JP2006301155A - 描画データ補正機能を有する描画装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 パターンを描画する基板が複雑に変形して第2変形基板46が生じると、本来正方形であるべきパターンの描画領域は、第1〜第4アライメントマークM1〜M4を結んだ四角形である第2変形描画領域47となる。そこで描画すべきパターンの位置と形状を示す描画データに、スケーリング補正と軸傾き補正を施し、平行四辺形の第1変形描画領域43に対応したデータを生成する。さらに、2次元の座標系のある点を、そのX座標、もしくはY座標の座標値に、他方の座標値に比例した値を加えた新たな点に変換するグラデュアル・スケーリングによって、第2変形描画領域47に対応した補正描画データを生成する。描画装置は、補正描画データに基づいて、第2変形描画領域47内にパターンを描画する。
【選択図】 図4
Description
X12=(X11×cosθ―Y11×sinθ)−X0 ・・・(1)
Y12=(X11×sinθ+Y11×cosθ)−Y0 ・・・(2)
このように、第1〜第4アライメントマークM1〜M4の撮影座標系における位置情報から、描画座標系における第2変形描画領域47の頂点を示す座標が算出され、第1〜第4アライメントマークM1〜M4の実際の位置を示すマーク位置データが生成される。
Xa=(1+α×Ya’)×Xa’ ・・・(3)
Ya=Ya’ ・・・(4)
dX=Xa−Xa’=(1+α×Ya’)×Xa’―Xa’=α×Xa’×Ya’
・・・(5)
Ya=(1+β×Xa’)×Ya’ ・・・(6)
dy=Ya−Ya’=(1+β×Xa’)×Ya’―Ya’=β×Xa’×Ya’
・・・(7)
α1=dx/(X42×Y12)=(X33―X32)/(X42×Y12) ・・・(8)
β1=dy/(X42×Y12)=(Y33―Y32)/(X42×Y12) ・・・(9)
こうして算出された係数α1、β1を用いたグラデュアル・スケーリング補正によって、第2変形描画領域47に含まれる全ての点が第1変形描画領域43に移動され、第2変形描画領域47が第1変形描画領域43に変換される。
γ=Y12/X12 ・・・(10)
Xb=Xb’+γ×Yb’ ・・・(11)
Yb=Yb’ ・・・(12)
このように、(10)式〜(12)式に示す演算により、例えば点P2(X12,Y12)が点P4(0,Y14)に、点R3(X33,Y33)が点R4(X34,Y34)に移動されるように、第1変形描画領域43に含まれる全ての点が、変倍描画領域45に含まれるように移動される。そして、第1変形描画領域43は変倍描画領域45に変換される。
XC=XC’×(L/X44) ・・・(13)
YC=YC’×(L/Y14) ・・・(14)
(13)式、及び(14)式に示す演算により、例えば点P4(0,Y14)が点P(0,L)に、点S4(X44,0)が点S(L,0)に移動されるように、変倍描画領域45に含まれる全ての点が、描画領域41に含まれるように移動され、変倍描画領域45は描画領域41に変換される。
21 レーザ描画装置(描画手段)
22 光学ユニット(描画手段)
32 第1CCDカメラ(マーク位置検出手段)
34 第2CCDカメラ(マーク位置検出手段)
40 基板(被描画体)
50 制御装置(データ処理装置・第1〜第3の描画データ補正手段・マーク位置データ生成手段)
M1〜M4 第1〜第4アライメントマーク(マーク)
Claims (10)
- 被描画体における四角形の描画領域の本来の位置と実際の位置とに基づいて、前記被描画体に描画するパターンを示す描画データを処理するデータ処理装置であって、
実際の位置における前記描画領域の輪郭を示す四角形の隣接する二辺を有し、前記四角形よりも本来の位置における前記描画領域の輪郭を示す四角形に形状が近い平行四辺形が、前記パターンが描画される前記描画領域の輪郭となるように、前記描画データを補正して補正描画データとする第1の描画データ補正手段を備えることを特徴とするデータ処理装置。 - 前記第1の描画データ補正手段が、前記描画領域の頂点を示すために前記被描画体に設けられた4つのマークの本来の位置と実際の位置とに基づいて、前記描画データを補正することを特徴とする請求項1に記載のデータ処理装置。
- 前記平行四辺形の辺の一部を有し、前記平行四辺形よりも本来の位置における前記描画領域の輪郭を示す四角形に形状が近い長方形が、前記パターンが描画される前記描画領域の輪郭となるように、前記描画データを補正する第2の描画データ補正手段をさらに有することを特徴とする請求項1に記載のデータ処理装置。
- 請求項1に記載のデータ処理装置と、
前記補正描画データに基づいて、前記パターンを描画する描画手段とを備えることを特徴とする描画装置。 - 前記第1の描画データ補正手段が、前記描画領域の頂点を示すために前記被描画体に設けられた4つのマークの本来の位置と実際の位置とに基づいて、前記描画データを補正することを特徴とする請求項4に記載の描画装置。
- 前記マークの実際の位置を検出するマーク位置検出手段をさらに有することを特徴とする請求項5に記載の描画装置。
- 前記マークの実際の位置を示すマーク位置データを生成するマーク位置データ生成手段をさらに有し、
前記第1の描画データ補正手段が、前記マーク位置データに基づいて前記描画データを補正することを特徴とする請求項6に記載の描画装置。 - 前記マーク位置データ生成手段が、前記マーク位置検出手段の座標系における前記マークの実際の位置に基づいて、前記描画手段の描画座標系における前記マークの実際の位置を示すマーク位置データを生成することを特徴とする請求項7に記載の描画装置。
- 被描画体における四角形の描画領域の本来の位置と実際の位置とに基づいて、前記被描画体に描画するパターンを示す描画データを補正するデータ補正方法であって、
実際の位置における前記描画領域の輪郭を示す四角形の隣接する二辺を有し、前記四角形よりも本来の位置における前記描画領域の輪郭を示す四角形に形状が近い平行四辺形を、前記パターンが描画される前記描画領域の輪郭とするように、前記描画データを補正することを特徴とするデータ補正方法。 - 被描画体における四角形の描画領域の本来の位置と実際の位置とに基づいて、前記被描画体に描画するパターンを示す描画データを補正するプログラムであって、
実際の位置における前記描画領域の輪郭を示す四角形の隣接する二辺を有し、前記四角形よりも本来の位置における前記描画領域の輪郭を示す四角形に形状が近い平行四辺形を、前記パターンが描画される前記描画領域の輪郭とするように、前記描画データを補正するデータ補正工程を備えることを特徴とするプログラム。
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009290119A (ja) * | 2008-05-30 | 2009-12-10 | Orc Mfg Co Ltd | 描画データを補正可能な露光装置 |
JP2010219471A (ja) * | 2009-03-19 | 2010-09-30 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | パターン描画装置およびパターン描画方法 |
JP2014199298A (ja) * | 2013-03-29 | 2014-10-23 | 株式会社アドテックエンジニアリング | 描画装置、露光描画装置、プログラム及び描画方法 |
JP2014206648A (ja) * | 2013-04-12 | 2014-10-30 | 株式会社アドテックエンジニアリング | 描画装置、露光描画装置、プログラム及び描画方法 |
JP2015099258A (ja) * | 2013-11-19 | 2015-05-28 | 株式会社リコー | 画像処理装置及び方法、並びに画像形成装置 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001215718A (ja) * | 1999-11-26 | 2001-08-10 | Nikon Corp | 露光装置及び露光方法 |
JP2003050469A (ja) * | 2001-08-08 | 2003-02-21 | Pentax Corp | 多重露光描画装置および多重露光式描画方法 |
JP2005031274A (ja) * | 2003-07-10 | 2005-02-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像記録装置及び画像記録方法 |
JP2005037911A (ja) * | 2003-07-02 | 2005-02-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像記録装置、画像記録方法及びプログラム |
JP2005527848A (ja) * | 2002-04-11 | 2005-09-15 | ハイデルベルク・インストルメンツ・ミクロテヒニツク・ゲー・エム・ベー・ハー | 基板の上にマスクを結像させる方法および装置 |
JP2005300640A (ja) * | 2004-04-07 | 2005-10-27 | Pentax Corp | データ補正機能を備えた露光装置 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59150424A (ja) * | 1983-02-14 | 1984-08-28 | Toshiba Corp | 半導体装置の製造装置および方法 |
US4908656A (en) * | 1988-01-21 | 1990-03-13 | Nikon Corporation | Method of dimension measurement for a pattern formed by exposure apparatus, and method for setting exposure conditions and for inspecting exposure precision |
US6753948B2 (en) * | 1993-04-27 | 2004-06-22 | Nikon Corporation | Scanning exposure method and apparatus |
US5345310A (en) * | 1993-06-15 | 1994-09-06 | Lsi Logic Corporation | Identifying and compensating for slip-plane dislocations in photolithographic mask alignment |
US6100915A (en) * | 1996-08-28 | 2000-08-08 | Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Laser drawing apparatus |
US5936311A (en) * | 1996-12-31 | 1999-08-10 | Intel Corporation | Integrated circuit alignment marks distributed throughout a surface metal line |
US5834785A (en) * | 1997-06-06 | 1998-11-10 | Nikon Corporation | Method and apparatus to compensate for thermal expansion in a lithographic process |
US6235438B1 (en) * | 1997-10-07 | 2001-05-22 | Nikon Corporation | Projection exposure method and apparatus |
TW449672B (en) * | 1997-12-25 | 2001-08-11 | Nippon Kogaku Kk | Process and apparatus for manufacturing photomask and method of manufacturing the same |
US6424879B1 (en) * | 1999-04-13 | 2002-07-23 | Applied Materials, Inc. | System and method to correct for distortion caused by bulk heating in a substrate |
US7068833B1 (en) * | 2000-08-30 | 2006-06-27 | Kla-Tencor Corporation | Overlay marks, methods of overlay mark design and methods of overlay measurements |
JP5144863B2 (ja) | 2001-06-29 | 2013-02-13 | 株式会社オーク製作所 | 多重露光描画方法及び多重露光描画装置 |
JP4728536B2 (ja) | 2001-07-05 | 2011-07-20 | 株式会社オーク製作所 | 多重露光描画方法及び多重露光描画装置 |
JP4273291B2 (ja) | 2001-08-17 | 2009-06-03 | 株式会社オーク製作所 | 多重露光描画装置および多重露光描画方法 |
JP4203649B2 (ja) | 2003-09-05 | 2009-01-07 | 株式会社オーク製作所 | 多重露光描画方法及び多重露光描画装置 |
-
2005
- 2005-04-19 JP JP2005120756A patent/JP5134767B2/ja active Active
-
2006
- 2006-04-04 US US11/396,704 patent/US7614031B2/en active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001215718A (ja) * | 1999-11-26 | 2001-08-10 | Nikon Corp | 露光装置及び露光方法 |
JP2003050469A (ja) * | 2001-08-08 | 2003-02-21 | Pentax Corp | 多重露光描画装置および多重露光式描画方法 |
JP2005527848A (ja) * | 2002-04-11 | 2005-09-15 | ハイデルベルク・インストルメンツ・ミクロテヒニツク・ゲー・エム・ベー・ハー | 基板の上にマスクを結像させる方法および装置 |
JP2005037911A (ja) * | 2003-07-02 | 2005-02-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像記録装置、画像記録方法及びプログラム |
JP2005031274A (ja) * | 2003-07-10 | 2005-02-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像記録装置及び画像記録方法 |
JP2005300640A (ja) * | 2004-04-07 | 2005-10-27 | Pentax Corp | データ補正機能を備えた露光装置 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009290119A (ja) * | 2008-05-30 | 2009-12-10 | Orc Mfg Co Ltd | 描画データを補正可能な露光装置 |
JP2010219471A (ja) * | 2009-03-19 | 2010-09-30 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | パターン描画装置およびパターン描画方法 |
JP2014199298A (ja) * | 2013-03-29 | 2014-10-23 | 株式会社アドテックエンジニアリング | 描画装置、露光描画装置、プログラム及び描画方法 |
KR20150138180A (ko) * | 2013-03-29 | 2015-12-09 | 가부시키가이샤 아도테크 엔지니어링 | 묘화 장치, 노광 묘화 장치, 프로그램을 기록한 기록 매체 및 묘화 방법 |
KR102138066B1 (ko) * | 2013-03-29 | 2020-07-27 | 가부시키가이샤 아도테크 엔지니어링 | 묘화 장치, 노광 묘화 장치, 프로그램을 기록한 기록 매체 및 묘화 방법 |
JP2014206648A (ja) * | 2013-04-12 | 2014-10-30 | 株式会社アドテックエンジニアリング | 描画装置、露光描画装置、プログラム及び描画方法 |
JP2015099258A (ja) * | 2013-11-19 | 2015-05-28 | 株式会社リコー | 画像処理装置及び方法、並びに画像形成装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20060233457A1 (en) | 2006-10-19 |
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US7614031B2 (en) | 2009-11-03 |
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