JP2006252772A5 - - Google Patents
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- 基板の上に軟磁性層、中間層、表面に垂直な方向に磁気異方性を有するように配向された記録層をこの順で形成してなる被加工体を作製する被加工体作製工程と、該被加工体をエッチングで加工して前記記録層を所定の凹凸パターンで多数の記録要素に分割し、データ領域において前記記録要素を所定のトラック形状に加工する記録層加工工程と、を含み、該記録層加工工程において、前記記録層に対するエッチングレートよりも前記中間層の厚さ方向の少なくとも一部に対するエッチングレートが低いエッチング法を用いて前記凹凸パターンの凹部を前記中間層の厚さ方向の途中まで形成し、前記記録層を前記基板側の面まで前記凹部で分割するようにしたことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
- 基板の上に中間層、表面に平行な方向に磁気異方性を有するように配向された記録層をこの順で形成してなる被加工体を作製する被加工体作製工程と、該被加工体をエッチングで加工して前記記録層を所定の凹凸パターンで多数の記録要素に分割し、データ領域において前記記録要素を所定のトラック形状に加工する記録層加工工程と、を含み、該記録層加工工程において、前記記録層に対するエッチングレートよりも前記中間層の厚さ方向の少なくとも一部に対するエッチングレートが低いエッチング法を用いて前記凹凸パターンの凹部を前記中間層の厚さ方向の途中まで形成し、前記記録層を前記基板側の面まで前記凹部で分割するようにしたことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
- 請求項１又は２において、
前記被加工体作製工程において前記中間層の厚さ方向の少なくとも一部として、前記記録層の配向性を高める性質を有する配向膜を形成し、該配向膜に接して前記記録層を形成するようにしたことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 請求項１乃至３のいずれかにおいて、
前記被加工体作製工程において、前記中間層を２〜４０ｎｍの厚さに形成するようにしたことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 請求項１乃至４のいずれかにおいて、
前記記録層加工工程の後に、前記凹凸パターンの凹部を非磁性材で充填する非磁性材充填工程と、前記記録要素上の余剰の非磁性材を除去して前記記録要素及び非磁性材の表面を平坦化する平坦化工程と、が設けられたことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
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| JP2006174628A JP2006252772A (ja) | 2006-06-23 | 2006-06-23 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2006174628A JP2006252772A (ja) | 2006-06-23 | 2006-06-23 | 磁気記録媒体の製造方法 |
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| JP2006174628A Pending JP2006252772A (ja) | 2006-06-23 | 2006-06-23 | 磁気記録媒体の製造方法 |
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2006
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