエチレン(HDPE−HMW)、高密度及び超高分子量ポリエチレン(HDPE−UHMW)、中密度ポリエチレン(MDPE)、低密度ポリエチレン(LDPE)、直鎖状低密度ポリエチレン(LLDPE)、(VLDPE)及び(ULDPE)。
ポリオレフィン、すなわち先の段落で例示したモノオレフィンのポリマー、好ましくはポリエチレン及びポリプロピレンは、異なる方法により製造することができ、そして、とりわけ下記の方法により製造することができる。
a)ラジカル重合(通常、高圧及び高められた温度の下で行われる。)。
b)通常、周期律表の族IVb,Vb,VIb又はVIIIの1種又は1種よりも多くの金属を含む触媒を使用する触媒重合。前記金属は、通常1種又はそれより多くの配位子を有しており、代表的にはπ−又はσ−配位されていてよい酸化物、ハロゲン化物、アルコレート、エステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニル及び/又はアリールである
。前記金属錯体は、遊離の形態にあってもよいし又は基材上に、代表的には活性化塩化マグネシウム、三塩化チタン、アルミナ又は酸化珪素上に固定されていてもよい。前記触媒は、重合媒体に可溶性であってもよいし又は非可溶性であってもよい。前記触媒は重合の際に単独で使用してもよく、又は別の活性剤、代表的には金属アルキル、金属ハイドライド、金属アルキルハライド、金属アルキルオキシド若しくは金属アルキルオキサンを使用してもよく、前記金属は、周期律表の族Ia,IIa及び/又はIIIaの元素である。活性剤は、別のエステル、エーテル、アミン又はシリルエーテル類を用いて都合良く変性されていてよい。前記触媒系は、通常、フィリップス(Phillips)触媒、スタンダード・オイル・インディアナ(Standard Oil Indiana)触媒、チーグラー(−ナッタ)[Ziegler(−Natta)]触媒、TNZ[デュポン(DuPont)]触媒、メタロセン触媒又はシングルサイト(single site)触媒(SSC)と呼ばれる。
2. 1.で記述したポリマーの混合物、例えばポリプロピレンとポリイソブチレンとの混合物、ポリプロピレンとポリエチレンとの混合物(例えばPP/HDPE、PP/LDPE)及び異なる種類のポリエチレンの混合物(例えばLDPE/HDPE)。
3. モノオレフィンとジオレフィンとの互いの又はその他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン/プロピレンコポリマー、直鎖状低密度ポリエチレン(LLDPE)及びその低密度ポリエチレン(LDPE)との混合物、プロピレン/ブテ−1−エンコポリマー、プロピレン/イソブチレンコポリマー、エチレン/ブテ−1−エンコポリマー、エチレン/ヘキセンコポリマー、エチレン/メチルペンテンコポリマー、エチレン/ヘプテンコポリマー、エチレン/オクテンコポリマー、エチレン/ビニルシクロヘキサンコポリマー、エチレン/シクロオレフィンコポリマー(例えばエチレン/ノルボルネン様COC)、エチレン/1−オレフィンコポリマー(1−オレフィンは、その場所で生成される。)、プロピレン/ブタジエンコポリマー、イソブチレン/イソプレンコポリマー、エチレン/ビニルシクロヘキセンコポリマー、エチレン/アルキルアクリレートコポリマー、エチレン/アルキルメタクリレートコポリマー、エチレン/酢酸ビニルコポリマー又はエチレン/アクリル酸コポリマー及びそれらの塩(イオノマー)、並びにエチレンとプロピレン及びジエン例えばヘキサジエン、ジシクロペンタジエン又はエチリデン−ノルボルネンとのターポリマー;並びに前記コポリマーの互いの混合物及び前記コポリマーと上記1.において記載したポリマーとの混合物、例えばポリプロピレン/エチレン−プロピレンコポリマー、LDPE/エチレン−酢酸ビニルコポリマー(EVA)、LDPE/エチレン−アクリル酸コポリマー(EAA)、LLDPE/EVA、LLDPE/EAA及び交互又はランダムポリアルキレン/一酸化炭素コポリマー並びにそれらの他のポリマー例えばポリアミドとの混合物。
4. 炭化水素樹脂(例えば炭素原子数5ないし9)及びその水素化変性体(例えば粘着付与剤)及びポリアルキレンと澱粉との混合物。
ホモポリマー及び、上記1.ないし4.からのコポリマーは、シンジオタクチック、アイソタクチック、ヘミ−アイソタクチック又はアタクチックを包含するどのような立体構造を有していてもよく、アタクチックポリマーが好ましい。ステレオブロックポリマーも包含される。
5. ポリスチレン、ポリ(p−メチルスチレン)、ポリ(α−メチルスチレン)。
6. スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエンの全異性体、とりわけp−ビニルトルエン;エチルスチレン、プロピルスチレン、ビニルビフェニル、ビニルナフタレン及びビニルアントラセンの全異性体、並びにそれらの混合物を包含するビニル芳香族モノマ
ーから誘導された芳香族ホモポリマー及びコポリマー。前記ホモポリマー及びコポリマーは、シンジオタクチック、アイソタクチック、ヘミ−アイソタクチック又はアタクチックを包含するどのような立体構造を有していてもよく、アタクチックポリマーが好ましい。ステレオブロックポリマーも包含される。
6a. 上述のビニル芳香族モノマーと、エチレン、プロピレン、ジエン、ニトリル、酸、無水マレイン酸、マレイミド、酢酸ビニル及び塩化ビニル又はアクリル誘導体並びにそれらの混合物から選択されるコモノマーを包含するコポリマー、例えばスチレン/ブタジエンコポリマー、スチレン/アクリロニトリルコポリマー、スチレン/エチレンコポリマー(インターポリマー)、スチレン/アルキルメタクリレートコポリマー、スチレン/ブタジエン/アルキルアクリレートコポリマー、スチレン/ブタジエン/アルキルメタクリレートコポリマー、スチレン/無水マレイン酸コポリマー、スチレン/アクリロニトリル/メチルアクリレートコポリマー;スチレンコポリマーとその他のポリマー例えばポリアクリレート、ジエンポリマー又はエチレン/プロピレン/ジエンターポリマーとからなる高い衝撃強度を有する混合物;及びスチレンのブロックコポリマー、例えばスチレン/ブタジエン/スチレンブロックコポリマー、スチレン/イソプレン/スチレンブロックコポリマー、スチレン/エチレン/ブチレン/スチレンブロックコポリマー又はスチレン/エチレン/プロピレン/スチレンブロックコポリマー。
6b. 上記6.の下に記載されたポリマーの水素添加から誘導された水素添加された芳香族ポリマー、該ポリマーはとりわけアタクチックポリスチレンを水素添加することにより製造されたポリシクロヘキシルエチレン(PCHE)を包含し、それはしばしばポリビニルシクロヘキサン(PVCH)としても記載される。
6c. 上記6a.の下に記載されたポリマーの水素添加から誘導された水素添加された芳香族ポリマー。
ホモポリマー及びコポリマーは、シンジオタクチック、アイソタクチック、ヘミ−アイソタクチック又はアタクチックを包含するどのような立体構造を有していてもよく、アタクチックポリマーが好ましい。ステレオブロックポリマーも包含される。
7. スチレン又はα−メチルスチレンのような芳香族モノマーのグラフトコポリマー、例えばポリブタジエンに対するスチレンのグラフトコポリマー、ポリブタジエン−スチレンコポリマー又はポリブタジエン−アクリロニトリルコポリマーに対するスチレンのグラフトコポリマー;ポリブタジエンに対するスチレン及びアクリロニトリル(又はメタクリロニトリル)のグラフトコポリマー;ポリブタジエンに対するスチレン、アクリロニトリル及びメチルメタクリレートのグラフトコポリマー;ポリブタジエンに対するスチレン及び無水マレイン酸のグラフトコポリマー;ポリブタジエンに対するスチレン、アクリロニトリル及び無水マレイン酸又はマレイミドのグラフトコポリマー;ポリブタジエンに対するスチレン及びマレイミドのグラフトコポリマー;ポリブタジエンに対するスチレン及びアルキルアクリレート又はメタクリレートのグラフトコポリマー;エチレン/プロピレン/ジエンターポリマーに対するスチレン及びアクリロニトリルのグラフトコポリマー;ポリアルキルアクリレート又はポリアルキルメタクリレートに対するスチレン及びアクリロニトリルのグラフトコポリマー;アクリレート/ブタジエンコポリマーに対するスチレン及びアクリロニトリルのグラフトコポリマー、並びにそれらの上記6.の下に記載されたコポリマーとの混合物、例えばABSポリマー、MBSポリマー、ASAポリマー又はAESポリマーとして知られるコポリマー混合物。
8. ハロゲン含有ポリマー例えばポリクロロプレン、塩素化ゴム、イソブチレン−イソプレンの塩素化及び臭素化コポリマー(ハロブチルゴム)、塩素化又はスルホクロル化ポ
リエチレン、エチレンと塩素化エチレンとのコポリマー、エピクロロヒドリンモノ−及びコポリマー、とりわけハロゲン含有ビニル化合物からのポリマー、例えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ弗化ビニル、ポリ弗化ビニリデン、並びにそれらのコポリマー、例えば塩化ビニル/塩化ビニルデンコポリマー、塩化ビニル/酢酸ビニルコポリマー又は塩化ビニリデン/酢酸ビニルコポリマー。
9. α,β−不飽和酸及びその誘導体から誘導されたポリマー、例えばポリアクリレート及びポリメタクリレート;ブチルアクリレートを用いて耐衝撃性を改良したポリメチルメタクリレート、ポリアクリルアミド及びポリアクリロニトリル。
10. 上記9.の下に記載されたモノマーの互いの又はその他の不飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル/ブタジエンコポリマー、アクリロニトリル/アルキルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル/アルコキアルキルアクリレート又はアクリロニトリル/ハロゲン化ビニルコポリマー又はアクリロニトリル/アルキルメタクリレート/ブタジエンターポリマー。
11. 不飽和アルコール及びアミン又はそのアシル誘導体又はそのアセタールから誘導されたポリマー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラール、ポリアリルフタレート又はポリアリルメラミン;並びに上記1.において記載されたオレフィンとのそれらのコポリマー。
12. 環状エーテルのホモポリマー及びコポリマー、例えばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド又はビスグリシジルエーテルとのそれらのコポリマー。
13. ポリアセタール、例えばポリオキシメチレン及びコモノマーとしてエチレンオキシドを含むポリオキシメチレン;熱可塑性ポリウレタン、アクリレート又はMBSを用いて変性されたポリアセタール。
14. ポリフェニレンオキシド及びスルフィド、並びにポリフェニレンオキシドとスチレンポリマー及びポリアミドとの混合物。
15. 一成分としてのヒドロキシル基で末端閉鎖されたポリエーテル、ポリエステル又はポリブタジエンと、他成分としての脂肪族又は芳香族ポリイソシアネートとから誘導されたポリウレタン、並びにその前駆物質。
16. ジアミン及びジカルボン酸から、及び/又はアミノカルボン酸又は相当するラクタムから誘導されたポリアミド及びコポリアミド、例えばポリアミド4、ポリアミド6、ポリアミド6/6,6/10,6/9,6/12,4/6,12/12、ポリアミド11、ポリアミド12、m−キシレンジアミンとアジピン酸とから出発した芳香族ポリアミド;ヘキサメチレンジアミン及びイソフタル酸及び/又はテレフタル酸及び変性剤としてのエラストマーを用いて又は用いないで製造されたポリアミド、例えばポリ−2,4,4−トリメチルヘキサメチレンテレフタルアミド又はポリ−m−フェニレンイソフタルアミド;及び更に、前記ポリアミドとポリオレフィン、オレフィンコポリマー、イオノマー又は化学的に結合された若しくはグラフトされたエラストマーとのブロックコポリマー;又はポリエーテル、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール又はポリテトラメチレングリコールとのブロックコポリマー;並びにEPDM又はABSを用いて変性されたポリアミド又はコポリアミド;及び加工中に縮合されたポリアミド(RIM−ポリアミド系)。
17. ポリ尿素、ポリイミド、ポリアミド−イミド、ポリエーテルイミド、ポリエステルイミド、ポリヒダントイン及びポリベンズイミダゾール。
18. ジカルボン酸及びジオールから、及び/又はヒドロキシカルボン酸又は相当するラクトンから誘導されたポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−1,4−ジメチロールシクロヘキサンテレフタレート、ポリアルキレンナフタレート(PAN)及びポリヒドロキシベンゾエート、並びにヒドロキシル基により末端閉鎖されたポリエーテルから誘導されたブロックコポリエーテルエステル;及び更にポリカーボネート又はMBSを用いて変性されたポリエステル。
19. ポリカーボネート及びポリエステルカーボネート。
20. ポリケトン。
21. ポリスルホン、ポリエーテルスルホン及びポリエーテルケトン。
22. 一成分としてのアルデヒドと他成分としてのフェノール、尿素及びメラミンとから誘導された架橋ポリマー、例えばフェノール/ホルムアルデヒド樹脂、尿素/ホルムアルデヒド樹脂及びメラミン/ホルムアルデヒド樹脂。
23. 乾性及び非乾性アルキド樹脂。
24. 飽和及び不飽和ジカルボン酸と多価アルコールと架橋剤としてのビニル化合物とから誘導された不飽和ポリエステル樹脂、及び更に低燃性のそのハロゲン含有変性体。
25. 置換アクリレート、例えばエポキシアクリレート、ウレタンアクリレート又はポリエステルアクリレートから誘導された架橋性アクリル樹脂。
26. メラミン樹脂、尿素樹脂、イソシアネート、イソシアヌレート、ポリイソシアネート樹脂又はエポキシ樹脂を用いて架橋されたアルキド樹脂、ポリエステル樹脂及びアクリレート樹脂。
27. 脂肪族、脂環式、ヘテロ環式又は芳香族グリシジル化合物から誘導された架橋されたエポキシ樹脂、例えばビスフェノールA及びビスフェノールFのグリシジルエーテルの生成物であって、慣用の硬化剤例えば酸無水物又はアミンにより、促進剤を用いて又は用いないで架橋されたもの。
28. 天然ポリマー、例えばセルロース、ゴム、ゼラチン及び化学的に変性されたそれらの同種の誘導体、例えばセルロースアセテート、セルロースプロピオネート及びセルロースブチレート、又はセルロースエーテル、例えばメチルセルロース;並びにロジン及びそれらの誘導体。
29. 上述のポリマーのブレンド(ポリブレンド)、例えばPP/EPDM、ポリアミド/EPDM又はABS、PVC/EVA、PVC/ABS、PVC/MBS、PC/ABS、PBTP/ABS、PC/ASA、PC/PBT、PVC/CPE、PVC/アクリレート、POM/熱可塑性PUR、PC/熱可塑性PUR、POM/アクリレート、POM/MBS、PPO/HIPS、PPO/PA6.6及びコポリマー、PA/HDPE、PA/PP、PA/PPO、PBT/PC/ABS又はPBT/PET/PC。
好ましい有機ポリマー状材料は合成熱可塑性材料、とりわけ透明なものである。
とりわけ好ましいものは、SAN(スチレンとアクリロニトリルから造られたコポリマー)から造られた有機ポリマー状材料、ポリオレフィン、例えばPP(ポリプロピレン)又はPE(ポリエチレン)、PVC(ポリ塩化ビニル)、ポリクロロブタジエン、ポリエステル、例えばPET(ポリエチレンテレフタレート)、PET−G(グリコールで変性されたPET)、PMMA(ポリメチルメタクリレート)及び関連するポリアクリル樹脂、PS(ポリスチレン)、ASA(アクリロニトリル、スチレン、アクリレートから造られたコポリマー)、PA(ポリアミド)、ABS(アクリロニトリル、スチレン、ブタジエンから造られたコポリマー)、LLDPE(直鎖状LDPE)、LDPE(低密度ポリエチレン)、HDPE(高密度ポリエチレン)及びポリカーボネート、最も好ましくはポリカーボネートである。前記ポリマー状材料は、二種又はそれより多くのポリマーの混合物(ブレンド)、例えば、ポリエステル又はPET−G/ポリカーボネートブレンドであってもよい。最も好ましいものは、ポリカーボネート、ポリエステル、PET−G、ポリカーボネートとのポリエステルブレンド又はPET−Gブレンド、PVC、PE、PP、ポリアクリル樹脂、ポリスチレンから造られた透明な物品、例えば、それらのポリマー、或いは、それらのブレンド又はアロイのフィルム又はシートである。
色形成性化合物は、例えば、トリフェニルメタン、ラクトン、ベンゾキサジン、スピロピラン又は好ましくは、フルオラン又はフタリドである。
適する色形成剤は、3−ジブチルアミノ−7−ジベンジルアミノフルオラン、3−ジエチルアミノ−6−メチルフルオラン、3−ジメチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−ジエチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−ジエチルアミノ−6−メチル−7−(2,4−ジメチルアニリノ)フルオラン、3−ジエチルアミノ−6−メチル−7−クロロフルオラン、3−ジエチルアミノ−6−メチル−7−(3−トリフルオロメチルアニリノ)フルオラン、3−ジエチルアミノ−6−メチル−7−(2−クロロアニリノ)フルオラン、3−ジエチルアミノ−6−メチル−7−(4−クロロアニリノ)フルオラン、3−ジエチルアミノ−6−メチル−7−(2−フルオロアニリノ)フルオラン、3−ジエチルアミノ−6−メチル−7−(4−n−オクチルアニリノ)フルオラン、3−ジエチルアミノ−7−(4−n−オクチルアニリノ)フルオラン、3−ジエチルアミノ−7−(4−n−オクチルアミノ)フルオラン、3−ジエチルアミノ−6−メチル−7−(ジベンジルアミノ)フルオラン、3−ジエチルアミノ−7−(ジベンジルアミノ)フルオラン、3−ジエチルアミノ−6−クロロ−7−メチルフルオラン、3−ジエチルアミノ−7−第三ブチルフルオラン、3−ジエチルアミノ−7−カルボキシエチルフルオラン、3−ジエチルアミノ−6−クロロ−7−アニリノフルオラン、3−ジエチルアミノ−6−メチル−7−(3−メチルアニリノ)フルオラン、3−ジエチルアミノ−6−メチル−7−(4−メチルアニリノ)フルオラン、3−ジエチルアミノ−6−エトキシエチル−7−アニリノフルオラン、3−ジエチルアミノ−7−メチルフルオラン、3−ジエチルアミノ−7−クロロフルオラン、3−ジエチルアミノ−7−(3−トリフルオロメチルアニリノ)フルオラン、3−ジエチルアミノ−7−(2−クロロアニリノ)フルオラン、3−ジエチルアミノ−7−(2−フルオロアニリノ)フルオラン、3−ジエチルアミノ−ベンゾ[a]フルオラン、3−ジエチルアミノ−ベンゾ[c]フルオラン、3−ジブチルアミノ−6−メチルフルオラン、3−ジブチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−ジブチルアミノ−6−メチル−7−(2,4−ジメチルアニリノ)フルオラン、3−ジブチルアミノ−6−メチル−7−(2−クロロアニリノ)フルオラン、3−ジブチルアミノ−6−メチル−7−(4−クロロアニリノ)フルオラン、3−ジブチルアミノ−6−メチル−7−(2−クロロアニリノ)フルオラン、3−ジブチルアミノ−6−メチル−7−(3−トリフルオロメチルアニリノ)フルオラン、3−ジブチルアミノ−6−エトキシエチル−7−アニリノフルオラン、3−ジブチルアミノ−6−クロロ−7−アニリ
ノフルオラン、3−ジブチルアミノ−6−メチル−7−(4−メチルアニリノ)フルオラン、3−ジブチルアミノ−7−(2−クロロアニリノ)フルオラン、3−ジブチルアミノ−7−(2−フルオロアニリノ)フルオラン、3−ジペンチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−ジフェニルアミノ−6−メチル−7−(4−2−クロロアニリノ)フルオラン、3−ジペンチルアミノ−7−(3−トリフルオロメチルアニリノ)フルオラン、3−ジフェニルアミノ−6−クロロ−7−アニリノフルオラン、3−ジフェニルアミノ−7−(4−クロロアニリノ)フルオラン、3−ピロリジノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−ピペリジノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N−メチル−N−プロピルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N−メチル−N−シクロヘキシルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N−エチル−N−シクロヘキシルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N−エチル−p−トルイジノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N−エチル−N−イソアミルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N−エチル−N−イソアミルアミノ)−6−クロロ−7−アニリノフルオラン、3−(N−エチル−N−テトラヒドロフルフリルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N−エチル−N−イソブチルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N−ブチル−N−イソアミルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N−イソプロピル−N−3−ペンチルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N−エチル−N−エトキシプロピルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−シクロヘキシルアミノ−6−クロロフルオラン、2−メチル−6−p−(p−ジメチルアミノフェニル)アミノアニリノフルオラン、2−メトキシ−6−p−(p−ジメチルアミノフェニル)アミノアニリノフルオラン、2−クロロ−3−メチル−6−p−(p−フェニルアミノフェニル)アミノアニリノフルオラン、2−ジエチルアミノ−6−p−(p−ジメチルアミノフェニル)アミノアニリノフルオラン、2−フェニル−6−メチル−6−p−(p−フェニルアミノフェニル)アミノアニリノフルオラン、2−ベンジル−6−p−(p−フェニルアミノフェニル)アミノアニリノフルオラン、3−メチル−6−p−(p−ジメチルアミノフェニル)アミノアニリノフルオラン、3−ジエチルアミノ−6−p−(p−ジエチルアミノフェニル)アミノアニリノフルオラン、3−ジエチルアミノ−6−p−(p−ジブチルアミノフェニル)アミノアニリノフルオラン、2,4−ジメチル−6−[(4−ジメチルアミノ)アニリノ]フルオラン、3,6,6’−トリス(ジメチルアミノ)スピロ[フルオレン−9,3’−フタリド]、3,6,6’−トリス(ジエチルアミノ)スピロ[フルオレン−9,3’−フタリド]、3,3−ビス(p−ジメチルアミノフェニル)−6−ジメチルアミノフタリド、3,3−ビス(p−ジメチルアミノフェニル)フタリド、3,3−ビス[2−(p−ジメチルアミノフェニル)−2−(p−メトキシフェニル)エテニル−4,5,6,7−テトラブロモフタリド、3,3−ビス[2−(p−ジメチルアミノフェニル)−2−(p−メトキシフェニル)エテニル−4,5,6,7−テトラクロロフタリド、3,3−ビス[1,1−ビス(4−ピロリジノフェニル)エチレン−2−イル]−4,5,6,7−テトラブロモフタリド、3,3−ビス[1−(4−メトキシフェニル)−1−(4−ピロリジノフェニル)エチレン−2−イル]−4,5,6,7−テトラクロロフタリド、3−(4−ジエチルアミノ−2−エトキシフェニル)−3−(1−エチル−2−メチルインドール−3−イル)−4−アザフタリド、3−(4−ジエチルアミノ−2−エトキシフェニル)−3−(1−オクチル−2−メチルインドール−3−イル)−4−アザフタリデン、3−(4−シクロヘキシルエチルアミノ−2−メトキシフェニル)−3−(1−エチル−2−メチルインドール−3−イル)−4−アザフタリド、3,3−ビス(1−エチル−2−メチルインドール−3−イル)フタリド、3,3−ビス(1−オクチル−2−メチルインドール−3−イル)フタリド;2−フェニル−4−(4−ジエチルアミノフェニル)−4−(4−メトキシフェニル)−6−メチル−7−ジメチルアミノ−3,1−ベンゾキサジンと2−フェニル−4−(4−ジエチルアミノフェニル)−4−(4−メトキシフェニル)−8−メチル−7−ジメチルアミノ−3,1−ベンゾキサジンとの混合物;4,4’−[1−メチルエチリデン)ビス(4,1−フェニ
レンオキシ−4,2−キナゾリンジイル)]ビス[N,N−ジエチルベンゼンアミン]、ビス(N−メチルジフェニルアミン)−4−イル−(N−ブチルカルバゾール)−3−イル−メタンを包含するが、しかし、これらに限定されるものではない。
とりわけ好ましいフルオラン化合物は、3−ジエチルアミノ−ベンゾ[a]フルオラン、3−(4−ジエチルアミノ−2−エトキシフェニル)−3−(1−エチル−2−メチルインドール−3−イル)−4−アザフタリド、3−(4−ジエチルアミノ−2−エトキシフェニル)−3−(1−オクチル−2−メチルインドール−3−イル)−4−アザフタリド、3−(4−シクロヘキシルアミノ−2−メトキシフェニル)−3−(1−エチル−2−メチルインドール−3−イル)−4−アザフタリド、3,3−ビス(1−エチル−2−メチルインドール−3−イル)フタリド、3,3−ビス(1−オクチル−2−メチルインドール−3−イル)フタリド;2−フェニル−4−(4−ジエチルアミノフェニル)−4−(4−メトキシフェニル)−6−メチル−7−ジメチルアミノ−3,1−ベンゾキサジンと2−フェニル−4−(4−ジエチルアミノフェニル)−4−(4−メトキシフェニル)−8−メチル−7−ジメチルアミノ−3,1−ベンゾキサジンとの混合物;4,4’−[1−メチルエチリデン)ビス(4,1−フェニレンオキシ−4,2−キナゾリンジイル)]ビス[N,N−ジエチルベンゼンアミン]、ビス(N−メチルジフェニルアミン)−4−イル−(N−ブチルカルバゾール)−3−イル−メタン、3−メチル−6−p−(p−ジメチルアミノフェニル)アミノアニリノフルオラン、3−ジエチルアミノ−6−p−(p−ジエチルアミノフェニル)アミノアニリノフルオラン、3−ジエチルアミノ−6−p−(p−ジブチルアミノフェニル)アミノアニリノフルオラン、2,4−ジメチル−6−[(4−ジメチルアミノ)アニリノ]フルオラン、3,6,6’−トリス(ジメチルアミノ)スピロ[フルオレン−9,3’−フタリド]、3,6,6’−トリス(ジエチルアミノ)スピロ[フルオレン−9,3’−フタリド]、3,3−ビス(p−ジメチルアミノフェニル)−6−ジメチルアミノフタリド、3,3−ビス(p−ジメチルアミノフェニル)フタリド、2−ジエチルアミノ−6−p−(p−ジメチルアミノフェニル)アミノアニリノフルオラン、3−ジブチルアミノ−6−メチル−7−(N−ホルミルメチルアミノ)フルオラン、2−メチル−6−p−(p−ジメチルアミノフェニル)アミノアニリノフルオラン、2−メトキシ−6−p−(p−ジメチルアミノフェニル)アミノアニリノフルオラン、3−(N−エチル−N−エトキシプロピルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N−エチル−N−テトラヒドロフルフリルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N−エチル−N−イソブチルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N−メチル−N−プロピルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N−メチル−N−シクロヘキシルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N−エチル−N−シクロヘキシルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N−エチル−p−トルイジノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N−エチル−N−イソアミルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−ジペンチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−ジブチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−ジエチルアミノ−7−メチルフルオラン、3−ジエチルアミノ−7−第三ブチルフルオラン、3−ジエチルアミノ−7−カルボキシエチルフルオラン、3−ジエチルアミノ−7−(ジベンジルアミノ)フルオラン、3−ジブチルアミノ−7−ジベンジルアミノフルオラン、3−ジエチルアミノ−6−メチルフルオラン、3−ジエチルアミノ−6−メチル−7−(4−n−オクチルアニリノ)フルオラン、3−ジエチルアミノ−7−(4−n−オクチルアニリノ)フルオラン、3−ジエチルアミノ−7−(4−n−オクチルアミノ)フルオランである。
上記色形成性化合物は、単一化合物として或いは、互いに又は別の色形成性化合物と組み合わせて、使用され得る。
幾つかの好ましい色形成性化合物は下記表に示されている。
Figure 2006510749
Figure 2006510749
Figure 2006510749
ポリマー状材料は、通常、フェノール系酸化防止剤及び/又はフェノール系紫外線吸収剤0.001ないし10質量%、好ましくは0.01ないし5質量%を含む。とりわけ技術的に重要なものは、フェノール系酸化防止剤及び/又はフェノール系紫外線吸収剤約0.3ないし3質量%を含むものである(質量%は全て、前記ポリマー状材料の全質量に対する。)。前記ポリマー状材料は、フェノール系酸化防止剤及び/又はフェノール系紫外線吸収剤2種又はそれより多くを含み得る。
ポリマー状材料中の色形成剤の量は通常、ポリマー状材料の総質量に対して、色形成剤約0.001ないし10質量%、最も好ましくは0.01ないし5質量%の範囲である。ポリマー状材料は、色形成剤2種又はそれより多くの混合物を含み得る。
フェノール系酸化防止剤及び/又はフェノール系紫外線吸収剤(a)対色形成剤(b)の比率は、フェノール系酸化防止剤及び/又はフェノール系紫外線吸収剤(a)の部当たり、例えば、色形成剤(b)0.01ないし100部の範囲であり得る;最も好ましくは、フェノール系酸化防止剤及び/又はフェノール系紫外線吸収剤(a)の部当たり、例えば、色形成剤(b)約0.1ないし10部である。
ポリマー状材料、色形成剤並びにフェノール系酸化防止剤及び/又はフェノール系紫外線吸収剤は通常、均質混合物を形成する。しかしながら、特定の用途に対しては、組成物は、フェノール系酸化防止剤及び/又はフェノール系紫外線吸収剤並びに色形成剤が、ポリマー状材料の一部分において、例えば、表面領域において、増加されるように製造され得る。
本発明の成分及び所望による別の添加剤は、別々に又は互いに混合されて、ポリマー状材料に添加され得る。ポリマーへの本発明の成分及び所望による別の添加剤の配合は、公知方法、例えば、粉末形態でのドライブレンド或いは、例えば不活性溶剤、水又は油中の溶液、分散液又は懸濁液の形態における湿式混合により行われる。本発明の添加剤及び所望による別の添加剤は、例えば、成形前後に配合され得る。それらは、例えば、乾燥混合物又は粉末として、或いは溶液又は分散液又は懸濁液又は溶融物として、加工装置(例えば、押出機、密閉式混合機等)に直接添加され得る。
配合は、撹拌機を備えたどのような加熱可能な容器中でも、例えば、混練機、撹拌機又は撹拌槽のような密閉装置中でも、行われ得る。配合は好ましくは、押出機中で又は混練機中で行われる。加工が不活性雰囲気中で又は酸素の存在下で行われるかどうかは重要でない。加工は好ましくは、加工中に添加剤を導入することにより、押出機中で行われる。
特に好ましい加工装置は、単軸押出機、反転性且つ同時回転性の二軸押出機、遊星ギア押出機、リング押出機又はコニーダーである。真空が適用され得る少なくとも一つのガス除去区画が備えられた加工装置を使用することも可能である。
適する押出機及び混練機は、例えば、「合成物質押出ハンドブック(Handbuch
der Kunststoffextrusion)」、第1版基礎(Grundlagen)、編者エフ.ヘンセン(F.Hensen)、ダブリュ.クナッペ(W.Knappe)、エイチ.ポテント(H.Potente)、1989年、第3〜7頁、ISBN3−446−14339−4[第2版押出基礎(Extrusionsanlagen)1986年、ISBN3−446−14329−7]に記載されている。
例えば、スクリュー長さはスクリュー直径の1〜60倍、好ましくはスクリュー直径の35〜48倍である。スクリューの回転速度は好ましくは、10〜600回転/分(rpm)、極めて好ましくは25〜300rpmである。
最大吐出量はスクリュー直径、回転速度及び駆動力に依存する。本発明の方法は、前記パラメーターを変更することにより、又は、定量を分配する計量装置を用いることにより、最大吐出量より低いレベルで行うこともできる。
多数の成分が添加される場合、それらは予め混合されるか又は別々に添加され得る。
本発明の成分1種又はそれより多く及び所望による別の添加剤は、ポリマー状材料の上に噴霧されてもよい。それらは、他の添加剤(例えば、以下に示される慣用の添加剤)又はその溶融物を稀釈することも可能であり、その結果、それらは、前記材料に前記添加剤と一緒に噴霧され得る。重合触媒の失活中の噴霧による添加は、特に利点があり得る;この場合、発生したスチームが、重合触媒の失活のために使用され得る。球状に重合されたポリオレフィンの場合、例えば、所望により他の添加剤と一緒に本発明の添加剤を、噴霧により適用することは利点がある。
本発明の成分及び所望による別の添加剤は、前記ポリマーに、例えば、約1質量%ないし約40質量%、そして好ましくは2質量%ないし約20質量%の濃度で一つのポリマーに配合された前記成分を含むマスターバッチ(“濃厚液”)の形態でも添加され得る。該ポリマーは、最終的に前記成分が添加される前記ポリマーと同一の構造である必要はない。この様な操作において、ポリマーは、粉末、顆粒、溶液、懸濁液の形態で又はラテックスの形態で、使用され得る。
配合は、成形操作の前又は間に、或いは、溶解された又は分散された化合物をポリマー
に適用し、次いで溶剤を蒸発させ又は蒸発させることなく、起こり得る。エラストマーの場合、それらは、ラテックスとしても安定化され得る。本発明の成分をポリマーに配合するための別の可能性は、対応するモノマーの重合の前、間又は直後に、或いは架橋の前に、それらを添加することである。これに関連して、本発明の成分は、そのまま又は他に(例えば、ワックス、油又はポリマー中に)カプセル化された形態で、添加され得る。
本明細書中に記載された本発明の成分を含む材料は、好ましくは、プラスチック物品、例えば、成形品、回転成形品、射出成形品、ブロー成形品、フィルム、テープ、モノフィラメント、繊維、織布、不織布、異形材の製造のために、更にまた、接着剤又はパテ、表面塗料等の製造のために、使用される。透明な材料がとりわけ好ましい。
使用される照射線源に応じて、本発明は、ポリマー状物品の均一な着色又は特定の領域の着色を導く方法を提供する。従って、均一に着色された材料並びに標識された物品或いは、物品上又は内のイメージが得られ得る。
例えば、溶剤に成分を溶解し、その後、蒸発させることにより溶剤を除去することが可能である。別の可能性は、ポリマー状材料を色形成剤並びにフェノール系酸化防止剤及び/又はフェノール系紫外線吸収剤と一緒に溶融して均質混合物を得るか、或いは、ポリマー状材料、色形成剤並びにフェノール系酸化防止剤及び/又はフェノール系紫外線吸収剤の混合物を徹底的に混練することである。
別の態様において、フェノール系酸化防止剤及び/又はフェノール系紫外線吸収剤は、この分野で既知の手段により、ポリマー状材料にグラフトされる。例えば、フェノール系酸化防止剤(a)は、適する反応性の官能性基を組み込むことにより、予めモノマーに転換されるか、又は、フェノール系酸化防止剤基(例えば、本発明化合物No.129又は130)で官能化されたモノマーが使用される。これは、ポリマー状材料の製造中の、存在するポリマー状材料へのグラフト重合又は共重合を可能にする。
ポリマー状材料は、別の成分、例えば、ポリマー状材料に対して慣用の安定剤、酸化防止剤、柔軟剤等を含み得、例が以下に記載されている。
1.別のフェノール系酸化防止剤
例えば、アルキル化モノフェノール、アルキルチオメチルフェノール、ヒドロキノン及びびアルキル化ヒドロキノン、トコフェロール、例えば、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ−トコフェロール及びそれらの混合物(ビタミンE);ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル、アルキリデンビスフェノール、O−、N−及びS−ベンジル化合物、ヒドロキシベンジル化マロネート、芳香族ヒドロキシベンジル化合物、トリアジン化合物、ベンジルホスホネート、アシルアミノフェノール、β−(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸の一価又は多価アルコールとのエステル、β−(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロピオン酸の一価又は多価アルコールとのエステル、β−(3,5−ジシクロヘキシル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸の一価又は多価アルコールとのエステル、3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル酢酸の以下の一価又は多価アルコールとのエステル、β−(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸のアミド、アスコルビン酸(ビタミンC)。
1.2.アミン系酸化防止剤
例えば、N,N’−ジイソプロピル−p−フェニレンジアミン、N,N’−ジ第二ブチル−p−フェニレンジアミン、N,N’−ビス(1,4−ジメチルペンチル)−p−フェニレンジアミン、N,N’−ビス(1−エチル−3−メチルペンチル)−p−フェニレンジアミン、N,N’−ビス(1−メチルヘプチル)−p−フェニレンジアミン、N,N’
−ジシクロヘキシル−p−フェニレンジアミン、N,N’−ジフェニル−p−フェニレンジアミン、N,N’−ビス(2−ナフチル)−p−フェニレンジアミン、N−イソプロピル−N’−フェニル−p−フェニレンジアミン、N−(1,3−ジメチルブチル)−N’−フェニル−p−フェニレンジアミン、N−(1−メチルヘプチル)−N’−フェニル−p−フェニレンジアミン、N−シクロヘキシル−N’−フェニル−p−フェニレンジアミン、4−(p−トルエンスルファモイル)ジフェニルアミン、N,N’−ジメチル−N,N’−ジ第二ブチル−p−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、N−アリルジフェニルアミン、4−イソプロポキシジフェニルアミン、N−フェニル−1−ナフチルアミン、N−(4−第三オクチルフェニル)−1−ナフチルアミン、N−フェニル−2−ナフチルアミン、オクチル化ジフェニルアミン、例えばp,p’−ジ第三オクチルジフェニルアミン、4−n−ブチルアミノフェノール、4−ブチリルアミノフェノール、4−ノナノイルアミノフェノール、4−ドデカノイルアミノフェノール、4−オクタデカノイルアミノフェノール、ビス(4−メトキシフェニル)アミン、2,6−ジ第三ブチル−4−ジメチルアミノメチルフェノール、2,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、N,N,N’,N’−テトラメチル−4,4’−ジアミノジフェニルメタン、1,2−ビス[(2−メチルフェニル)アミノ]エタン、1,2−ビス(フェニルアミノ)プロパン、(o−トリル)ビグアニド、ビス[4−(1’,3’−ジメチルブチル)フェニル]アミン、第三オクチル化N−フェニル−1−ナフチルアミン、モノ−及びジアルキル化第三ブチル/第三オクチルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化ノニルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化イソプロピル/イソヘキシルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化第三ブチルジフェニルアミンの混合物、2,3−ジヒドロ−3,3−ジメチル−4H−1,4−ベンゾチアジン、フェノチアジン、モノ−及びジアルキル化第三ブチル/第三オクチルフェノチアジンの混合物、モノ−及びジアルキル化第三オクチルフェノチアジンの混合物、N−アリルフェノチアジン、N,N,N’,N’−テトラフェニル−1,4−ジアミノブテ−2−エン、N,N−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−ピペリジ−4−イル)ヘキサメチレンジアミン、ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジ−4−イル)セバケート、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−オン、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−オール。
2.紫外線吸収剤及び光安定剤
2.1.2−(2' −ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール
例えば、2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)−ベンゾトリアゾール、2−(3’,5’−ジ第三ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾ−ル、2−(5’−第三ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾ−ル、2−(2’−ヒドロキシ−5’−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェニル)ベンゾトリアゾ−ル、2−(3’,5’−ジ第三ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾ−ル、2−(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾ−ル、2−(3’−第二ブチル−5’−第三ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾ−ル、2−(2’−ヒドロキシ−4’−オクチルオキシフェニル)ベンゾトリアゾ−ル、2−(3’,5’−ジ第三アミル−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾ−ル、2−(3’,5’−ビス(α,α−ジメチルベンジル)−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾ−ル、2−(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−オクチルオキシカルボニルエチル)フェニル)−5−クロロ−ベンゾトリアゾ−ル、2−(3’−第三ブチル−5’−[ 2−(2−エチルヘキシルオキシ)カルボニルエチル] −2’−ヒドロキシフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾ−ル、2−(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−メトキシカルボニルエチル)フェニル)−5−クロロベンゾトリアゾ−ル、2−(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−メトキシカルボニルエチル)フェニル)ベンゾトリアゾ−ル, 2−(3
’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−オクチルオキシカルボニルエチル)フェニル)ベンゾトリアゾ−ル, 2−(3’−第三ブチル−5’−[ 2−(2−エチルヘキシルオキシ)カルボニルエチル] −2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾ−ル、2−(3’−ドデシル−2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾ−ル、2−(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−イソオクチルオキシカルボニルエチル)フェニルベンゾトリアゾ−ル、2,2’−メチレン−ビス[4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−ベンゾトリアゾ−ル−2−イルフェノール];2−[3’−第三ブチル−5’−(2−メトキシカルボニルエチル)−2’−ヒドロキシフェニル]−2H−ベンゾトリアゾ−ルとポリエチレングリコール300とのエステル交換生成物;[R−CH2 CH2 −COO−CH2 CH2 −]2 (式中、Rは3’−第三ブチル−4’−ヒドロキシ−5’−2H−ベンゾトリアゾール−2−イルフェニル基を表わす。)、2−[2’−ヒドロキシ−3’−(α,α−ジメチルベンジル)−5’−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェニル]ベンゾトリアゾ−ル、2−[2’−ヒドロキシ−3’−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−5’−(α,α−ジメチルベンジル)フェニル]ベンゾトリアゾ−ル。
2.2.2−ヒドロキシベンゾフェノン
例えば、4−ヒドロキシ−、4−メトキシ−、4−オクトキシ−、4−デシルオキシ−、4−ドデシルオキシ−、4−ベンジルオキシ−、4,2' ,4' −トリヒドロキシ−及び2' −ヒドロキシ−4,4' −ジメトキシ誘導体。
2.3.置換された及び非置換の安息香酸のエステル
例えば、4−第三ブチルフェニルサリチレート、フェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス(4−第三ブチルベンゾイル)レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、2,4−ジ第三ブチルフェニル3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、2−メチル−4,6−ジ第三ブチルフェニル3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート。
2.4.アクリルレート
例えば、α−シアノ−β,β−ジフェニルアクリレート、イソオクチルα−シアノ−β,β−ジフェニルアクリレート、メチルα−カルボメトキシシンナメート、メチルα−シアノ−β−メチル−p−メトキシシンナメート、ブチルα−シアノ−β−メチル−p−メトキシシンナメート、メチルα−カルボメトキシ−p−メトキシシンナメート及びN−(β−カルボメトキシ−β−シアノビニル)−2−メチルインドリン。
2.5.ニッケル化合物
例えば、付加的な配位子、例えばn−ブチルアミン、トリエタノールアミン又はN−シクロヘキシルジエタノールアミンを有するか又は有しない、2,2' −チオビス[4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノール]のニッケル錯体、例えば1:1又は1:2錯体;ニッケルジブチルジチオカルバメート、4−ヒドロキシ−3,5−ジ第三ブチルベンジルホスホン酸のモノアルキルエステル例えばメチル又はエチルエステルのニッケル塩、ケトキシム例えば2−ヒドロキシ−4−メチルフェニルウンデシルケトキシムのニッケル錯体、付加的な配位子を有するか又は有しない、1−フェニル−4−ラウロイル−5−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体。
2.6.立体障害アミン
例えば、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)スクシネート、ビス(1,2,2,6
,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)n−ブチル−3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルマロネート;1−(2−ヒドロキシエチル)−2,2,6,6−テトラメチル−4−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合生成物;N,N' −ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)ヘキサメチレンジアミンと4−第三オクチルアミノ−2,6−ジクロロ−1,3,5−トリアジンとの直鎖状又は環状縮合生成物;トリス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ニトリロトリアセテート、テトラキス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート、1,1' −(1,2−エタンジイル)ビス(3,3,5,5−テトラメチルピペラジノン)、4−ベンゾイル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−ステアリルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)−2−n−ブチル−2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ第三ブチルベンジル)マロネート、3−n−オクチル−7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8−トリアザスピロ[4.5]デカン−2,4−ジオン、ビス(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)セバケート、ビス(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)スクシネート;N,N’−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ヘキサメチレンジアミンと4−モルホリノ−2,6−ジクロロ−1,3,5−トリアジンとの直鎖状又は環状縮合生成物;2−クロロ−4,6−ビス(4−n−ブチルアミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)−1,3,5−トリアジンと1,2−ビス(3−アミノプロピルアミノ)エタンとの縮合生成物;2−クロロ−4,6−ジ(4−n−ブチルアミノ−1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)−1,3,5−トリアジンと1,2−ビス(3−アミノプロピルアミノ)エタンとの縮合生成物;8−アセチル−3−ドデシル−7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8−トリアザスピロ[4.5]デカン−2,4−ジオン、3−ドデシル−1−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ピロリジン−2,5−ジオン、3−ドデシル−1−(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)ピロリジン−2,5−ジオン、5−(2−エチルヘキサノイル)オキシメチル−3,3,5−トリメチル−2−モルホリノン、1−(2−ヒドロキシ−2−メチルプロポキシ)−4−オクタデカノイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、1,3,5−トリス(N−シクロヘキシル−N−(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−3−オン−4−イル)アミノ)−s−トリアジン、1,3,5−トリス(N−シクロヘキシル−N−(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン−3−オン−4−イル)アミノ)−s−トリアジン;2,4−ビス[(1−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−ペリジン−4−イル)ブチルアミノ]−6−クロロ−s−トリアジンとN,N’−ビス(3−アミノプロピル)エチレンジアミンとの反応生成物;4−ヘキサデシルオキシ−及び4−ステアリルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンの混合物;N,N’−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ヘキサメチレンジアミンと4−シクロヘキシルアミノ−2,6−ジクロロ−1,3,5−トリアジンとの縮合生成物;1,2−ビス(3−アミノプロピルアミノ)エタンと2,4,6−トリクロロ−1,3,5−トリアジン並びに4−ブチルアミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンの縮合生成物[CAS Reg.No.(136504−96−6)];1,6−ヘキサンジアミンと2,4,6−トリクロロ−1,3,5−トリアジン並びにN,N−ジブチルアミン及び4−ブチルアミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンの縮合生成物[CAS Reg.No.(192268−64−7)];N−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−n−ドデシルスクシンイミド、N−(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)−n−ドデシルスクシンイミド、2−ウンデシル−7,7,9,9−テトラメチル−1−オキサ−3,8−ジアザ−4−オキソ−スピロ[4.5]デカン、5−(2−エチルヘキサノイル)オキシメチル−3,3,5−トリメチル−2−モルホリノン;7,7,9,9−テトラメチル−2−シクロウンデシル−1−オキサ−3,8−ジアザ−4−オキソ−スピロ[4.
5]デカンとエピクロロヒドリンとの反応生成物、1,1−ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジルオキシカルボニル)−2−(4−メトキシフェニル)エタン、N,N’−ビスホルミル−N,N’−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ヘキサメチレンジアミン、4−メトキシメチレンマロン酸と1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ヒドロキシピペリジンとのジエステル、ポリ[メチルプロピル−3−オキシ−4−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)]シロキサン、マレイン酸無水物−α−オレフィン−コポリマーと2,2,6,6−テトラメチル−4−アミノピペリジン又は1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−アミノピペリジンとの反応生成物。
2.7.オキサミド
例えば、4,4' −ジオクチルオキシオキサニリド、2,2' −ジエトキシオキサニリド、2,2' −ジオクチルオキシ−5,5' −ジ第三ブトキサニリド、2,2' −ジドデシルオキシ−5,5' −ジ第三ブトキサニリド、2−エトキシ−2' −エチルオキサニリド、N,N' −ビス(3−ジメチルアミノプロピル)オキサミド、2−エトキシ−5−第三ブチル−2' −エトキサニリド及びその2−エトキシ−2' −エチル−5,4' −ジ第三ブトキサニリドとの混合物、o−及びp−メトキシ−二置換オキサニリドの混合物並びにo−及びp−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。
2.8.2−(2−ヒドロキシフェニル)−1,3,5−トリアジン
例えば、2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(2−ヒドロキシ−4−プロピルオキシフェニル)−6−(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−4,6−ビス(4−メチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−ドデシルオキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−トリデシルオキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−[2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3−ブチルオキシプロポキシ)フェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチル)−1,3,5−トリアジン、2−[2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3−オクチルオキシプロピルオキシ)フェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチル)−1,3,5−トリアジン、2−[4−ドデシルオキシ/トリデシルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)−2−ヒドロキシフェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−[2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3−ドデシルオキシプロポキシ)フェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−ヘキシルオキシ)フェニル−4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−メトキシフェニル)−4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス[2−ヒドロキシ−4−(3−ブトキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル]−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシフェニル)−4−(4−メトキシフェニル)−6−フェニル−1,3,5−トリアジン、2−{2−ヒドロキシ−4−[3−(2−エチルヘキシル−1−オキシ)−2−ヒドロキシプロピルオキシ]フェニル}−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン。
3.金属奪活剤
例えば、N,N’−ジフェニルオキサミド、N−サリチラル−N’−サリチロイルヒドラジン、N,N’−ビス(サリチロイル)ヒドラジン、N,N’−ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヒドラジン、3−サリチロイルアミノ−
1,2,4−トリアゾール、ビス(ベンジリデン)オキサリルジヒドラジド、オキサニリド、イソフタロイルジヒドラジド、セバコイルビスフェニルヒドラジド、N,N’−ジアセチルアジポイルジヒドラジド、N,N’−ビス(サリチロイル)オキサリルジヒドラジド、N,N’−ビス(サリチロイル)チオプロピオニルジヒドラジド。
4.ホスフィット及びホスホナイト
例えばトリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリス(ノニルフェニル)ホスフィット、トリラウリルホスフィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス(2,4−ジ第三ブチルフェニル)ホスフィット、ジイソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス(2,4−ジ第三ブチルフェニル)ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス(2,4−ジクミルフェニル)ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス(2,6−ジ第三ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリトリトールジホスフィット、ジイソデシルオキシペンタエリトリトールジホスフィット、ビス(2,4−ジ第三ブチル−6−メチルフェニル)ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス(2,4,6−トリス(第三ブチルフェニル)ペンタエリトリトール)ジホスフィット、トリステアリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス(2,4−ジ第三ブチルフェニル)4,4’−ビフェニレンジホスホナイト、6−イソオクチルオキシ−2,4,8,10−テトラ第三ブチル−12H−ジベンズ[d,g]−1,3,2−ジオキサホスホシン、ビス(2,4−ジ第三ブチル−6−メチルフェニル)メチルホスフィット、ビス(2,4−ジ第三ブチル−6−メチルフェニル)エチルホスフィット、6−フルオロ−2,4,8,10−テトラ第三ブチル−12−メチル−ジベンズ[d,g]−1,3,2−ジオキサホスホシン、2,2’,2”−ニトリロ[トリエチルトリス(3,3’,5,5’−テトラ第三ブチル−1,1’−ビフェニル−2,2’−ジイル)ホスフィット]、2−エチルヘキシル(3,3’,5,5’−テトラ第三ブチル−1,1’−ビフェニル−2,2’−ジイル)ホスフィット、5−ブチル−5−エチル−2−(2,4,6−トリ第三ブチル−フェノキシ)−1,3,2−ジオキサホスフィラン。
下記のホスフィットはとりわけ好ましい。
トリス(2,4−ジ第三ブチルフェニル)ホスフィット〔チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング社製のイルガフォス168(Irgafos168)(登録商標名)〕、トリス(ノニルフェニル)ホスフィット。
Figure 2006510749
5.ヒドロキシルアミン
例えば、N,N−ジベンジルヒドロキシルアミン、N,N−ジエチルヒドロキシルアミン、N,N−ジオクチルヒドロキシルアミン、N,N−ジラウリルヒドロキシルアミン、N,N−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、N,N−ジヘキサデシルヒドロキシルアミン、N,N−ジオクタデシルヒドロキシルアミン、N−ヘキサデシル−N−オクタデシルヒドロキシルアミン、N−ヘプタデシル−N−オクタデシルヒドロキシルアミン、水素化獣脂アミンから誘導されたN,N−ジアルキルヒドロキシルアミン。
6.ニトロン
例えば、N−ベンジル−α−フェニルニトロン、N−エチル−α−メチルニトロン、N
−オクチル−α−ヘプチルニトロン、N−ラウリル−α−ウンデシルニトロン、N−テトラデシル−α−トリデシルニトロン、N−ヘキサデシル−α−ペンタデシルニトロン、N−オクタデシル−α−ヘプタデシルニトロン、N−ヘキサデシル−α−ヘプタデシルニトロン、N−オクタデシル−α−ペンタデシルニトロン、N−ヘプタデシル−α−ヘプタデシルニトロン、N−オクタデシル−α−ヘキサデシルニトロン、水素化獣脂アミンから誘導されたN,N−ジアルキルヒドロキシルアミンから誘導されたニトロン。
7.チオ相乗剤
例えば、ジラウリルチオジプロピオネート又はジステアリルチオジプロピオネート。
8.過酸化物掃去剤
例えば、β−チオジプロピオン酸エステル、例えばラウリル、ステアリル、ミリスチル又はトリデシルエステル、メルカプトベンゾイミダゾール又は2−メルカプトベンゾイミダゾール亜鉛塩、亜鉛ジブチルジチオカルバメート、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリトールテトラキス(β−ドデシルメルカプト)プロピオネート。
9.ポリアミド安定剤
例えば、沃化物及び/又は燐化合物と組み合わせた銅塩及び二価マンガン塩。
10.塩基性補助安定剤
例えば、メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩、例えばカルシウムステアレート、亜鉛ステアレート、マグネシウムベヘネート、マグネシウムステアレート、ナトリウムリシノレート及びカリウムパルミテート、アンチモンピロカテコレート又は亜鉛ピロカテココレート。
11.核剤
例えば、無機物質、例えば滑石、金属酸化物、例えば二酸化チタン又は酸化マグネシウム、好ましくはアルカリ土類金属の燐酸塩、炭酸塩又は硫酸塩;有機化合物、例えばモノ−又はポリカルボン酸及びその塩、例えば4−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸、コハク酸ナトリウム又は安息香酸ナトリウム;ポリマー状化合物、例えばイオン性コポリマー(イオノマー)。とりわけ好ましいものは、1,3:2,4−ビス(3’,4’−ジメチルベンジリデン)ソルビトール、1,3:2,4−ジ(パラメチル−ジベンジリデン)ソルビトール及び1,3:2,4−ジ(ベンジリデン)ソルビトールである。
12.充填材及び強化材
例えば、炭酸カルシウム、珪酸塩、ガラス繊維、ガラス球、アスベスト、滑石、陶土、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物及び水酸化物、カーボンブラック、黒鉛、木粉及び他の天然産品の細粉又は繊維、合成繊維。
13.その他の添加剤
例えば、可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、レオロジー添加剤、触媒、流れ調整剤、蛍光増白剤、防炎加工剤、帯電防止剤及び発泡剤。
14.ベンゾフラノン及びインドリノン
例えば米国特許第4325863号明細書;米国特許第4338244号明細書;米国特許第5175312号明細書;米国特許第5216052号明細書;米国特許第5252643号明細書;ドイツ国特許公開第4316611号公報;ドイツ国特許出願公開第4316622号明細書;ドイツ国特許出願公開第4316876号明細書;欧州特許出
願公開第0589839号明細書又は欧州特許出願公開第0591102号明細書に開示されたもの、又は3−[4−(2−アセトキシエトキシ)フェニル]−5,7−ジ第三ブチル−ベンゾフラン−2−オン、5,7−ジ第三ブチル−3−[4−(2−ステアロイルオキシエトキシ)フェニル]ベンゾフラン−2−オン、3,3’−ビス[5,7−ジ第三ブチル−3−(4−[2−ヒドロキシエトキシ]フェニル)ベンゾフラン−2−オン]、5,7−ジ第三ブチル−3−(4−エトキシフェニル)ベンゾフラン−2−オン、3−(4−アセトキシ−3,5−ジメチルフェニル)−5,7−ジ第三ブチル−ベンゾフラン−2−オン、3−(3,5−ジメチル−4−ピバロイルオキシフェニル)−5,7−ジ第三ブチル−ベンゾフラン−2−オン、3−(3,4−ジメチルフェニル)−5,7−ジ第三ブチル−ベンゾフラン−2−オン、3−(2,3−ジメチルフェニル)−5,7−ジ第三ブチル−ベンゾフラン−2−オン。
フェノール系酸化防止剤及び/又はフェノール系紫外線吸収剤を酸に転換するために、ポリマー状材料が照射される。本発明においてマーキングするために特に有用な照射源はとりわけ紫外線、なかでも紫外線レーザーである。使用されるレーザーは、市販品が入手可能である。紫外線の波長は好ましくは285nmないし400nmの範囲、より好ましくは285nmないし370nmの範囲にある。照射の所要時間は、成分及び紫外線源の種類に依存し、そして所定の実験により容易に決定され得る。
別の高エネルギー照射源が使用される場合、上記成分(a)のフェノール系酸化防止剤及び/又はフェノール系紫外線吸収剤は、本発明の着色方法において、潜在酸としての活性を示す別の化合物と取り替えられ得る;例は、上記式(X)で表わされる化合物又は式(2)ないし(14)で表わされる化合物である。従って、本発明は更に、
c)フェノール系酸化防止剤、フェノール系紫外線吸収剤及び/又は潜在酸、並びに
d)色形成剤
を含むポリマー状材料が、紫外線よりも高いエネルギーの輻射線を使用して照射されることからなるポリマー状材料を着色する方法に関するものである。
紫外線よりも高いエネルギーの適する輻射線は、X線、γ線、又は粒子線、例えば電子ビームである。好ましい輻射線源は、X線又は電子輻射線源並びに、α−、β−及び/又はγ−線を放出する放射性物質を包含する。
成分(c)として好ましいものは、基本的に、上記の好ましいフェノール系酸化防止剤及び/又はフェノール系紫外線吸収剤(a)又は、上記式(X)で表わされる化合物及び式(2)ないし(14)で表わされる化合物である。本プロセスにおいて最も好ましい成分(c)は、化合物(101)〜(133)並びに化合物No.(13)である。成分(d)の色形成剤は、基本的に、上記成分(b)のものと同じである。成分(c)及び成分(d)の投与量、好ましいポリマー状材料及びその用途も、最初に記載の通りである。
本発明に記載されたシステムは、不可逆性マーカーとして使用され得る。
本発明は、本発明の成分を含む衣服にも関するものである。このような衣服は、例えば、該衣服が例えばγ線照射により滅菌されるとき、不可逆性の色変化により外部照射を表示する。別の例は、事故又は核攻撃の場合における、原子力発電所及び核物質回収/貯蔵棟における、例えば、作業員又は警備員用の防護服としての、このような衣服の使用である。
特定の実施態様は、表面上又は目視可能な表面下(例えば、透明な被覆層で被覆されている。)に本発明の成分(a)及び成分(b)、又は成分(c)及び成分(d)を有するポリマー状材料を含むABC防護服であって、照射又は放射性物質との接触により着色が
起こる防護服である。
衣服は、合成又は天然繊維を基材とし得る。合成繊維材料の例は、最新技術において周知の、例えば、ポリエステル、ポリアミド、ポリプロピレン、エラスタン、ポリウレタン、ポリアラミド、ポリアクリル、或いは、この分野において知られている他の材料である。繊維は、溶融法により主に製造され(繊維紡糸)、ここで、本発明の成分が添加され得る。結果として、完成した繊維は、照射されたとき変色する。これらの繊維は、布地を作るために使用され得る。これらの布地は、上述の衣服のために適する。合成又は天然繊維(綿、ウール等のような)を組み合わせて布地にすることも可能である。更に、官能性衣服は、別々の布地層に基づく複数の官能性を兼ね備え得る。本発明の布地は好ましくは、完成した衣服の外部の、目視可能な部分に使用される。
本発明は、(a)フェノール系酸化防止剤及び/又はフェノール系紫外線吸収剤、並びに(b)色形成剤を、繊維溶融紡糸工程の前又は間に、合成ポリマーに添加することからなる、繊維又は織布又は不織布を製造する方法にも関するものである。
本成分(a)及び成分(b)を含むこれらの材料又はフィルム又はプレートは更に、X線又は放射性照射を表示するタグとして有用である。照射強度は、発色を観察することにより、或いは、照射されたタグ又はサンプルの色を照射されていないタグ又はサンプルの色と比較することにより、監視され得る。従って、本発明は更に、上記の成分(a)及び成分(b)又は成分(c)及び成分(d)を含むポリマー状材料のタグ又はサンプルを制御する部位に配置し、その後、前記タグ又はサンプルの色を検査することからなる、X線又は放射性物質による照射を監視する方法を提供する。
下記の非限定的な実施例により、本発明をより詳細に説明する。部及び百分率は、特記しない限り質量による。
実施例1:
製剤:色形成剤(3,3−ビス(p−ジメチルアミノフェニル)−6−ジメチルアミノフタリド)12g及びフェノール系酸化防止剤ペンタエリトリトールテトラキス(3−(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート)[チバ スペシャルティ ケミカルズ(Ciba Specialty Chemicals)社製のイルガノックス1010(登録商標)(Irganox1010)として入手可能]12gを、ターボミキサー中で、メルトインデックス3.0(230℃及び2.16kgで測定された)を有するポリプロピレン粉末[ポリプロピレン、モプレン(登録商標)(Moplen)JE6100、バーゼル]1176gと混合した。
この混合物は200〜230℃で押し出されてポリマー顆粒を与え、該ポリマー顆粒は、その後、射出成形機[イタリア国のネグリボシ(Negribossi)社製]を使用し且つ最高温度220℃で作動させることにより、厚さ1mmのプラックに加工された。
同様の手法が、下記表1に記載された量を用いて、製剤2、3及び4に対して適用された。
Figure 2006510749
紫外線レーザー画像化:ポリプロピレンプラック(上記表1における通りの組成)が、355nm、3kHZ、出力99.9%及び走査速度15mm/秒で操作されるレーザーテック(登録商標)(Lasertec)紫外線レーザーシステムを使用して、照射された。一旦、画像化が完結すると、プラック上に文字が明確に目視確認された。繰り返された画像化は、より強い画像化をもたらした。その後プラックを、13000ルクスの平均出力を用いて、ライトリグ上で人工日光に67時間晒した。画像化された文字の密度における大きな変化は認められなかった。プラックの非画像化背景の光学密度及びL* * * 価(CIELAB)を、グレターク(登録商標)(Gretag)SPM50分光光度計を使用して、人工日光への暴露の前後で測定した。上記表1に記載された通りの製剤2〜4を、同様の方法で試験した。結果を、下記表2にまとめて示す。
Figure 2006510749
未照射背景に対する着色として得られた画像は、良好なコントラスト及び光安定性を示した。
実施例2:
色形成剤(3,3−ビス(p−ジメチルアミノフェニル)−6−ジメチルアミノフタリド)15g及び[2−ヒドロキシル−4−(オクチルオキシ)フェニル]フェニル−メタノン(化合物E)7.5gを、ターボミキサー中で、メルトインデックス3.0(230℃及び2.16kgで測定された)を有するポリプロピレン粉末[ポリプロピレン;モプレン(登録商標)(Moplen)JE6100、バーゼル]1477gと混合した。
この混合物は200〜230℃で押し出されてポリマー顆粒を与え、該ポリマー顆粒は、その後、射出成形機[イタリア国のネグリボシ(Negribossi)社製]を使用し且つ最高温度220℃で作動させることにより、厚さ1mmのプラックに加工された。
同様の手法が、下記表3に記載された量を用いて、異なるフェノール系紫外線吸収剤が顕色剤として使用された製剤2及び3に対して適用された。
化合物Fは2,4−ジ第三ブチル−6−(5−クロロベンゾトリアゾール−2−イル)フェノールを表わし、そして化合物Gは2−(4,6−ビス−ビフェニル−4−イル)−[1,3,5]トリアジン−2−イル)−5−(2−エチル−ヘキシルオキシ)フェノールを表わす。
Figure 2006510749
γ線画像化:ポリプロピレンプラック(上記表3における通りの組成)が、20kGyの照射出力を持つγ線源を使用して照射された。一旦、画像化が完結すると、プラックは、色の大きな変化を示した。プラックのL* * * 価(CIELAB)を、ミノルタ(登録商標)(Minolta)CM−508d比色計を使用して、γ線への暴露の前後で測定した。上記表3に記載された製剤2及び3を、同様の方法で試験した。結果を、下記表4にまとめて示す。
Figure 2006510749
得られた色の目視的評価を表5に記載する。
Figure 2006510749
機器的及び目視的評価の両方に見出され得るように、紫外線吸収剤を含むプラックの色における著しい変化がγ線処理により起こり、その結果、前記プラックは、非画像化のものとは異なる色を示した。
実施例3:PC射出成形サンプル
ポリカーボネート[PC;レキサン(登録商標)(Lexan)145]粉末4000gを真空オーブン中、100mmHg及び120℃で少なくとも6時間乾燥し、その後、高速ミキサーヘンシェル(登録商標)(Henschel)FM/L10により75℃で、トリス(2,4−ジ第三ブチルフェニル)ホスフィット(化合物20)3.36g、1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−第三ブチルフェニル)ブタン(化合物13)2.0g及び色形成剤A(3,3−ビス(p−ジメチルアミノフェニル)−6−ジメチルアミノフタリド)2.0gと混合し、そして、バーシュトーフ(登録商標)(Berstorff)ZE25×32Dにより280℃でコンパウンド化した。ペレットを真空オーブン中、120℃及び100mmHgで少なくとも6時間乾燥し、その後、エンゲル(登録商標)(Engel)EK65射出成形機により300℃で、厚さ2mmのプラックに射出成形した。このサンプルを20kGy電子ビーム(e−ビーム)照射に暴露した。
同様の手法を、下記表6に記載された他の製剤全てに適用した。電子ビーム処理の前後の色を、スペクトラフラッシュ(登録商標)(Spektraflash)SF600プラスを用いて測定した。結果を下記表7に示す。
色形成剤Bは3−ジエチルアミノ−7−カルボキシエチルフルオランである。色形成剤Cはビス(N−メチルジフェニルアミン)−4−イル−(N−ブチルカルバゾール)−3−イル−メタンである。色形成剤Dは3−ジエチルアミノベンゾ[a]フルオランである。色形成剤Eは3−ジエチルアミノ−6,8−ジメチルフルオランである。
Figure 2006510749
Figure 2006510749
電子ビーム処理の前後のサンプルの目視的外観を下記表8に示す。
Figure 2006510749
このサンプルを更に、パルスエネルギー80μJ/パルスを持ち355nm、20kHzで操作する紫外線レーザーを使用して、画像化した。それぞれの場合において、表8に示す通りの同様の色が観察された。
実施例4:PMMA射出成形サンプル
ポリ(メチルメタクリレート)[PMMA;プレキシグラス(登録商標)(Plexiglas)7N]2500gを真空オーブン中、100mmHg、800℃で8時間乾燥
し、高速ミキサーMTI(登録商標)/M35FUにより、色形成剤A(3,3−ビス(p−ジメチルアミノフェニル)−6−ジメチルアミノフタリド)1.31g、1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−第三ブチルフェニル)ブタン(化合物13)1.31g及び化合物21[トリス(2,4−ジ第三ブチルフェニル)ホスフィット80%/オクタデシル−3−(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート20%]と混合し、バーシュトーフ(登録商標)(Berstorff)ZE25×32D二軸スクリュー押出機により230℃でコンパウンド化し、その後、80℃/100mmHgで2時間乾燥し、そして、エンゲル(登録商標)(Engel)HL65射出成形機により255℃で、厚さ2mmのプラックに射出成形した。このサンプルを20kGy電子ビーム(e−ビーム)照射に暴露した。
同様の手法を、下記表9に記載された他の製剤全てに適用した。電子ビーム処理の前後の色を、スペクトラフラッシュ(登録商標)(Spektraflash)SF600プラスを用いて測定した。結果を下記表10に示す。
色形成剤Bは3−ジエチルアミノ−7−カルボキシエチルフルオランである。色形成剤Cはビス(N−メチルジフェニルアミン)−4−イル−(N−ブチルカルバゾール)−3−イル−メタンである。
Figure 2006510749
Figure 2006510749
電子ビーム処理の前後のサンプルの目視的外観を下記表11に示す。
Figure 2006510749
このサンプルを更に、パルスエネルギー80μJ/パルスを持ち355nm、20kHzで操作する紫外線レーザーを使用して、画像化した。それぞれの場合において、表11に示す通りの同様の色が観察された。

Claims (16)

  1. a)フェノール系酸化防止剤及び/又はフェノール系紫外線吸収剤、並びに
    b)色形成剤
    を含むポリマー状材料が、可視光線よりもより高いエネルギーの輻射線を使用して照射されることからなるポリマー状材料を着色する方法であって、
    但し、前記フェノール系酸化防止剤及び/又はフェノール系紫外線吸収剤(a)は次式(2)ないし(14):
    Figure 2006510749
    Figure 2006510749
    Figure 2006510749
    で表わされる化合物でない方法。
  2. 可視光線よりもより高いエネルギーの前記輻射線が紫外線、X線、γ線及び粒子線から、
    とりわけ紫外線レーザー又は285nmないし400nmの紫外線ランプ輻射線、電子線、X線及びγ線から選択される請求項1記載の方法。
  3. 成分(a)が、一つ又はそれより多くのモノ−ヒドロキシフェニル部分であって、それぞれ、該部分を同一種類の別の部分1個ないし3個に結合している結合基に対する又はアンカー基に対する一つ又は二つの結合を持つモノ−ヒドロキシフェニル部分、
    並びに所望により、炭素原子数1ないし12のアルキル基から選択された別の置換基1
    個ないし3個を含む化合物であって、
    前記結合基は、炭素原子数1ないし20の二価、三価又は四価の脂肪族基であり、そして
    二価結合基は、
    −O−基、−NH−基、−S−基、−CO−基、−COO−基、−OCO−基、−NHCO−基、−CONH−基、基L1 、フェニレン基、炭素原子数1ないし12のアルキル基及び/又は炭素原子数1ないし12のアルコキシ基及び/又は炭素原子数2ないし12のアルカノイルオキシ基及び/又は炭素原子数3ないし12のアルケノイルオキシ基により置換されたフェニレン基で中断され得る及び/又は末端キャップされ得るアルキレン基;二価モノ−、ジ−又はトリシクロアルキレン基;−O−基により中断された二価モノ−、ジ−又はトリシクロアルキレン基;スペーサー基:−O−基;−NH−基;−S−基;−CO−基;−COO−基;−OCO−基;−NHCO−基;−CONH−基から選択され、 三価基は、
    炭素原子数3ないし20の三価アルキル基;−O−基、−NH−基、−S−基、−CO−基、−COO−基、−OCO−基、−NHCO−基、−CONH−基、基L1 、フェニレン基、炭素原子数1ないし12のアルキル基及び/又は炭素原子数1ないし12のアルコキシ基及び/又は炭素原子数2ないし12のアルカノイルオキシ基及び/又は炭素原子数3ないし12のアルケノイルオキシ基により置換されたフェニレン基で中断された及び/又は末端キャップされた炭素原子数3ないし20の三価アルキル基から、或いは、次式:
    Figure 2006510749
    で表わされる三価基から選択され、
    四価基は、
    炭素原子数4ないし20の四価アルキル基;−O−基、−NH−基、−S−基、−CO−基、−COO−基、−OCO−基、−NHCO−基、−CONH−基、基L1 、フェニレン基、炭素原子数1ないし12のアルキル基及び/又は炭素原子数1ないし12のアルコキシ基及び/又は炭素原子数2ないし12のアルカノイルオキシ基及び/又は炭素原子数3ないし12のアルケノイルオキシ基により置換されたフェニレン基で中断された及び/又は末端キャップされた炭素原子数4ないし20の四価アルキル基から選択され、
    前記において、
    1 は次式:
    Figure 2006510749
    から選択された基を表わし、
    2 は−OH基、炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基、炭素原子数2ないし12のヒドロキシアルキル基、炭素原子数2ないし12のヒドロキシアルコキシ基を表わし、
    3 は独立して炭素原子数1ないし4のアルキレン基を表わし、
    4 は独立して水素原子又は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わし、そして
    アンカー基は、
    炭素原子数1ないし22のアルキル基;炭素原子数1ないし22のアルキル−A5 −基;−A5 −基により中断された炭素原子数2ないし22のアルキル基;−A4 −フェニル基;フェニル核が炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基、炭素原子数2ないし12のアルカノイルオキシ基及び/又は炭素原子数3ないし12のアルケノイルオキシ基により置換された−A4 −フェニル基;次式:
    Figure 2006510749
    で表わされる基により置換された炭素原子数1ないし8のアルキル基;例えば、次式:
    −A3 −(O)m −P(=O)p (OA1 )(OA2
    で表わされるホスフィットエステル基、ホスファイトエステル基又はホスホネートエステル基を表わし、或いは、
    アンカー基は、次式:
    Figure 2006510749
    で表わされる基を表わし、
    前記式中、
    m及びpは独立して0又は1を表わし、
    1 及びA2 は独立して炭素原子数1ないし12のアルキル基又はフェニル基又は炭素原子数1ないし12のアルキル基により置換されたフェニル基又は、アルカリ、アルカリ土類若しくはアルミニウム原子の当量を表わし、
    3 は直接結合又は炭素原子数1ないし8のアルキレン基を表わし、
    4 は炭素原子数1ないし8のアルキレン基及びA5 から選択された基を表わし、
    5 は−O−基、−NH−基、−S−基、−CO−基、−COO−基、−OCO−基、−NHCO−基、−CONH−基から選択された基を表わし、
    6 は炭素原子数1ないし18のアルコキシ基、炭素原子数1ないし18のアルキルチオ基及び炭素原子数1ないし18のアルキルアミノ基から選択された基を表わし、
    7 は−O−基又は−NH−基を表わし、
    R’は水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数1ないし18のアルコキシ基又はシクロヘキシルオキシ基を表わし、或いは、
    アンカー基は、
    炭素原子数3ないし22のアルキレン基又は炭素原子数3ないし22のオキサアルキレン基であって、上記基は、両方の開放結合により、モノ−ヒドロキシルフェニル部分の隣接炭素原子に結合している基を表わす、
    化合物を表わし、
    また、成分(a)は、次式(IIa)で表わされるベンゾトリアゾール、次式(IIb)で表わされる2−ヒドロキシベンゾフェノン、次式(IIc)で表わされる2−ヒドロキシフェニルトリアジン:
    Figure 2006510749
    [式中、
    1 は水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル基又は、フェニル基により置換された炭素原子数1ないし18のアルキル基を表わし、或いは、
    1 は次式:
    Figure 2006510749
    で表わされる基を表わし、
    10は二価基、例えば−(CH2 n −基(式中、nは1〜8の範囲からの数を表わす)を表わし、
    2 は水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル基を表わし、又は、−COOT5 基、炭素原子数1ないし18のアルコキシ基、ヒドロキシ基、フェニル基若しくは炭素原子数2ないし18のアシルオキシ基により置換された炭素原子数1ないし18のアルキル基を表わし、
    3 は水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数1ないし18のアルコキシ基、炭素原子数2ないし18のアシルオキシ基、炭素原子数1ないし12のペルフルオロアルキル基、例えば−CF3 基を表わし、或いは、T3 はフェニル基を表わし、
    5 は炭素原子数1ないし18のアルキル基或いは、1個若しくはそれより多くの酸素原子により中断され、及び/又は−OH基により又は次式:
    Figure 2006510749
    で表わされる基により置換された炭素原子数4ないし50のアルキル基を表わす。];
    Figure 2006510749
    [式中、
    1 、G2 及びG3 は独立して水素原子、ヒドロキシ基又は炭素原子数1ないし18のアルコキシ基を表わす。];
    Figure 2006510749
    [式中、
    8 は炭素原子数1ないし18のアルキル基を表わし、或いは、−COO基若しくは−OCO基若しくは−O−基により中断された、又は、酸素原子により中断され且つ−OH基により置換された、炭素原子数4ないし18のアルキル基を表わし、
    9 、G10、G11及びG12は独立して水素原子、メチル基、ヒドロキシ基又は−OG8 基を表わし、そしてG9 及びG12は更にフェニル基を含む。]
    から選択されたフェノール系紫外線吸収剤をも表わし得る、請求項1記載の方法。
  4. 前記アンカー基が、炭素原子数4ないし12の第三アルキル基;炭素原子数1ないし12のアルキル−A5 −基;−A5 −基により中断された炭素原子数2ないし22のアルキル基;−A5 −フェニル基;フェニル核が炭素原子数1ないし12のアルキル基により置換された−A5 −フェニル基;フェニル核が炭素原子数2ないし12のアルカノイルオキシ基及び/又は炭素原子数3ないし12のアルケノイルオキシ基並びに、所望により更に炭素原子数1ないし12のアルキル基により置換された−A4 −フェニル基を表わし、或いは、
    前記アンカー基が、炭素原子数3ないし22のアルキレン基又は炭素原子数3ないし22のオキサアルキレン基であって、上記基は両方の開放結合により、モノ−ヒドロキシルフェニル部分の隣接炭素原子に結合している基を表わし、或いは、次式:
    Figure 2006510749
    [式中、
    m及びpは独立して0又は1を表わし、
    1 及びA2 は独立して炭素原子数1ないし12のアルキル基又はフェニル基又は炭素原子数1ないし12のアルキル基により置換されたフェニル基又は、アルカリ、アルカリ土類若しくはアルミニウム原子の当量を表わし、
    3 は直接結合又は炭素原子数1ないし8のアルキレン基を表わし、
    4 は炭素原子数1ないし8のアルキレン基、−O−基、−NH−基、−S−基、−CO−基、−COO−基、−OCO−基、−NHCO−基、−CONH−基から選択された基を表わし、
    5 は−O−基、−NH−基、−S−基、−CO−基、−COO−基、−OCO−基、−NHCO−基、−CONH−基から選択された基を表わし、
    6 は炭素原子数1ないし18のアルコキシ基、炭素原子数1ないし18のアルキルチオ基及び炭素原子数1ないし18のアルキルアミノ基から選択された基を表わし、
    7 は−O−基又は−NH−基を表わし、
    8 は炭素原子数1ないし7のアルキル基を表わし、
    R’は炭素原子数1ないし18のアルキル基を表わす。]で表わされる基の一つを表わす、請求項3記載の方法。
  5. 成分(a)が次式(A):
    Figure 2006510749
    {式中、
    2 、R3 、R4 及びR5 は独立して水素原子、メチル基又は炭素原子数4ないし12の第三アルキル基、とりわけメチル基、第三ブチル基又は第三ペンチル基を表わし、
    nは1ないし4の範囲の数を表わし、
    nが1を表わすとき、
    1 は炭素原子数4ないし12の第三アルキル基;炭素原子数1ないし22のアルキル−A5 −基;−A5 −基により中断された炭素原子数2ないし22のアルキル基;−A5 −フェニル基;フェニル核が炭素原子数1ないし12のアルキル基により置換された−A5 −フェニル基;フェニル核が炭素原子数2ないし12のアルカノイルオキシ基及び/又は炭素原子数3ないし12のアルケノイルオキシ基並びに、所望により更に炭素原子数1ないし12のアルキル基により置換された−A4 −フェニル基を表わし、或いは、R1 はR5 と一緒になって、炭素原子数3ないし22のアルキレン基又は炭素原子数3ないし22のオキサアルキレン基であって、上記基は両方の開放結合により、モノ−ヒドロキシルフェニル部分の隣接炭素原子に結合している基を表わし、或いは、次式:
    Figure 2006510749
    [式中、
    m及びpは独立して0又は1を表わし、
    1 及びA2 は独立して炭素原子数1ないし12のアルキル基又はフェニル基又は炭素原子数1ないし12のアルキル基により置換されたフェニル基又は、アルカリ、アルカリ土類若しくはアルミニウム原子の当量を表わし、
    3 は直接結合又は炭素原子数1ないし8のアルキレン基を表わし、
    4 は炭素原子数1ないし8のアルキレン基、−O−基、−NH−基、−S−基、−CO−基、−COO−基、−OCO−基、−NHCO−基、−CONH−基から選択された基を表わし、
    5 は−O−基、−NH−基、−S−基、−CO−基、−COO−基、−OCO−基、−NHCO−基、−CONH−基から選択された基を表わし、
    6 は炭素原子数1ないし18のアルコキシ基、炭素原子数1ないし18のアルキルチオ基及び炭素原子数1ないし18のアルキルアミノ基から選択された基を表わし、
    7 は−O−基又は−NH−基を表わし、
    8 は炭素原子数1ないし7のアルキル基を表わし、
    R’は炭素原子数1ないし18のアルキル基を表わす。]で表わされる基の一つを表わし、
    nが2を表わすとき、
    1 は−O−基、−NH−基、−S−基、−CO−基、−COO−基、−OCO−基、−NHCO−基、−CONH−基、基L1 、フェニレン基、炭素原子数1ないし12のアルキル基及び/又は炭素原子数1ないし12のアルコキシ基及び/又は炭素原子数2ないし12のアルカノイルオキシ基及び/又は炭素原子数3ないし12のアルケノイルオキシ基により置換されたフェニレン基により中断され得る及び/又は末端封止され得る炭素原子数1ないし20のアルキレン基;二価モノ−、ジ−又はトリシクロアルキレン基;−O−基により中断された二価モノ−、ジ−又はトリシクロアルキレン基;スペーサー基−O−;−NH−基;−S−基;−CO−基;−COO−基;−OCO−基;−NHCO−基;−CONH−基を表わし、
    nが3を表わすとき、
    1 は炭素原子数3ないし20の三価アルキル基;−O−基、−NH−基、−S−基、−CO−基、−COO−基、−OCO−基、−NHCO−基、−CONH−基、基L1 、フェニレン基、炭素原子数1ないし12のアルキル基及び/又は炭素原子数1ないし12のアルコキシ基及び/又は炭素原子数2ないし12のアルカノイルオキシ基及び/又は炭素原子数3ないし12のアルケノイルオキシ基により置換されたフェニレン基により中断された及び/又は末端封止された炭素原子数3ないし20の三価アルキル基から、或いは、次式:
    Figure 2006510749
    で表わされる三価基を表わし、
    nが4を表わすとき、
    1 は炭素原子数4ないし20の四価アルキル基;−O−基、−NH−基、−S−基、−CO−基、−COO−基、−OCO−基、−NHCO−基、−CONH−基、基L1 、フェニレン基、炭素原子数1ないし12のアルキル基及び/又は炭素原子数1ないし12のアルコキシ基及び/又は炭素原子数2ないし12のアルカノイルオキシ基及び/又は炭素原子数3ないし12のアルケノイルオキシ基により置換されたフェニレン基で中断された及び/又は末端封止された炭素原子数4ないし20の四価アルキル基を表わし、
    1 は次式:
    Figure 2006510749
    から選択された基を表わし、
    2 は−OH基、炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基、炭素原子数2ないし12のヒドロキシアルキル基、炭素原子数2ないし12のヒドロキシアルコキシ基を表わし、
    3 は独立して炭素原子数1ないし4のアルキレン基を表わし、
    4 は独立して水素原子又は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わす。]で表わされる化合物である、請求項3記載の方法。
  6. 前記式中、
    2 、R3 、R4 及びR5 が独立して水素原子、メチル基、第三ブチル基、第三ペンチル基を表わし、
    nが1を表わすとき、
    1 は第三ブチル基、第三ペンチル基;炭素原子数1ないし22のアルキル−A5 −基;−A5 −基により中断された炭素原子数2ないし22のアルキル基;フェニル核が炭素原子数1ないし12のアルキル基により置換された−A5 −フェニル基;フェニル核が炭素原子数3又は4のアルカノイルオキシ基及び炭素原子数1ないし12のアルキル基により置換された−A4 −フェニル基を表わし、或いは、R1 はR5 と一緒になって、炭素原子数3ないし22のアルキレン基又は炭素原子数3ないし22のオキサアルキレン基であって、上記基は両方の開放結合により、モノ−ヒドロキシルフェニル部分の隣接炭素原子に結合している基を表わし、或いは、R1 は次式:
    Figure 2006510749
    [式中、
    1 及びA2 は独立して炭素原子数1ないし4のアルキル基又は、Li、Na、K、1/2Mg、1/2Ca、1/3Alから選択された金属原子の当量を表わし、
    3 はメチレン基を表わし、
    4 は炭素原子数1ないし8のアルキレン基を表わし、
    5 は−O−基、−S−基、−COO−基、−OCO−基、−NHCO−基、−CONH−基から選択された基を表わし、
    6 は炭素原子数4ないし18のアルキルチオ基及び炭素原子数4ないし18のアルキルアミノ基を表わし、
    7 は−NH−基を表わし、
    8 は炭素原子数1ないし7のアルキル基を表わし、
    R’は炭素原子数1ないし18のアルキル基を表わす。]で表わされる基の一つを表わし、
    nが2を表わすとき、
    1 は炭素原子数1ないし12のアルキレン基;−O−基、−S−基、−COO−基、−OCO−基、−NHCO−基、−CONH−基、基L1 により中断された及び/又は末端キャップされた炭素原子数2ないし20のアルキレン基を表わし;或いは、R1 は二価モノ−、ジ−又はトリシクロアルキレン基を表わし;或いは、R1 は−O−基;−NH−基;−S−基を表わし、
    nが3を表わすとき、
    1 は炭素原子数3ないし20の三価アルキル基;−O−基、−S−基、−COO−基、−OCO−基、−NHCO−基、−CONH−基、フェニレン基、炭素原子数1ないし12のアルキル基により置換されたフェニレン基により中断された炭素原子数3ないし20の三価アルキル基を表わし;或いは、R1 は次式:
    Figure 2006510749
    で表わされる三価基を表わし、
    nが4を表わすとき、
    1 は炭素原子数4ないし20の四価アルキル基;又は、−O−基、−S−基、−COO−基、−OCO−基、−NHCO−基、−CONH−基により中断された炭素原子数4ないし20の四価アルキル基を表わし、
    1 は次式:
    Figure 2006510749
    で表わされる基を表わし、
    3 は独立して炭素原子数1ないし4のアルキレン基を表わし、
    4 は独立して水素原子又は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わす、請求項5記載の方法。
  7. 前記色形成剤がトリフェニルメタン、ラクトン、ベンゾキサジン、スピロピラン、又は好ましくは、フルオラン若しくはフタリドである、請求項1記載の方法。
  8. 前記ポリマー状材料が、該ポリマー状材料の総質量に基づいて、前記フェノール系酸化防止剤及び/又はフェノール系紫外線吸収剤0.001ないし10質量%を含む、請求項1記載の方法。
  9. 前記ポリマー状材料が、該ポリマー状材料の総質量に基づいて、前記色形成剤0.001ないし10質量%、好ましくは0.01ないし5質量%を含む、請求項1記載の方法。
  10. 前記ポリマー状材料が透明な熱可塑性樹脂である、請求項1記載の方法。
  11. 前記ポリマー状材料が、スチレンアクリロニトリルコポリマー、ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリクロロブタジエン、ポリエステル及びグリコールにより変性されたポリエステル、アクリル樹脂、ポリスチレン、アクリロニトリルスチレンアクリレートコポリ
    マー、ポリアミド、アクリロニトリルスチレンブタジエンコポリマー、ポリカーボネート、或いは、それらのブレンド又はアロイから選択される、請求項1記載の方法。
  12. c)フェノール系酸化防止剤、フェノール系紫外線吸収剤及び/又は潜在酸、並びに
    d)色形成剤
    を含むポリマー状材料が、紫外線よりもより高いエネルギーの輻射線を使用して照射されることからなるポリマー状材料を着色する方法。
  13. 繊維、織布、不織布又はフィルムの形態にある請求項12記載の成分(c)及び成分(d)が、衣類又はタグの表面下に目視可能に含まれることからなる、保護のための衣類又はマスク又は照射表示認識タグ。
  14. 請求項12記載の成分(c)及び成分(d)を含むポリマー状材料のタグ又はサンプルを制御する部位に配置し、その後、前記タグ又はサンプルの色を検査することからなる、X線又は放射性物質による照射を監視する方法。
  15. X線又は放射性物質による照射を監視するための、請求項12記載の成分(c)及び成分(d)を含むポリマー状材料の使用。
  16. (a)フェノール系酸化防止剤及び/又はフェノール系紫外線吸収剤、並びに(b)色形成剤を、繊維溶融紡糸工程の前又は間に、合成ポリマーに添加することからなる、繊維又は織布又は不織布を製造する方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016044190A (ja) * 2014-08-19 2016-04-04 株式会社Adeka 安定化ポリマーの製造方法

Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU2005231979B2 (en) 2004-04-07 2011-02-03 Basf Se Method of coloring a coating composition
US20060041087A1 (en) * 2004-07-23 2006-02-23 Cholli Ashok L Anti-oxidant macromonomers and polymers and methods of making and using the same
US7459259B2 (en) 2004-09-29 2008-12-02 Sabic Innovative Plastics Ip B.V. Marked article and method of making the same
CA2589883A1 (en) * 2004-12-03 2006-06-08 Polnox Corporation Synthesis of aniline and phenol-based antioxidant macromonomers and corresponding polymers
CA2598703A1 (en) 2005-02-22 2006-08-31 Polnox Corporation Nitrogen and hindered phenol containing dual functional macromolecular antioxidants: synthesis , performances and applications
EP1866279A2 (en) * 2005-03-25 2007-12-19 Polnox Corporation Alkylated and polymeric macromolecular antioxidants and methods of making and using the same
US7705176B2 (en) * 2005-10-27 2010-04-27 Polnox Corporation Macromolecular antioxidants based on sterically hindered phenols and phosphites
US20070106059A1 (en) * 2005-10-27 2007-05-10 Cholli Ashok L Macromolecular antioxidants and polymeric macromolecular antioxidants
WO2007050991A1 (en) * 2005-10-27 2007-05-03 Polnox Corporation Stabilized polyolefin compositions
US20070174972A1 (en) * 2005-11-14 2007-08-02 Invista North America S.A R.I. Spandex having enhanced whiteness, and fabrics and garments comprising the same
WO2007064843A1 (en) 2005-12-02 2007-06-07 Polnox Corporation Lubricant oil compositions
KR20080091285A (ko) * 2006-01-31 2008-10-09 시바 홀딩 인크 기재 표시용 피복 조성물
WO2008005358A2 (en) * 2006-07-06 2008-01-10 Polnox Corporation Novel macromolecular antioxidants comprising differing antioxidant moieties: structures, methods of making and using the same
KR20090043591A (ko) * 2006-08-24 2009-05-06 시바 홀딩 인크 Uv-선량 표시기
US7767853B2 (en) 2006-10-20 2010-08-03 Polnox Corporation Antioxidants and methods of making and using the same
US8865620B2 (en) 2007-03-15 2014-10-21 Datalase, Ltd. Heat-sensitive coating compositions based on resorcinyl triazine derivatives
ES2377852T3 (es) * 2007-08-22 2012-04-02 Datalase Ltd Composición de revestimiento sensible al láser
JP5180315B2 (ja) * 2007-11-07 2013-04-10 データレース リミテッド 新規繊維製品
DE102008036397B4 (de) * 2008-08-01 2016-06-23 Sächsisches Textilforschungsinstitut e.V. Vliesstoff mit photochromatischen Eigenschaften und seine Verwendung
DE102008049848A1 (de) 2008-10-01 2010-04-08 Tesa Se Mehrbereichsindikator
US20120045624A1 (en) 2008-10-27 2012-02-23 Basf Se Aqueous laser-sensitive composition for marking substrates
EP2414894B1 (en) 2009-03-30 2014-02-12 Basf Se Uv-dose indicator films
US10294423B2 (en) 2013-11-22 2019-05-21 Polnox Corporation Macromolecular antioxidants based on dual type moiety per molecule: structures, methods of making and using the same
WO2018160879A2 (en) 2017-03-01 2018-09-07 Polnox Corporation Macromolecular corrosion (mcin) inhibitors: structures, methods of making and using the same

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6210686A (ja) * 1985-07-09 1987-01-19 Canon Inc クリ−ニング装置
JPS6490239A (en) * 1987-08-18 1989-04-06 American Cyanamid Co Improved radiation sterilizable composition
JPH07219115A (ja) * 1994-01-28 1995-08-18 New Oji Paper Co Ltd 感光性材料
JPH1036690A (ja) * 1996-07-23 1998-02-10 Daito Denzai Kk 耐候性表示組成物及びその使用方法
JP2001242249A (ja) * 2000-03-01 2001-09-07 Japan Atom Power Co Ltd:The 放射線感応組成物含有マイクロカプセル及びその利用方法

Family Cites Families (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB920689A (en) * 1960-11-02 1963-03-13 Atomic Energy Authority Uk Improvements in or relating to radiation indicators
US3935163A (en) * 1973-03-08 1976-01-27 Ciba-Geigy Corporation Light stabilized polymer compositions
US4343885A (en) * 1978-05-09 1982-08-10 Dynachem Corporation Phototropic photosensitive compositions containing fluoran colorformer
GB2044272B (en) 1979-02-05 1983-03-16 Sandoz Ltd Stabilising polymers
GB2099832B (en) * 1981-03-31 1984-11-28 Showa Denko Kk Binder composition for paper-coating materials
US4540746A (en) * 1983-12-29 1985-09-10 E. I. Du Pont De Nemours And Company Polyamide fiber
US4730057A (en) * 1985-01-17 1988-03-08 Kanzaki Paper Manufacturing Co., Ltd. Phthalide derivatives useful as colorless chromogenic material
AU612143B2 (en) 1987-03-19 1991-07-04 Xytronyx, Inc. Systems for the visualization of exposure to ultraviolet radiation and for the utilization of ultraviolet radiation to effect color changes
JPH0820733B2 (ja) * 1988-08-11 1996-03-04 富士写真フイルム株式会社 ドライフイルムレジスト用光重合性組成物
US5698373A (en) * 1988-09-22 1997-12-16 Toray Industries, Incorporated Photosensitive relief printing plate and photosensitive intaglio printing plate
US5206118A (en) * 1989-03-06 1993-04-27 Minnesota-Mining & Manufacturing Company Acid-sensitive leuco dye polymeric films
US5677107A (en) * 1991-10-02 1997-10-14 Spectra Group Limited, Inc. Production of three-dimensional objects
US5310771A (en) * 1992-04-23 1994-05-10 Phillips Petroleum Company Polyolefin stabilization
US5342672A (en) * 1992-09-14 1994-08-30 Weber Marking Systems, Inc. Holographic thermal transfer ribbon
JP2751089B2 (ja) 1992-11-30 1998-05-18 大日本インキ化学工業株式会社 レーザーマーキング方法及び印刷インキ
JPH082106A (ja) * 1994-06-24 1996-01-09 Nippon Kayaku Co Ltd マーキング用組成物及びレーザーマーキング方法
US5885746A (en) 1994-12-29 1999-03-23 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Photosensitive resin composition, photosensitive printing plate using the same and method of manufacturing printing master plate
US5654130A (en) * 1996-03-14 1997-08-05 Minnesota Mining And Manufacturing Company 2-substituted malondialdehyde compounds as co-developers for black-and-white photothermographic and thermographic elements
US5770115A (en) * 1996-04-19 1998-06-23 Ppg Industries, Inc. Photochromic naphthopyran compositions of improved fatigue resistance
JPH10301272A (ja) * 1997-04-30 1998-11-13 Toyo Gosei Kogyo Kk 感光性組成物及びパターン形成方法
US6197479B1 (en) * 1998-06-26 2001-03-06 Toray Industries, Inc. Photosensitive resin composition, method for producing photosensitive resin composition, and printing plate material
US7091257B2 (en) * 1999-07-27 2006-08-15 Alcatel Radiation-curable composition with simultaneous color formation during cure
JP3912949B2 (ja) * 1999-12-28 2007-05-09 株式会社東芝 フォトマスクの形成方法及び半導体装置の製造方法
AU2001266290A1 (en) 2000-07-12 2002-02-05 Skyrad Ltd. Thermochromic composition
US7067564B2 (en) * 2000-11-22 2006-06-27 Dsm Ip Assets B.V. Coated optical fibers
GB0114265D0 (en) * 2001-06-12 2001-08-01 Ciba Sc Holding Ag Polymeric material containing a latent acid
GB0114266D0 (en) * 2001-06-12 2001-08-01 Ciba Sc Holding Ag Laser marking method

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6210686A (ja) * 1985-07-09 1987-01-19 Canon Inc クリ−ニング装置
JPS6490239A (en) * 1987-08-18 1989-04-06 American Cyanamid Co Improved radiation sterilizable composition
JPH07219115A (ja) * 1994-01-28 1995-08-18 New Oji Paper Co Ltd 感光性材料
JPH1036690A (ja) * 1996-07-23 1998-02-10 Daito Denzai Kk 耐候性表示組成物及びその使用方法
JP2001242249A (ja) * 2000-03-01 2001-09-07 Japan Atom Power Co Ltd:The 放射線感応組成物含有マイクロカプセル及びその利用方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016044190A (ja) * 2014-08-19 2016-04-04 株式会社Adeka 安定化ポリマーの製造方法

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