JP5134767B2 - 描画データ補正機能を有する描画装置 - Google Patents
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Description
X12=(X11×cosθ―Y11×sinθ)−X0 ・・・(1)
Y12=(X11×sinθ+Y11×cosθ)−Y0 ・・・(2)
このように、第1〜第4アライメントマークM1〜M4の撮影座標系における位置情報から、描画座標系における第2変形描画領域47の頂点を示す座標が算出され、第1〜第4アライメントマークM1〜M4の実際の位置を示すマーク位置データが生成される。
Xa=(1+α×Ya’)×Xa’ ・・・(3)
Ya=Ya’ ・・・(4)
dX=Xa−Xa’=(1+α×Ya’)×Xa’―Xa’=α×Xa’×Ya’
・・・(5)
Ya=(1+β×Xa’)×Ya’ ・・・(6)
dy=Ya−Ya’=(1+β×Xa’)×Ya’―Ya’=β×Xa’×Ya’
・・・(7)
α1=dx/(X42×Y12)=(X33―X32)/(X42×Y12) ・・・(8)
β1=dy/(X42×Y12)=(Y33―Y32)/(X42×Y12) ・・・(9)
こうして算出された係数α1、β1を用いたグラデュアル・スケーリング補正によって、第2変形描画領域47に含まれる全ての点が第1変形描画領域43に移動され、第2変形描画領域47が第1変形描画領域43に変換される。
γ=Y12/X12 ・・・(10)
Xb=Xb’+γ×Yb’ ・・・(11)
Yb=Yb’ ・・・(12)
このように、(10)式〜(12)式に示す演算により、例えば点P2(X12,Y12)が点P4(0,Y14)に、点R3(X33,Y33)が点R4(X34,Y34)に移動されるように、第1変形描画領域43に含まれる全ての点が、変倍描画領域45に含まれるように移動される。そして、第1変形描画領域43は変倍描画領域45に変換される。
XC=XC’×(L/X44) ・・・(13)
YC=YC’×(L/Y14) ・・・(14)
(13)式、及び(14)式に示す演算により、例えば点P4(0,Y14)が点P(0,L)に、点S4(X44,0)が点S(L,0)に移動されるように、変倍描画領域45に含まれる全ての点が、描画領域41に含まれるように移動され、変倍描画領域45は描画領域41に変換される。
21 レーザ描画装置(描画手段)
22 光学ユニット(描画手段)
32 第1CCDカメラ(マーク位置検出手段)
34 第2CCDカメラ(マーク位置検出手段)
40 基板(被描画体)
50 制御装置(データ処理装置・第1〜第3の描画データ補正手段・マーク位置データ生成手段)
M1〜M4 第1〜第4アライメントマーク(マーク)
Claims (10)
- 被描画体における四角形の描画領域の本来の位置と実際の位置とに基づいて、前記被描画体に描画するパターンを示す描画データを補正処理するデータ処理装置であって、
実際の位置における前記描画領域の輪郭を示す四角形を、グラデュアルスケーリング補正により、前記描画領域の二辺を有する平行四辺形に変換する座標変換演算処理、前記平行四辺形を、軸傾き補正により、前記平行四辺形の一辺を有する変倍描画領域となる長方形に変換する座標変換演算処理、そして、前記長方形を、スケーリング補正により、本来の描画領域の輪郭を示す長方形に変換する座標変換演算処理という一連の座標変換演算処理の逆算をすることにより、前記本来の描画領域内の描画データから、実際の描画領域内に対応した補正描画データに変換することを特徴とするデータ処理装置。 - 前記座標変換演算処理が、前記被描画体に設けられた4つのマークの実際の位置によって定められる、前記実際の位置における前記描画領域の輪郭を示す四角形を、前記描画領域の二辺を有する平行四辺形に変換する演算処理であることを特徴とする請求項1に記載のデータ処理装置。
- 前記座標変換演算処理が、前記実際の位置における描画領域の輪郭として平行四辺形でない四角形を、平行四辺形に変換する演算処理であることを特徴とする請求項1に記載のデータ処理装置。
- 請求項1に記載のデータ処理装置と、
前記補正描画データに基づいて、前記パターンを描画する描画手段とを備えることを特徴とする描画装置。 - 前記座標変換演算処理が、前記被描画体に設けられた4つのマークの実際の位置によって定められる、前記実際の位置における前記描画領域の輪郭を示す四角形を、前記描画領域の二辺を有する平行四辺形に変換する演算処理であることを特徴とする請求項4に記載の描画装置。
- 前記マークの実際の位置を検出するマーク位置検出手段をさらに有することを特徴とする請求項5に記載の描画装置。
- 前記マークの実際の位置を示すマーク位置データを生成するマーク位置データ生成手段をさらに有し、
前記マーク位置データに基づいて、前記本来の描画領域内の描画データから、実際の描画領域内に対応した補正描画データに変換することを特徴とする請求項6に記載の描画装置。 - 前記マーク位置データ生成手段が、前記マーク位置検出手段の座標系における前記マークの実際の位置に基づいて、前記描画手段の描画座標系における前記マークの実際の位置を示すマーク位置データを生成することを特徴とする請求項7に記載の描画装置。
- 被描画体における四角形の描画領域の本来の位置と実際の位置とに基づいて、前記被描画体に描画するパターンを示す描画データを補正処理するデータ補正方法であって、
実際の位置における前記描画領域の輪郭を示す四角形を、グラデュアルスケーリング補正により、前記描画領域の二辺を有する平行四辺形に変換する座標変換演算処理、前記平行四辺形を、軸傾き補正により、前記平行四辺形の一辺を有する変倍描画領域となる長方形に変換する座標変換演算処理、そして、前記長方形を、スケーリング補正により、本来の描画領域の輪郭を示す長方形に変換する座標変換演算処理という一連の座標変換演算処理の逆算をすることにより、前記本来の描画領域内の描画データから、実際の描画領域内に対応した補正描画データに変換することを特徴とするデータ補正方法。 - 描画装置を、
被描画体における四角形の描画領域の本来の位置と実際の位置とに基づいて、前記被描画体に描画するパターンを示す描画データを補正処理する描画データ補正手段と、
補正された描画データに基づいて、前記パターンを描画する描画手段として機能させるプログラムであって、
実際の位置における前記描画領域の輪郭を示す四角形を、グラデュアルスケーリング補正により、前記描画領域の二辺を有する平行四辺形に変換する座標変換演算処理、前記平行四辺形を、軸傾き補正により、前記平行四辺形の一辺を有する変倍描画領域となる長方形に変換する座標変換演算処理、そして、前記長方形を、スケーリング補正により、本来の描画領域の輪郭を示す長方形に変換する座標変換演算処理という一連の座標変換演算処理の逆算をすることにより、前記本来の描画領域内の描画データから、実際の描画領域内に対応した補正描画データに変換するように、前記描画データ補正手段として機能させることを特徴とするプログラム。
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